---
title: evorix blog
description: 知的財産に関するニュースの配信
---

[Saltar al contenido](https://www.evorix.jp/es/blog#main-content)

- [Español](https://www.evorix.jp/es/blog)
- [Chinese (Chino)](https://www.evorix.jp/zh/blog)
- [Deutsch (Alemán)](https://www.evorix.jp/de/blog)
- [English (Inglés)](https://www.evorix.jp/en/blog)
- [Français (Francés)](https://www.evorix.jp/fr/blog)
- [Italiano](https://www.evorix.jp/it/blog)
- [Português (Portugués)](https://www.evorix.jp/pt/blog)
- [한국어 (Coreano)](https://www.evorix.jp/ko/blog)
- [日本語 - 日本 (Japonés - Japón)](https://www.evorix.jp/blog)

Español

Traducciones de Mostrar submenú de

[![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png)](https://www.evorix.jp/)

- [Servicios](https://www.evorix.jp/es/contents)
  
  Mostrar submenú de Servicios 
  
    - [Solicitud de patente](https://www.evorix.jp/es/patent-service)
    - [Registro de marcas](https://www.evorix.jp/es/trademark-service)
    - [Registro de diseños](https://www.evorix.jp/es/design-service)
    - [Derechos de autor](https://www.evorix.jp/es/copyright-service)
    - [Competencia desleal](https://www.evorix.jp/es/unfair-competition)
    - [Asesor en materia de patentes](https://www.evorix.jp/es/komon)
- [Solicitudes internacionales](https://www.evorix.jp/es/international)
  
  Mostrar submenú de Solicitudes internacionales 
  
    - [Patente internacional PCT](https://www.evorix.jp/es/pct)
    - [Marca del Protocolo de Madrid](https://www.evorix.jp/es/madrid-protocol-trademark)
    - [Solicitud de registro de diseño de La Haya](https://www.evorix.jp/es/hague-design-application)
    - [Sistemas mundiales de patentes](https://www.evorix.jp/patent-world)
    - [Sistemas de marcas registradas a nivel mundial](https://www.evorix.jp/trademark-world)
    - [Sistemas mundiales de diseños](https://www.evorix.jp/design-world)
- [Sectores](https://www.evorix.jp/es/industries)
  
  Mostrar submenú de Sectores 
  
    - [Para empresas emergentes](https://www.evorix.jp/es/startup)
    - [Para el sector manufacturero](https://www.evorix.jp/es/manufacturing)
    - [Para empresas de TI](https://www.evorix.jp/it-ip-portal)
- [Quiénes somos](https://www.evorix.jp/es/about)
  
  Mostrar submenú de Quiénes somos 
  
    - [Descripción general de la empresa](https://www.evorix.jp/es/about)
    - [Filosofía y visión](https://www.evorix.jp/philosophy)
    - [Nuestros agentes de patentes](https://www.evorix.jp/es/staff)
    - [Ubicaciones](https://www.evorix.jp/es/access)
    - [Seminarios y conferencias](https://www.evorix.jp/es/seminar)
    - [Oportunidades profesionales](https://www.evorix.jp/es/recruit)
- [Recursos](https://www.evorix.jp/es/blog)
  
  Mostrar submenú de Recursos 
  
    - [Blog](https://www.evorix.jp/es/blog)
    - [Preguntas frecuentes](https://www.evorix.jp/es/faq)
    - [Glosario de propiedad intelectual](https://www.evorix.jp/es/glossary)
    - [Guía de subvenciones para solicitudes en el extranjero](https://www.evorix.jp/%E3%82%B8%E3%82%A7%E3%83%88%E3%83%AD%E5%A4%96%E5%9B%BD%E5%87%BA%E9%A1%98%E5%8A%A9%E6%88%90%E9%87%91%E3%81%AE%E3%81%94%E6%A1%88%E5%86%85)
    - [Borrador generado por IA × Revisión por un agente de patentes](https://www.evorix.jp/ai-draft-patent-lp)
- [Contacto](https://www.evorix.jp/es/inquiry)
  
  Mostrar submenú de Contacto 
  
    - [Proceso de consulta](https://www.evorix.jp/es/consultation)
    - [Formulario de consulta](https://www.evorix.jp/es/inquiry)

Abrir navegación principal

Cerrar navegación principal

- [Servicios](https://www.evorix.jp/es/contents)
  
