---
title: Teilnahme an Messen und Veranstaltungen | CEATEC, STARTUP JAPAN EXPO usw. | Kanzlei für geistiges Eigentum EVORIX
description: Übersicht über die Teilnahme an Messen und Veranstaltungen der Kanzlei für geistiges Eigentum EVORIX (EVORIX Co., Ltd.). Wir stellen Ihnen unsere Teilnahme an der CEATEC 2026 (Makuhari Messe), der STARTUP JAPAN EXPO 2025 in Osaka und der „New Business Week 2026“ [Osaka] sowie unsere Vorträge bei Sem
---

[Zu Content springen](https://www.evorix.jp/de/exhibitions#main-content)

- [Deutsch](https://www.evorix.jp/de/exhibitions)
- [Chinese (Chinesisch)](https://www.evorix.jp/zh/exhibitions)
- [English (Englisch)](https://www.evorix.jp/en/exhibitions)
- [Español (Spanisch)](https://www.evorix.jp/es/exhibitions)
- [Français (Französisch)](https://www.evorix.jp/fr/exhibitions)
- [Italiano (Italienisch)](https://www.evorix.jp/it/exhibitions)
- [Português (Portugiesisch)](https://www.evorix.jp/pt/exhibitions)
- [한국어 (Koreanisch)](https://www.evorix.jp/ko/exhibitions)
- [中文 - 繁體 (Chinesisch – traditionell)](https://www.evorix.jp/zh-tw/exhibitions)
- [日本語 - 日本 (Japanisch - Japan)](https://www.evorix.jp/exhibitions)

Deutsch

Untermenü für Übersetzungen anzeigen

[![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png)](https://www.evorix.jp/)

- [Leistungen](https://www.evorix.jp/de/contents)
  
  Untermenü für Leistungen anzeigen 
  
    - [Patentanmeldung](https://www.evorix.jp/de/contents)
    - [Markenanmeldung](https://www.evorix.jp/de/contents)
    - [Designschutz](https://www.evorix.jp/de/contents)
    - [Urheberrecht](https://www.evorix.jp/de/copyright-service)
    - [Wettbewerbsrecht](https://www.evorix.jp/de/unfair-competition)
    - [Beratender Patentanwalt](https://www.evorix.jp/de/komon)
- [Internationale Anmeldungen](https://www.evorix.jp/de/international)
  
  Untermenü für Internationale Anmeldungen anzeigen 
  
    - [PCT-Anmeldung](https://www.evorix.jp/de/pct)
    - [Madrider Protokoll](https://www.evorix.jp/de/madrid-protokoll-marke)
    - [Haager Abkommen (Design)](https://www.evorix.jp/de/haager-abkommen-design)
    - [Weltweite Patentsysteme](https://www.evorix.jp/de/international)
    - [Weltweite Markensysteme](https://www.evorix.jp/de/international)
    - [Weltweite Designsysteme](https://www.evorix.jp/de/international)
- [Branchenlösungen](https://www.evorix.jp/de/industries)
  
  Untermenü für Branchenlösungen anzeigen 
  
    - [Für Startups](https://www.evorix.jp/de/startup)
    - [Für Industrie](https://www.evorix.jp/de/manufacturing)
- [Über uns](https://www.evorix.jp/de/about)
  
  Untermenü für Über uns anzeigen 
  
    - [Über die Kanzlei](https://www.evorix.jp/de/about)
    - [Unser Patentanwalt](https://www.evorix.jp/de/staff)
    - [Standorte](https://www.evorix.jp/de/access)
    - [Referenzen](https://www.evorix.jp/de/results)
    - [Messen & Events](https://www.evorix.jp/de/exhibitions)
    - [Seminare & Vorträge](https://www.evorix.jp/de/seminar)
    - [Karriere](https://www.evorix.jp/de/recruit)
    - [Beratungsablauf](https://www.evorix.jp/de/consultation)
- [Ressourcen](https://www.evorix.jp/de/blog)
  
  Untermenü für Ressourcen anzeigen 
  
    - [Blog](https://www.evorix.jp/de/blog)
    - [FAQ](https://www.evorix.jp/de/faq)
    - [IP-Glossar](https://www.evorix.jp/de/glossary)
    - [Auslandsanmeldungs-Zuschuss](https://www.evorix.jp/de/inpit-foreign-filing-subsidy)
- [Kontakt](https://www.evorix.jp/de/inquiry)

Hauptnavigation öffnen

Hauptnavigation schließen

- [Leistungen](https://www.evorix.jp/de/contents)
  
