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title: CEATEC 2026 出展のお知らせ｜幕張メッセ ホール5 5H431（10/13〜16）知財・特許相談ブース｜知的財産事務所エボリクス
description: CEATEC 2026（2026年10月13日〜16日・幕張メッセ）に知的財産事務所エボリクスが出展。ブースはホール5・5H431。AI・ソフトウェア・IoTの特許、商標・意匠、FTO調査、海外出願、AI下書き×弁理士チェックを無料相談。会期・入場料・来場登録・アクセス・ブースへの行き方・FAQも掲載。
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[evorix blog](https://www.evorix.jp/blog)

# [CEATEC 2026 出展のお知らせ｜幕張メッセ ホール5 5H431（10/13〜16）知財・特許相談ブース｜知的財産事務所エボリクス](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition)

 作成者: [弁理士 杉浦健文](https://www.evorix.jp/blog/author/takefumi-sugiura)｜2026/10/12

知的財産事務所エボリクス（株式会社EVORIX）は、**2026年10月13日（火）〜16日（金）**に幕張メッセで開催される**CEATEC 2026（シーテック 2026）**に出展します。ブースは**ホール5・一般展示エリアの「5H431」**です。AI・ソフトウェア・IoTからものづくりまで、技術・デザイン・ブランドを守る知財戦略を、技術を理解する弁理士が直接ご案内します。

「この機能は特許にできる？」「他社の権利を侵害していないか不安」「海外展開の前に何を出願すべき？」「生成AIで書いた明細書の下書きをプロに見てほしい」──そんな開発現場の疑問を、ブースでそのままぶつけてください。この記事では、出展の概要、ブースでご紹介する5つのテーマ、お持ち帰りいただける資料、来場・ミーティング予約の方法、そして展示会に関わるすべての方に知っておいてほしい知財の注意点をまとめました。

この記事のポイント

- 会期は2026年10月13日（火）〜16日（金）の4日間、10:00〜17:00。会場は幕張メッセ、EVORIXのブースは**ホール5「5H431」**（一般展示エリア）。
- ブースでは「先端技術の権利化」「技術・デザイン・ブランドの一括保護」「事業化・共創のリスク対策」「海外展開を見据えた出願戦略」「AI下書き×弁理士チェック」の5テーマをご紹介。
- 日本特許出願ガイドブック2026、外国商標出願ガイドブック2026、テック企業の登録特許20件の実例集など、6種類の資料を無料配布。
- 入場は無料ですが全来場者登録制。会期中は幕張会場またはオンラインでの**ミーティング予約**も受け付けています。
- 展示会での技術公開は特許・意匠の「新規性」を失わせる行為。出展前の出願、他社権利のクリアランス、模倣対策の3点は出展者全員に共通する必須チェックです。

目次

1. [CEATEC 2026 出展概要｜会期・会場・ブース番号5H431](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition?hs_amp=true#sec1)
2. [CEATEC 2026のEVORIXブースでご紹介する5つのテーマ](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition?hs_amp=true#sec2)
3. [CEATEC 2026のブースでお持ち帰りいただける6種類の資料](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition?hs_amp=true#sec3)
4. [CEATEC 2026でこんな方はぜひお立ち寄りください](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition?hs_amp=true#sec4)
5. [CEATEC 2026とは｜テーマ「Transformation」と開催規模](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition?hs_amp=true#sec5)
6. [CEATEC 2026の来場登録・アクセス・ミーティング予約](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition?hs_amp=true#sec6)
7. [CEATEC出展者・来場者の知財チェック｜新規性・クリアランス・模倣対策の3ポイント](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition?hs_amp=true#sec7)
8. [CEATEC 2026 よくある質問（FAQ）](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition?hs_amp=true#faq)
9. [まとめ](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition?hs_amp=true#summary)
10. [出典・参考文献](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition?hs_amp=true#sources)