  Mostrar submenú de Servicios 
  
    - [Solicitud de patente](https://www.evorix.jp/es/patent-service)
    - [Registro de marcas](https://www.evorix.jp/es/trademark-service)
    - [Registro de diseños](https://www.evorix.jp/es/design-service)
    - [Derechos de autor](https://www.evorix.jp/es/copyright-service)
    - [Competencia desleal](https://www.evorix.jp/es/unfair-competition)
    - [Asesor en materia de patentes](https://www.evorix.jp/es/komon)
- [Solicitudes internacionales](https://www.evorix.jp/es/international)
  
  Mostrar submenú de Solicitudes internacionales 
  
    - [Patente internacional PCT](https://www.evorix.jp/es/pct)
    - [Marca del Protocolo de Madrid](https://www.evorix.jp/es/madrid-protocol-trademark)
    - [Solicitud de registro de diseño de La Haya](https://www.evorix.jp/es/hague-design-application)
    - [Sistemas mundiales de patentes](https://www.evorix.jp/patent-world)
    - [Sistemas de marcas registradas a nivel mundial](https://www.evorix.jp/trademark-world)
    - [Sistemas mundiales de diseños](https://www.evorix.jp/design-world)
- [Sectores](https://www.evorix.jp/es/industries)
  
  Mostrar submenú de Sectores 
  
    - [Para empresas emergentes](https://www.evorix.jp/es/startup)
    - [Para el sector manufacturero](https://www.evorix.jp/es/manufacturing)
    - [Para empresas de TI](https://www.evorix.jp/it-ip-portal)
- [Quiénes somos](https://www.evorix.jp/es/about)
  
  Mostrar submenú de Quiénes somos 
  
    - [Descripción general de la empresa](https://www.evorix.jp/es/about)
    - [Filosofía y visión](https://www.evorix.jp/philosophy)
    - [Nuestros agentes de patentes](https://www.evorix.jp/es/staff)
    - [Ubicaciones](https://www.evorix.jp/es/access)
    - [Seminarios y conferencias](https://www.evorix.jp/es/seminar)
    - [Oportunidades profesionales](https://www.evorix.jp/es/recruit)
- [Recursos](https://www.evorix.jp/es/blog)
  
  Mostrar submenú de Recursos 
  
    - [Blog](https://www.evorix.jp/es/blog)
    - [Preguntas frecuentes](https://www.evorix.jp/es/faq)
    - [Glosario de propiedad intelectual](https://www.evorix.jp/es/glossary)
    - [Guía de subvenciones para solicitudes en el extranjero](https://www.evorix.jp/%E3%82%B8%E3%82%A7%E3%83%88%E3%83%AD%E5%A4%96%E5%9B%BD%E5%87%BA%E9%A1%98%E5%8A%A9%E6%88%90%E9%87%91%E3%81%AE%E3%81%94%E6%A1%88%E5%86%85)
    - [Borrador generado por IA × Revisión por un agente de patentes](https://www.evorix.jp/ai-draft-patent-lp)
- [Contacto](https://www.evorix.jp/es/inquiry)
  
  Mostrar submenú de Contacto 
  
    - [Proceso de consulta](https://www.evorix.jp/es/consultation)
    - [Formulario de consulta](https://www.evorix.jp/es/inquiry)
- - [Español](https://www.evorix.jp/es/blog)
    - [Chinese (Chino)](https://www.evorix.jp/zh/blog)
    - [Deutsch (Alemán)](https://www.evorix.jp/de/blog)
    - [English (Inglés)](https://www.evorix.jp/en/blog)
    - [Français (Francés)](https://www.evorix.jp/fr/blog)
    - [Italiano](https://www.evorix.jp/it/blog)
    - [Português (Portugués)](https://www.evorix.jp/pt/blog)
    - [한국어 (Coreano)](https://www.evorix.jp/ko/blog)
    - [日本語 - 日本 (Japonés - Japón)](https://www.evorix.jp/blog)

  Español
  
  Traducciones de Mostrar submenú de
- [Contacto](https://www.evorix.jp/es/inquiry)

[Contacto](https://www.evorix.jp/es/inquiry)

# Blog

[![Sistema de patentes del Reino Unido: guía práctica | Solicitud ante la UKIPO, tasas 2026, sentencia del Supremo sobre IA, EP(UK) y TUP](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-uk-patent-system-guide.jpg)](https://www.evorix.jp/es/blog/uk-patent-system-guide)

特許, 外国特許, イギリス

## [Sistema de patentes del Reino Unido: guía práctica | Solicitud ante la UKIPO, tasas 2026, sentencia del Supremo sobre IA, EP(UK) y TUP](https://www.evorix.jp/es/blog/uk-patent-system-guide)

![Imagen de 弁理士 杉浦健文](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 2026/09/17

Existen tres formas de obtener una patente en el Reino Unido (UK): la solicitud directa ante la Ofic...