  Untermenü für Leistungen anzeigen 
  
    - [Patentanmeldung](https://www.evorix.jp/de/contents)
    - [Markenanmeldung](https://www.evorix.jp/de/contents)
    - [Designschutz](https://www.evorix.jp/de/contents)
    - [Urheberrecht](https://www.evorix.jp/de/copyright-service)
    - [Wettbewerbsrecht](https://www.evorix.jp/de/unfair-competition)
    - [Beratender Patentanwalt](https://www.evorix.jp/de/komon)
- [Internationale Anmeldungen](https://www.evorix.jp/de/international)
  
  Untermenü für Internationale Anmeldungen anzeigen 
  
    - [PCT-Anmeldung](https://www.evorix.jp/de/pct)
    - [Madrider Protokoll](https://www.evorix.jp/de/madrid-protokoll-marke)
    - [Haager Abkommen (Design)](https://www.evorix.jp/de/haager-abkommen-design)
    - [Weltweite Patentsysteme](https://www.evorix.jp/de/international)
    - [Weltweite Markensysteme](https://www.evorix.jp/de/international)
    - [Weltweite Designsysteme](https://www.evorix.jp/de/international)
- [Branchenlösungen](https://www.evorix.jp/de/industries)
  
  Untermenü für Branchenlösungen anzeigen 
  
    - [Für Startups](https://www.evorix.jp/de/startup)
    - [Für Industrie](https://www.evorix.jp/de/manufacturing)
- [Über uns](https://www.evorix.jp/de/about)
  
  Untermenü für Über uns anzeigen 
  
    - [Über die Kanzlei](https://www.evorix.jp/de/about)
    - [Unser Patentanwalt](https://www.evorix.jp/de/staff)
    - [Standorte](https://www.evorix.jp/de/access)
    - [Referenzen](https://www.evorix.jp/de/results)
    - [Messen & Events](https://www.evorix.jp/de/exhibitions)
    - [Seminare & Vorträge](https://www.evorix.jp/de/seminar)
    - [Karriere](https://www.evorix.jp/de/recruit)
    - [Beratungsablauf](https://www.evorix.jp/de/consultation)
- [Ressourcen](https://www.evorix.jp/de/blog)
  
  Untermenü für Ressourcen anzeigen 
  
    - [Blog](https://www.evorix.jp/de/blog)
    - [FAQ](https://www.evorix.jp/de/faq)
    - [IP-Glossar](https://www.evorix.jp/de/glossary)
    - [Auslandsanmeldungs-Zuschuss](https://www.evorix.jp/de/inpit-foreign-filing-subsidy)
- [Kontakt](https://www.evorix.jp/de/inquiry)
- - [Deutsch](https://www.evorix.jp/de/exhibitions)
    - [Chinese (Chinesisch)](https://www.evorix.jp/zh/exhibitions)
    - [English (Englisch)](https://www.evorix.jp/en/exhibitions)
    - [Español (Spanisch)](https://www.evorix.jp/es/exhibitions)
    - [Français (Französisch)](https://www.evorix.jp/fr/exhibitions)
    - [Italiano (Italienisch)](https://www.evorix.jp/it/exhibitions)
    - [Português (Portugiesisch)](https://www.evorix.jp/pt/exhibitions)
    - [한국어 (Koreanisch)](https://www.evorix.jp/ko/exhibitions)
    - [中文 - 繁體 (Chinesisch – traditionell)](https://www.evorix.jp/zh-tw/exhibitions)
    - [日本語 - 日本 (Japanisch - Japan)](https://www.evorix.jp/exhibitions)

  Deutsch
  
  Untermenü für Übersetzungen anzeigen
- [Kontakt](https://www.evorix.jp/de/inquiry)

[Kontakt](https://www.evorix.jp/de/inquiry)

# Teilnahme an Messen und Veranstaltungen

Wir nehmen an Messen im In- und Ausland teil und entwickeln Strategien zum Schutz von Technologie, Design und Marken, die wir direkt in die Praxis umsetzen.

Die Kanzlei für geistiges Eigentum EVORIX (EVORIX Co., Ltd.) nimmt an Messen teil, auf denen Start-ups, Unternehmen aus der Fertigungsindustrie und IT-Unternehmen vertreten sind, und bietet dort durch kostenlose Beratungen am Stand sowie Vorträge im Rahmen von Seminaren praktische Informationen zum Thema geistiges Eigentum an. Mit den Unternehmen, die wir auf diesen Messen kennenlernen, arbeiten wir kontinuierlich zusammen – von der Anmeldung bis zur Verwertung der Rechte.