## 1. CEATEC 2026 出展概要｜会期・会場・ブース番号5H431

まずは出展の基本情報です。会場の幕張メッセは、JR京葉線・海浜幕張駅から徒歩5分。EVORIXのブースは、一般展示エリアのホール5にあります。

| 項目 | 内容 |
| --- | --- |
| 展示会名 | CEATEC 2026（シーテック 2026） |
| 会期 | 2026年10月13日（火）〜16日（金）　10:00〜17:00 |
| 会場 | 幕張メッセ（千葉県千葉市美浜区中瀬2-1） |
| 出展者名 | 株式会社EVORIX（知的財産事務所エボリクス） |
| 展示エリア | 一般展示（General Exhibits） |
| ホール・ブース番号 | **ホール5　5H431** |
| 入場料 | 無料（全来場者登録入場制・事前登録が必要） |
| 出展者ページ | [CEATEC公式サイト 株式会社EVORIX 出展者詳細](https://www.ceatec.com/nj/exhibitor_detail_ja?id=305) |

ブースのコンセプト「その技術を、事業の強みに。」

AI・ソフトウェア・IoTからものづくりまで、技術・デザイン・ブランドを守る知財戦略をご紹介します。特許・商標・意匠・ノウハウを組み合わせ、事業化・共創・海外展開を支援。「特許にできる？」「他社の権利は大丈夫？」など、開発現場の疑問を弁理士にご相談ください。AI下書きのチェックサービスもご案内します。

## 2. CEATEC 2026のEVORIXブースでご紹介する5つのテーマ

知的財産事務所エボリクスは、スタートアップから中小企業・製造業まで、技術と事業を理解した弁理士が知財戦略をワンストップで支援する事務所です。CEATEC 2026のブースでは、次の5つのテーマを軸にご相談をお受けします。

### ① 先端技術の権利化｜AI・生成AI・ソフトウェア・SaaS・IoT

AI・生成AI・ソフトウェア・SaaS・IoTなどの発明を整理し、事業を見据えた特許出願を支援します。「学習データ・モデル・プロンプト・出力のどのレイヤーを権利化するか」「UIの動きは画像意匠で守れるか」といった、テック企業特有の論点を得意としています。詳しくは[特許出願サービス](https://www.evorix.jp/patent-service)と[IT・ソフトウェア知財ポータル](https://www.evorix.jp/it-ip-portal)をご覧ください。関連記事として[AIサービスの特許出願チェックリスト](https://www.evorix.jp/blog/ai-service-patent-checklist-benrishi)も公開しています。

### ② 技術・デザイン・ブランドをまとめて保護

特許・商標・意匠・著作権・営業秘密を組み合わせ、製品・サービスに合う保護方法を提案します。たとえば「アルゴリズムは特許、画面は画像意匠、サービス名は商標、ソースコードは著作権と営業秘密」というように、1つのプロダクトを複数の権利で多層的に守る設計です。[商標登録サービス](https://www.evorix.jp/trademark-service)・[意匠登録サービス](https://www.evorix.jp/design-service)・[著作権サービス](https://www.evorix.jp/copyright-service)・[不正競争防止法対応](https://www.evorix.jp/unfair-competition)を一つの窓口でご相談いただけます。

### ③ 事業化・共創のリスク対策｜FTO調査・NDA・共同開発

CEATECのテーマは「共創」です。他社との共同開発や提携が進むほど、「他社の特許を侵害していないか」「共同開発で生まれた発明は誰のものか」「NDAで何を守るか」という論点が重要になります。先行技術調査や侵害予防調査（FTO調査）、NDA・共同開発契約に関する知財の整理を通じて、開発・提携時の判断を支援します。FTO調査の進め方は[FTO調査とは？特許侵害を予防する進め方と実施時期](https://www.evorix.jp/blog/%E4%BB%96%E7%A4%BE%E3%81%AE%E7%89%B9%E8%A8%B1%E3%82%92%E4%BE%B5%E5%AE%B3%E3%81%97%E3%81%A6%E3%82%8B%E3%81%8B%E3%82%82%E3%82%A2%E3%83%97%E3%83%AA%E3%83%AA%E3%83%AA%E3%83%BC%E3%82%B9%E5%89%8D%E3%81%AB%E3%82%84%E3%82%8B%E3%81%B9%E3%81%8D-%E4%BE%B5%E5%AE%B3%E4%BA%88%E9%98%B2%E8%AA%BF%E6%9F%BBfto-%E5%AE%8C%E5%85%A8%E3%82%AC%E3%82%A4%E3%83%89)で解説しています。