[Más información](https://www.evorix.jp/es/blog/uk-patent-system-guide)

[![Sistema de marcas de Macao: guía práctica | Vigencia de 7 años, una clase por solicitud, sin Protocolo de Madrid, independiente de China continental](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-macau-trademark-guide-v2.jpg)](https://www.evorix.jp/es/blog/macau-trademark-guide)

商標, 外国商標

## [Sistema de marcas de Macao: guía práctica | Vigencia de 7 años, una clase por solicitud, sin Protocolo de Madrid, independiente de China continental](https://www.evorix.jp/es/blog/macau-trademark-guide)

![Imagen de 弁理士 杉浦健文](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 2026/09/17

«Como tengo la marca registrada en China, debería estar protegida también en Macao»: esta es la idea...

[Más información](https://www.evorix.jp/es/blog/macau-trademark-guide)

[![¿Has recibido una resolución denegatoria de la JPO? Tus tres opciones: recurso (3 meses + 60 días para los solicitantes extranjeros), revisión previa al recurso, solicitud divisional](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-decision-of-refusal-next-steps-appeal-divisional.png)](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-decision-of-refusal-next-steps-appeal-divisional)

## [¿Has recibido una resolución denegatoria de la JPO? Tus tres opciones: recurso (3 meses + 60 días para los solicitantes extranjeros), revisión previa al recurso, solicitud divisional](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-decision-of-refusal-next-steps-appeal-divisional)

![Imagen de Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

Una resolución de denegación (拒絶査定) de la Oficina Japonesa de Patentes no supone el fin del procedim...

[Más información](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-decision-of-refusal-next-steps-appeal-divisional)

[![Denegaciones por «no constituir una invención» en Japón (artículo 29, apartado 1, párrafo principal): software, métodos comerciales y el criterio de los recursos de hardware](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-eligibility-software-article-29-1.png)](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-eligibility-software-article-29-1)

## [Denegaciones por «no constituir una invención» en Japón (artículo 29, apartado 1, párrafo principal): software, métodos comerciales y el criterio de los recursos de hardware](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-eligibility-software-article-29-1)

![Imagen de Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

Una resolución de la Oficina Japonesa de Patentes en la que se afirma que el objeto reivindicado «no...

[Más información](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-eligibility-software-article-29-1)

[![Rechazos por motivos de apoyo, claridad y admisibilidad en Japón (artículo 36): cómo subsanar las objeciones relativas a los requisitos de la descripción en un procedimiento de fase nacional](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-office-action-description-requirements-article-36.png)](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)

## [Rechazos por motivos de apoyo, claridad y admisibilidad en Japón (artículo 36): cómo subsanar las objeciones relativas a los requisitos de la descripción en un procedimiento de fase nacional](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)

![Imagen de Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

No todas las resoluciones de la Oficina Japonesa se refieren al estado de la técnica. Una gran parte...

[Más información](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)

[![Denegaciones por falta de actividad inventiva en Japón (artículo 29, apartado 2): cómo construye el examinador de la Oficina Japonesa de Patentes (JPO) su argumentación… y cómo rebatirla](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-office-action-inventive-step-article-29-2.png)](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-inventive-step-article-29-2)

## [Denegaciones por falta de actividad inventiva en Japón (artículo 29, apartado 2): cómo construye el examinador de la Oficina Japonesa de Patentes (JPO) su argumentación… y cómo rebatirla](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-inventive-step-article-29-2)

![Imagen de Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

El motivo más habitual en una resolución de la Oficina Japonesa sobre un caso en fase nacional es el...

[Más información](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-inventive-step-article-29-2)

[![Resolución de la Oficina de Patentes de Japón (JPO) (Notificación de los motivos de denegación) para solicitantes extranjeros: plazo, prórrogas, opciones y coste](https://www.evorix.jp/hubfs/AI-Generated%20Media/Images/The%20image%20depicts%20a%20modern%20office%20setting%20with%20sleek%20minimalistic%20furniture%20A%20large%20glass%20window%20allows%20natural%20light%20to%20flood%20the%20space%20casting%20soft%20shadows%20on%20the%20polished%20wooden%20floor%20In%20the%20foreground%20a%20contemporary%20desk%20is%20adorned%20with%20a%20laptop.jpeg)](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-response)

## [Resolución de la Oficina de Patentes de Japón (JPO) (Notificación de los motivos de denegación) para solicitantes extranjeros: plazo, prórrogas, opciones y coste](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-response)

![Imagen de 弁理士 杉浦健文](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 2026/09/04

Los asesores jurídicos extranjeros especializados en propiedad intelectual que se encarguen de la tr...