## Geplante Teilnahme

2026

18\. November (Mittwoch) bis 20. November (Freitag)

AusstellungVortrag bei einem Seminar

### Woche der neuen Geschäftsfelder 2026 \[Osaka\]

Intex Osaka, Halle 6 (Veranstalter: RX Japan LLC)

Neben unserer Präsenz am Messestand werden wir am Mittwoch, dem 18. November, ab 13:00 Uhr an dem Seminar „Wird Ihr neues Geschäftsfeld nachgeahmt? Wettbewerbsvorteile durch Strategien zum Schutz geistigen Eigentums (Patente, Marken, Geschmacksmuster, Know-how, geistiges Eigentum im Ausland usw.)“ teilnehmen. Wenn Sie für neue Geschäftsfelder oder offene Innovation zuständig sind, schauen Sie doch bitte an unserem Stand vorbei.

[Offizielle Website →](https://www.mgmt-expo.jp/osaka/ja-jp.html)

## Ausstellungsbilanz

2026

13\. Oktober (Dienstag) bis 16. Oktober (Freitag)

Ausstellung

### CEATEC 2026 (CEATEC 2026)

Makuhari Messe, Halle 5, Stand 5H431 (Veranstalter: Verband der Elektronik- und Informationstechnologieindustrie)

Unter dem Motto „Machen Sie diese Technologie zu einer Stärke Ihres Unternehmens“ stellten wir fünf Themen vor: die Sicherung von Rechten an Spitzentechnologien, den umfassenden Schutz von Technologie, Design und Marke, Maßnahmen zur Risikominimierung bei der Kommerzialisierung und gemeinsamen Entwicklung sowie Anmeldestrategien mit Blick auf die internationale Expansion und den Einsatz von KI-Entwürfen in Verbindung mit der Überprüfung durch Patentanwälte. Wir verteilten sechs verschiedene Publikationen, darunter den „Leitfaden für japanische Patentanmeldungen 2026“ und den „Leitfaden für ausländische Markenanmeldungen 2026“, und erhielten an dem Veranstaltungsort, der an vier Tagen von über 110.000 Besuchern frequentiert wurde, zahlreiche Anfragen von Entwicklungsmitarbeitern aus den Bereichen KI, IoT und Fertigung.

[Informationen zur Ausstellung lesen →](https://www.evorix.jp/de/blog/ceatec-2026-exhibition)

2025

17\. Dezember (Mittwoch) und 18. Dezember (Donnerstag)

Ausstellung

### STARTUP JAPAN EXPO 2025 in Osaka

MyDome Osaka (Veranstalter: Sansan Co., Ltd.)

Wir waren unter dem Motto „Patente, Marken und kostenlose Beratung“ als Aussteller vertreten. Da die Veranstaltung gleichzeitig mit der „Manufacturing AI & DX EXPO“ und der „Logistics & SCM Transformation Tech EXPO“ stattfand, erhielten wir zahlreiche konkrete Anfragen von Start-up-Geschäftsführern und Verantwortlichen aus der Region Kansai, beispielsweise zu Themen wie „Wann sollte man eine Marke für einen neuen Dienst anmelden?“, „Wie schützt man die eigene Technologie durch Patente?“ und „Intellektuelle-Eigentums-Strategien im Hinblick auf eine Expansion ins Ausland“.

[Ausstellungsbericht lesen →](https://www.evorix.jp/de/blog/-%E5%87%BA%E5%B1%95%E5%A0%B1%E5%91%8A-startup-japan-expo-2025-in-%E5%A4%A7%E9%98%AA%E9%96%A2%E8%A5%BF%E3%82%B9%E3%82%BF%E3%83%BC%E3%83%88%E3%82%A2%E3%83%83%E3%83%97%E3%81%AE%E7%86%B1%E6%B0%97%E3%81%AB%E8%A7%A6%E3%82%8C%E3%81%9F2%E6%97%A5%E9%96%93)

## Besuch einer Messe im Ausland

2026

21\. April (Dienstag) bis 24. April (Freitag)

Besichtigung

### HANNOVER MESSE 2026 (Hannover Messe)

Internationale Messe Hannover, Deutschland

Wir haben eine der weltweit größten Messen für Industrietechnologie vor Ort besucht und uns über die neuesten technologischen Trends wie Industrie 4.0, KI und Wasserstoff sowie über die Maßnahmen der ausstellenden Unternehmen zum Schutz ihres geistigen Eigentums auf dem europäischen Markt (Risiken durch Verlust der Neuheit, Nachahmung und Verletzung von Patenten anderer Unternehmen) informiert. Die Erkenntnisse aus dieser Besichtigung nutzen wir, um unseren Kunden, die an internationalen Messen teilnehmen, im Vorfeld strategische Beratung zum Thema geistiges Eigentum zu bieten.