### ④ 海外展開を見据えた出願戦略｜PCT・マドプロ・ハーグ・補助金

CEATEC 2026には31か国・地域から194社・団体の海外出展者が集まります。海外の企業と出会う場だからこそ、「どの国に、どの順番で、いくらで出願するか」を事前に設計しておくことが重要です。[PCT国際特許出願](https://www.evorix.jp/pct)・[マドリッド制度による国際商標出願](https://www.evorix.jp/madrid-protocol-trademark)・[ハーグ制度による意匠国際出願](https://www.evorix.jp/hague-design-application)の活用と、[外国出願補助金](https://www.evorix.jp/inpit-foreign-filing-subsidy)の申請までサポートします。各国の制度は[国際知財ハブ](https://www.evorix.jp/international)にまとめています。

### ⑤ AI下書き×弁理士チェック

生成AIで作成した発明提案書・特許明細書の下書きを、弁理士が確認・修正し、出願に向けて整えるサービスです。「AIに書かせてみたが、このまま出願して大丈夫か分からない」という声が急増しています。AIの下書きは構成が整っていても、請求項の範囲が狭すぎたり、サポート要件を満たさなかったり、先行技術との差が説明できていなかったりすることが少なくありません。ブースでは、どこをチェックし、どう直すかを実例ベースでご説明します。

**構想段階から権利化・活用まで：**知的財産事務所エボリクスは、アイデアの段階から出願・権利化、ライセンス・侵害対応といった活用の場面まで、事業の成長に合わせて伴走します。[スタートアップ向けサービス](https://www.evorix.jp/startup)・[製造業向けサービス](https://www.evorix.jp/manufacturing)もご覧ください。

## 3. CEATEC 2026のブースでお持ち帰りいただける6種類の資料

ブースでは、弁理士が執筆した以下の資料を無料でお渡しします。CEATEC公式の出展者ページからもダウンロードいただけます。

| 資料名 | 内容・こんな方に |
| --- | --- |
| **日本特許出願ガイドブック2026** | 出願の流れ・費用と減免・審査の通し方・ソフトウェア／AI特許・失敗事例・チェックリスト。「公開の前に出す」「審査請求の3年」「査定後30日の分割判断」など期限と判断の連続を1冊に。 |
| **外国商標出願ガイドブック2026** | 主要10か国・地域の制度比較／マドプロの使い方／出願前チェックリスト／失敗事例集。商標は国ごとの「早い者勝ち」。海外展開の前に押さえるべきポイントを整理。 |
| **テック企業の特許、その中身。** | SaaS・AI・IoT・フィンテック・ゲームの登録特許20件から学ぶ「権利化の型」。実在の登録特許を、請求項1の骨子・権利化の理由・自社に当てはめる問いの3点で読み解く実例集。 |
| **新商品・新サービスのための知財チェックリスト** | 発売前・発売中・発売後の3段階で、技術・デザイン・ブランドを守り、模倣と紛争を防ぐための確認項目。 |
| **展示会出展企業のための知財チェックリスト** | 展示会は「技術流出・模倣の起点」になりやすい場所。出展前の事前出願、他社権利のクリアランス、模倣対策の3点を確認。CEATEC出展者の皆さまにこそ読んでいただきたい1枚です。 |
| **EVORIXパンフレット** | IT・AI・ソフトウェアの特許から商標・意匠・海外出願まで、事務所のサービス全体像。 |

## 4. CEATEC 2026でこんな方はぜひお立ち寄りください

知財の相談というと「特許を出すと決めてから行くもの」と思われがちですが、実際には**決める前の段階**でご相談いただくほうが、選択肢が多く、費用も抑えられます。次のような方は、ぜひブースにお立ち寄りください。

- **新規事業・新サービスを準備中の方**：「うちのサービスは特許になるのか」を、登録特許の実例と照らしてその場でお答えします。
- **AI・SaaS・IoT製品を開発中のエンジニア・プロダクトマネージャー**：アルゴリズム・データ・UIのどこを権利化すべきか、構成図を見ながら整理します。
- **CEATECで他社と共創・提携を検討している方**：NDA・共同開発契約で押さえるべき知財条項、FTO調査の要否をご説明します。
- **海外の来場者・企業との商談を予定している方**：商談前に海外出願や商標の先取り対策が必要かどうか、国別にアドバイスします。
- **生成AIで特許の下書きを作ってみた方**：下書きを持参いただければ、弁理士の視点でどこを直すべきかをお伝えします（機密保持には配慮します）。
- **今回CEATECに出展している企業の方**：出展技術の公開と新規性の関係、会期中の模倣・写真撮影への対応など、展示会特有の知財リスクをご相談ください。