[Más información](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-response)

[![¿Se te ha pasado el plazo de 30 meses para Japón? Restablecimiento de la fase nacional del PCT en virtud del criterio de «incidencia involuntaria» (desde abril de 2023)](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-pct-missed-30-month-deadline-restoration.png)](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-pct-missed-30-month-deadline-restoration)

## [¿Se te ha pasado el plazo de 30 meses para Japón? Restablecimiento de la fase nacional del PCT en virtud del criterio de «incidencia involuntaria» (desde abril de 2023)](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-pct-missed-30-month-deadline-restoration)

![Imagen de Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

En Japón, incumplir el plazo de 30 meses solía ser casi fatal: rara vez se cumplía el antiguo criter...

[Más información](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-pct-missed-30-month-deadline-restoration)

[![Nuevos motivos y resoluciones «definitivas» de la Oficina de Patentes de Japón: límites a las modificaciones según el artículo 17-2 — Lo que aún se puede modificar](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-office-action-new-matter-final-oa-amendments.png)](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-new-matter-final-oa-amendments)

## [Nuevos motivos y resoluciones «definitivas» de la Oficina de Patentes de Japón: límites a las modificaciones según el artículo 17-2 — Lo que aún se puede modificar](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-new-matter-final-oa-amendments)

![Imagen de Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

Los abogados extranjeros que se ocupan de una resolución de la Oficina Japonesa suelen llevarse una ...

[Más información](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-new-matter-final-oa-amendments)

[![Inicio de la fase nacional del PCT en Japón: plazo de 30 meses, restablecimiento en caso de retraso, norma sobre el administrador de patentes, costes y calendario (2026)](https://www.evorix.jp/hubfs/AI-Generated%20Media/Images/The%20image%20depicts%20a%20modern%20office%20setting%20with%20sleek%20minimalistic%20furniture%20A%20large%20glass%20window%20allows%20natural%20light%20to%20flood%20the%20space%20casting%20soft%20shadows%20on%20the%20polished%20wooden%20floor%20In%20the%20foreground%20a%20contemporary%20desk%20is%20adorned%20with%20a%20laptop.jpeg)](https://www.evorix.jp/es/blog/pct-national-phase-entry-japan)

## [Inicio de la fase nacional del PCT en Japón: plazo de 30 meses, restablecimiento en caso de retraso, norma sobre el administrador de patentes, costes y calendario (2026)](https://www.evorix.jp/es/blog/pct-national-phase-entry-japan)

![Imagen de 弁理士 杉浦健文](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 2026/09/04

Para los asesores jurídicos extranjeros especializados en propiedad intelectual que presentan solici...

[Más información](https://www.evorix.jp/es/blog/pct-national-phase-entry-japan)

Primera Anterior [1](https://www.evorix.jp/es/blog) [2](https://www.evorix.jp/es/blog/page/2) [3](https://www.evorix.jp/es/blog/page/3) [4](https://www.evorix.jp/es/blog/page/4) [5](https://www.evorix.jp/es/blog/page/5) [Siguiente](https://www.evorix.jp/es/blog/page/2) [Última](https://www.evorix.jp/es/blog/page/28)

---

[![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png "知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登")](https://www.evorix.jp)

Intellectual Property Law Firm EVORIX

 

4th Floor, Qus-Hiranomachi Building,  
3-1-2 Hiranomachi, Chuo-Ku, Osaka-shi,  
Osaka 541-0046 Japan

Mail: [contact@evorix.jp](mailto:contact@evorix.jp)

TEL: +81-6-7777-1884

- [Hague International Design Application](https://www.evorix.jp/hague-design-application)
- [Madrid Protocol International Trademark Application](https://www.evorix.jp/madrid-protocol-trademark)
- [Amazon IP Infringement Support](https://www.evorix.jp/amazon-infringement)

- [About Us](https://www.evorix.jp/about)
- [Our Attorneys](https://www.evorix.jp/staff)
- [Services](https://www.evorix.jp/contents)
- [Consultation Process](https://www.evorix.jp/consultation)
- [Blog](https://www.evorix.jp/blog)
- [Careers](https://www.evorix.jp/recruit)
- [Trademark Portfolio](https://www.evorix.jp/trademark-list)
- [Privacy Policy](https://www.evorix.jp/hubfs/%E8%B3%87%E6%96%99/HP-%E3%83%97%E3%83%A9%E3%82%A4%E3%83%90%E3%82%B7%E3%83%BC%E3%83%9D%E3%83%AA%E3%82%B7%E3%83%BC.pdf)
- [Contact](https://www.evorix.jp/inquiry)

---

 

Copyright © 2026, Intellectual Property Law Firm EVORIX® All rights reserved. 