[Verwandte Artikel lesen →](https://www.evorix.jp/de/blog/hannover-messe-ip-strategy)

## An alle Aussteller und Besucher der Messe | 3 Punkte zur Überprüfung des geistigen Eigentums vor der Messe

POINT 1

Die Veröffentlichung im Rahmen der Ausstellung bedeutet einen „Verlust der Neuheit“

Patente und Geschmacksmuster können grundsätzlich nicht mehr eingetragen werden, wenn sie vor der Anmeldung ausgestellt, verteilt oder vorgeführt werden. Sie sollten die Technologien und Designs, die Sie ausstellen möchten, daher vor Beginn der Messe anmelden. Die Ausnahmeregelung in Japan (Artikel 30 des Patentgesetzes) dient lediglich als Abhilfe; in einigen Ländern gibt es keine solche Abhilfe.

POINT 2

Klärung der Rechte Dritter

Wenn Sie vor der Messe prüfen (FTO-Prüfung), ob die ausgestellten Produkte und Dienstleistungen keine Patente, Marken oder Geschmacksmuster anderer Unternehmen verletzen, können Sie Verwarnungen und Probleme vor Ort vermeiden.

POINT 3

Maßnahmen gegen Nachahmung und Informationsmanagement

Begeben Sie sich erst dann zum Veranstaltungsort, nachdem Sie die Regeln für Fotoaufnahmen und das Mitnehmen von Mustern festgelegt, eine Vertraulichkeitsvereinbarung (NDA) vorbereitet und die Grenze zwischen Informationen, die veröffentlicht werden dürfen, und solchen, die geheim gehalten werden müssen (Know-how), klar definiert haben.

[Weitere Informationen finden Sie im Abschnitt „IP-Check“ der CEATEC-Ausstellerinformationen. →](https://www.evorix.jp/de/blog/ceatec-2026-exhibition)

## Wir freuen uns darauf, Sie auf der Messe zu treffen / Gerne beraten wir Sie auch vor der Messe

Die Erstberatung zu Anmeldungen vor der Messe, zur Klärung von Rechtsfragen und zu Maßnahmen gegen Nachahmungen ist kostenlos. Sie können gerne einen Termin für einen Standbesuch während der Messe vereinbaren oder eine Online-Beratung in Anspruch nehmen.

[Kostenlose Beratung vereinbaren](https://www.evorix.jp/de/inquiry)

[Anmeldebilanz](https://www.evorix.jp/de/results) ｜ [Vorträge und Seminare](https://www.evorix.jp/de/seminar) ｜ [Dienstleistungen im Bereich der Patentanmeldung](https://www.evorix.jp/de/patent-service)

---

[![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png "知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登")](https://www.evorix.jp)

Intellectual Property Law Firm EVORIX

 

4th Floor, Qus-Hiranomachi Building,  
3-1-2 Hiranomachi, Chuo-Ku, Osaka-shi,  
Osaka 541-0046 Japan

Mail: [contact@evorix.jp](mailto:contact@evorix.jp)

TEL: +81-6-7777-1884

- [Hague International Design Application](https://www.evorix.jp/hague-design-application)
- [Madrid Protocol International Trademark Application](https://www.evorix.jp/madrid-protocol-trademark)
- [Amazon IP Infringement Support](https://www.evorix.jp/amazon-infringement)

- [About Us](https://www.evorix.jp/about)
- [Our Attorneys](https://www.evorix.jp/staff)
- [Services](https://www.evorix.jp/contents)
- [Consultation Process](https://www.evorix.jp/consultation)
- [Blog](https://www.evorix.jp/blog)
- [Careers](https://www.evorix.jp/recruit)
- [Trademark Portfolio](https://www.evorix.jp/trademark-list)
- [Privacy Policy](https://www.evorix.jp/hubfs/%E8%B3%87%E6%96%99/HP-%E3%83%97%E3%83%A9%E3%82%A4%E3%83%90%E3%82%B7%E3%83%BC%E3%83%9D%E3%83%AA%E3%82%B7%E3%83%BC.pdf)
- [Contact](https://www.evorix.jp/inquiry)

---

 

Copyright © 2026, Intellectual Property Law Firm EVORIX® All rights reserved. 

```json
{
  "@context" : "https://schema.org",
  "@type" : "BreadcrumbList",
  "itemListElement" : [ {
    "@type" : "ListItem",
    "item" : "https://www.evorix.jp/de",
    "name" : "Startseite",
    "position" : 1
  }, {
    "@type" : "ListItem",
    "item" : "https://www.evorix.jp/de/exhibitions",
    "name" : "Teilnahme an Messen und Veranstaltungen",
    "position" : 2
  } ]
}
```