**ご相談の際のお願い：**ブースは多くの方が行き交う場所です。発明の核心やまだ公開していない技術の詳細は、ブースでの立ち話ではなく、個室またはオンラインでのミーティング（第6章）でお聞かせください。公開していない技術を不特定の人に話すこと自体が、新規性に影響することがあります。

## 5. CEATEC 2026とは｜テーマ「Transformation」と開催規模

CEATECは2000年に第1回が開催され、デジタル家電見本市として発展したのち、2016年に「脱・家電見本市」を宣言してSociety 5.0の実現を掲げる「CPS/IoT」と「共創」によるデジタルイノベーションの総合展へと転換しました。2024年からは**Japan Mobility Show Bizweek**と併催され、2026年はその2回目です。主催は一般社団法人電子情報技術産業協会（JEITA）、共催は情報通信ネットワーク産業協会（CIAJ）とソフトウェア協会（SAJ）です。

第27回となる今回のテーマは**「Transformation －企業が、産業が、そして社会が変わる－」**。優れた技術や構想を披露する場にとどまらず、「変革の価値を高め、社会実装を加速させる場」として開催されます。主催者発表（2026年10月6日）による開催規模は次のとおりです。

| 項目 | CEATEC 2026 | CEATEC 2025（実績） |
| --- | --- | --- |
| 出展者数 | **821社・団体**（うち新規出展338社・団体、新規出展率41％） | 810社・団体 |
| スタートアップ・大学研究機関 | **246社・団体**（2014年以降で過去最多） | 232社・団体 |
| 海外出展者 | **31か国・地域から194社・団体** | 29か国・地域から156社・団体 |
| コンファレンス | 229セッション（ピッチイベント等を含む） | ― |
| 来場者見込み | 4日間で11万人超 | ― |

展示エリアは「一般展示」「X（Transformation）パーク」「ネクストジェネレーションパーク」「グローバルパーク」の4つ。スタートアップ・大学研究機関の出展が過去最多となり、海外出展者も大幅に増えています。つまり、**まだ権利化していない技術を抱えた企業と、海外のプレイヤーが同じ会場に集まる**のが今年のCEATECです。知財の観点では、出会いのチャンスであると同時に、技術流出・先取り出願のリスクが最も高まる4日間でもあります。

## 6. CEATEC 2026の来場登録・アクセス・ミーティング予約

### 来場登録（無料・事前登録制）

入場は無料ですが、全来場者登録入場制です。CEATEC公式サイトの来場事前登録ページから登録すると、入場証（PDF）またはQRコードが発行されます。入場証を印刷して持参するか、QRコードを会場内のピックアップカウンターで提示して来場者バッジを発行してもらいます。1回の登録で会期4日間すべて入場でき、会期中の当日登録もWeb経由で可能です。コンファレンスの聴講は来場登録とは別に事前予約が必要です。

来場事前登録：[CEATEC 2026 来場登録ページ](https://www.ceatec.com/ja/about/registration.html)

### アクセス

- **電車**：JR京葉線「海浜幕張駅」から徒歩5分。JR総武線・京成線「幕張本郷駅」からはバス15分。
- **バス**：会期中は東京駅・横浜駅などから臨時の直通バスが運行されます。空港からの高速バスも一部「幕張メッセ中央」まで直通です。
- **車**：東関東自動車道「湾岸習志野IC」「湾岸千葉IC」、京葉道路「幕張IC」から約5分。

### ホール5・ブース5H431への行き方

CEATEC 2026の展示会場は幕張メッセ国際展示場の**ホール4〜8**です。EVORIXのブース**5H431**は**ホール5**の一般展示エリアにあり、ホール5の中でもホール6寄りの区画（5H430〜5H440のブロック）に位置します。ホール5には主催者パビリオン「暮らしのDXパビリオン」（5H314）やXステージもあるため、Xパーク・Xステージを目印にお越しいただくと分かりやすいです。会場マップは[CEATEC公式サイトの会場マップ](https://www.ceatec.com/ja/exhibition/map.html)でご確認ください。

### ミーティング予約（幕張会場・オンライン）

CEATEC公式の出展者ページから、**幕張会場での対面ミーティング**または**オンラインミーティング**を予約できます。「ブースで立ち話をするには内容が込み入っている」「まだ公開していない技術について相談したい」という方は、ミーティング予約をご利用ください。会期中に会場へ来られない方も、オンラインで弁理士にご相談いただけます。

ミーティング予約・お問い合わせ先

CEATEC公式 出展者ページ：[株式会社EVORIX 出展者詳細（ミーティング予約は「受付日程をみる」から）](https://www.ceatec.com/nj/exhibitor_detail_ja?id=305)  
電話：06-7777-1884  
Web：[お問い合わせフォーム](https://www.evorix.jp/inquiry)（会期前後のご相談もこちらから）

## 7. CEATEC出展者・来場者の知財チェック｜新規性・クリアランス・模倣対策の3ポイント

最後に、宣伝だけで終わらせないために、CEATECに出展・来場される方全員に知っておいていただきたい知財の基本を3点にまとめます。弊所が配布する「展示会出展企業のための知財チェックリスト」の要点でもあります。

### ポイント1：展示会での公開は「新規性の喪失」にあたる

特許・意匠は「新しいこと（新規性）」が登録の条件です。展示会のブースで製品を見せる、デモをする、パンフレットを配る──これらはいずれも特許法・意匠法上の「公然知られた」状態にあたり、原則として、その後に出願しても新規性がないとして拒絶されます。日本には新規性喪失の例外（特許法30条・意匠法4条）があり、公開から1年以内に所定の手続をとれば救済されますが、これはあくまで「救済」であって標準ルートではありません。しかも、**海外には同様の救済がない国や、救済の範囲が狭い国があり**、日本で例外の適用を受けても外国での権利化ができなくなることがあります。

**原則：**出展する技術・デザインは、出展前に出願しておく。すでに公開してしまった場合は、公開日から1年以内に、例外規定の適用手続を伴う出願を急ぐ。手続の詳細は[発明の新規性喪失の例外規定の適用を受けるための手続](https://www.evorix.jp/blog/-%E5%BC%81%E7%90%86%E5%A3%AB%E3%81%8C%E8%A7%A3%E8%AA%AC-%E7%99%BA%E6%98%8E%E3%81%AE%E6%96%B0%E8%A6%8F%E6%80%A7%E5%96%AA%E5%A4%B1%E3%81%AE%E4%BE%8B%E5%A4%96%E8%A6%8F%E5%AE%9A%E3%81%AE%E9%81%A9%E7%94%A8%E3%82%92%E5%8F%97%E3%81%91%E3%82%8B%E3%81%9F%E3%82%81%E3%81%AE%E6%89%8B%E7%B6%9A%E3%81%A8%E3%81%AF%E5%85%AC%E9%96%8B%E5%BE%8C%E3%81%A7%E3%82%82%E7%89%B9%E8%A8%B1%E3%82%92%E5%8F%96%E3%82%8B%E6%96%B9%E6%B3%95%E3%81%A8%E6%B3%A8%E6%84%8F%E7%82%B9)と[意匠の新規性喪失の例外](https://www.evorix.jp/blog/-%E5%BC%81%E7%90%86%E5%A3%AB%E3%81%8C%E8%A7%A3%E8%AA%AC-%E6%84%8F%E5%8C%A0%E3%81%AE%E6%96%B0%E8%A6%8F%E6%80%A7%E5%96%AA%E5%A4%B1%E3%81%AE%E4%BE%8B%E5%A4%96%E3%81%A8%E3%81%AF%E9%81%A9%E7%94%A8%E6%89%8B%E7%B6%9A%E3%81%A8%E4%BB%A4%E5%92%8C6%E5%B9%B4%E6%94%B9%E6%AD%A3%E3%82%92%E7%B6%B2%E7%BE%85)で解説しています。

### ポイント2：他社権利のクリアランス確認

展示会は、競合他社の知財担当者も来場する場所です。出展した製品が他社の特許・意匠・商標に抵触していれば、会期中に警告を受けたり、最悪の場合は展示の中止を求められたりすることがあります。海外の展示会では、会場内で差止めの執行が行われた例もあります。出展前に、出展製品について先行技術調査・侵害予防調査（FTO調査）を行い、製品名・サービス名については商標調査を済ませておくことをおすすめします。特に新しいサービス名やブランド名をCEATECで初披露する場合は、**披露の前に商標出願**をしておくと、他社による先取り出願のリスクを下げられます。

### ポイント3：模倣対策と証拠収集の体制

展示会は「技術流出・模倣の起点」になりやすい場所です。ブースでの写真撮影・動画撮影のルールを決めておく、配布資料に記載する技術情報の深さを事前に決めておく、名刺交換した相手と商談に進む前にNDAを結ぶ、といった運用上の対策が有効です。また、会期中に自社製品に似た製品を他社ブースで見つけた場合に備え、撮影・記録・資料入手の手順を決めておくと、後日の権利行使や異議申立ての証拠として役立ちます。海外展示会でのより詳しい対策は、[ハノーバーメッセ出展で失敗しない知的財産戦略](https://www.evorix.jp/blog/hannover-messe-ip-strategy)でも解説しています。

| タイミング | 確認すること |
| --- | --- |
| **出展前** | 出展技術・デザインの出願／製品名・サービス名の商標調査と出願／他社権利のクリアランス（FTO調査）／配布資料に載せる技術情報の範囲の決定／撮影ルール・NDA雛形の準備 |
| **会期中** | 未公開技術は立ち話で話さない／商談相手との情報交換はNDA前提で／類似品を見つけたら撮影・記録・資料入手／警告を受けたら即座に弁理士へ連絡 |
| **会期後** | 公開してしまった技術があれば1年以内に例外規定付きで出願／商談が進む国への海外出願の検討（PCT・マドプロ・ハーグ）／外国出願補助金の申請スケジュール確認 |

## 8. CEATEC 2026 よくある質問（FAQ）

CEATEC 2026の来場とEVORIXブースについて、よくいただく質問をまとめました。

Q. CEATEC 2026の会期と開催時間は？

A. 2026年10月13日（火）から16日（金）までの4日間、各日10:00〜17:00です。会場は千葉県の幕張メッセ（千葉市美浜区中瀬2-1）です。

Q. CEATEC 2026の入場料はいくらですか？

A. 入場は無料です。ただし全来場者登録入場制のため、CEATEC公式サイトでの来場事前登録が必要です。登録後に発行される入場証またはQRコードで、会期4日間すべて入場できます。

Q. EVORIX（知的財産事務所エボリクス）のブースはどこにありますか？

A. ホール5の一般展示エリア、ブース番号5H431です。ホール5の中ではホール6寄りの区画にあります。CEATEC公式サイトの出展者ページからブース位置とミーティング予約を確認できます。

Q. ブースでの相談は予約が必要ですか？費用はかかりますか？

A. 予約なしでもブースでご相談いただけます。相談は無料です。未公開の技術など込み入った内容は、CEATEC公式の出展者ページから幕張会場での対面またはオンラインのミーティングをご予約ください。

Q. CEATECに出展する技術を展示すると、特許は取れなくなりますか？

A. 原則として、展示会で公開した発明・デザインは新規性を失い、その後の出願は拒絶されます。日本では公開から1年以内に新規性喪失の例外規定の適用を受ける手続をとれば救済されますが、海外では救済がない国もあります。出展前の出願をおすすめします。

Q. 会場に行けない場合も相談できますか？

A. はい。CEATEC公式の出展者ページからオンラインミーティングを予約いただけます。会期前後のご相談は、当事務所のお問い合わせフォームまたは電話（06-7777-1884）でも受け付けています。

## まとめ

知的財産事務所エボリクス（株式会社EVORIX）は、2026年10月13日（火）〜16日（金）の4日間、幕張メッセで開催されるCEATEC 2026に出展します。ブースは**ホール5・5H431**（一般展示エリア）。「その技術を、事業の強みに。」をコンセプトに、先端技術の権利化、技術・デザイン・ブランドの一括保護、事業化・共創のリスク対策、海外展開を見据えた出願戦略、AI下書き×弁理士チェックの5テーマで、技術を理解する弁理士が開発現場の疑問に直接お答えします。

821社・団体が集まり、スタートアップ・大学研究機関の出展が過去最多、海外出展者も31か国・地域から194社・団体にのぼる今年のCEATECは、共創と出会いの場であると同時に、知財の観点では技術流出・先取り出願のリスクが最も高まる4日間です。出展前の出願、他社権利のクリアランス、模倣対策の3点をぜひ確認したうえで、会場でお会いしましょう。皆さまのご来場を心よりお待ちしています。

### CEATEC 2026 ホール5・5H431でお待ちしています

「特許にできる？」「他社の権利は大丈夫？」「海外展開の前に何をすべき？」「AIで書いた明細書を見てほしい」──開発現場の疑問を、技術を理解する弁理士にそのままぶつけてください。会場に来られない方は、オンラインミーティングまたはお問い合わせフォームからご相談いただけます。初回相談は無料です。

[CEATEC公式 出展者ページ（ミーティング予約）](https://www.ceatec.com/nj/exhibitor_detail_ja?id=305)

[無料相談を申し込む](https://www.evorix.jp/inquiry)

## 出典・参考文献

本記事は、以下の資料を基に作成しています（いずれも2026年10月閲覧）。各項目に、本文のどの記述の根拠としたかを付記しています。

### 主催者・公式サイトの資料

1. **CEATEC 2026 開催概要（CEATEC運営事務局）**／会期・会場・入場制度・主催／共催・併催イベント・開催テーマ（第1章・第5章）の根拠。  
   [https://www.ceatec.com/ja/about/](https://www.ceatec.com/ja/about/)
2. **プレスリリース「CEATEC 2026、幕張メッセにて10月13日開幕 今年のテーマは「Transformation」、国内外より821社/団体が出展」（JEITA、2026年10月6日）**／出展者数・新規出展者数・スタートアップ出展数・海外出展者数・コンファレンス数・来場者見込み・CEATECの沿革（第5章）の根拠。  
   [https://www.ceatec.com/ja/news/detail.php?id=26](https://www.ceatec.com/ja/news/detail.php?id=26)
3. **CEATEC 2026 出展者詳細「株式会社EVORIX」（CEATEC公式サイト）**／ブース番号・展示エリア・見どころ・アピールポイント・配布資料・ミーティング予約（第1〜3章・第6章）の根拠。  
   [https://www.ceatec.com/nj/exhibitor\_detail\_ja?id=305](https://www.ceatec.com/nj/exhibitor_detail_ja?id=305)
4. **CEATEC 2026 来場登録ページ（CEATEC運営事務局）**／来場事前登録の方法・入場証とQRコード・当日登録・コンファレンス予約（第6章）の根拠。  
   [https://www.ceatec.com/ja/about/registration.html](https://www.ceatec.com/ja/about/registration.html)
5. **CEATEC 2026 会場マップ（CEATEC運営事務局）**／使用ホール（4〜8）とブース5H431の位置（第6章・FAQ）の根拠。  
   [https://www.ceatec.com/ja/exhibition/map.html](https://www.ceatec.com/ja/exhibition/map.html)
6. **CEATEC 2026 アクセス（CEATEC運営事務局）**／最寄駅・バス・車でのアクセス（第6章）の根拠。  
   [https://www.ceatec.com/ja/access/](https://www.ceatec.com/ja/access/)

### 法令・公的機関の資料

1. **特許法第29条・第30条、意匠法第3条・第4条（e-Gov法令検索）**／新規性の要件と新規性喪失の例外（公開から1年以内）（第7章ポイント1）の根拠。  
   [https://laws.e-gov.go.jp/law/334AC0000000121](https://laws.e-gov.go.jp/law/334AC0000000121)
2. **「発明の新規性喪失の例外規定の適用を受けるための出願人の手引き」（特許庁）**／例外規定の適用手続と、外国では救済が受けられない場合がある旨の注意（第7章ポイント1）の根拠。  
   [https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/hatumei\_reigai.html](https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/hatumei_reigai.html)

※本記事は上記の資料を基に、2026年10月時点の情報で一般的な情報提供を目的として作成しています。CEATEC 2026の開催内容・来場登録の方法は主催者の判断で変更されることがあります。知財の個別案件の具体的判断には、専門家へのご相談を推奨します。

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