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title: 展示会・イベント出展実績｜CEATEC・STARTUP JAPAN EXPO など｜知的財産事務所エボリクス（EVORIX）
description: 知的財産事務所エボリクス（株式会社EVORIX）の展示会・イベント出展実績。CEATEC 2026（幕張メッセ）、STARTUP JAPAN EXPO 2025 in 大阪、新規事業WEEK 2026【大阪】への出展とセミナー登壇、海外展示会の視察をご紹介します。
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# 展示会・イベント出展実績

国内外の展示会に出展し、技術・デザイン・ブランドを守る知財戦略を開発・事業の現場へ直接お届けしています

知的財産事務所エボリクス（株式会社EVORIX）は、スタートアップ・製造業・IT企業が集まる展示会に出展し、ブースでの無料相談やセミナー登壇を通じて知財の実務情報を提供しています。展示会でお会いした企業様とは、出願から権利活用まで継続的にご一緒しています。

## 出展予定

2026

11月18日（水）〜20日（金）

出展セミナー登壇

### 新規事業WEEK 2026【大阪】

インテックス大阪 6号館（主催：RX Japan合同会社）

ブース出展に加え、11月18日（水）13:00からセミナー「その新規事業、真似されませんか？知財戦略（特許・商標・意匠・ノウハウ・海外知財など）で築く競争優位」に登壇します。新規事業・オープンイノベーション担当者の方は、ぜひブースへお立ち寄りください。

[公式サイト →](https://www.mgmt-expo.jp/osaka/ja-jp.html)

## 出展実績

2026

10月13日（火）〜16日（金）

出展

### CEATEC 2026（シーテック 2026）

幕張メッセ ホール5・ブース5H431（主催：一般社団法人電子情報技術産業協会）

「その技術を、事業の強みに。」をコンセプトに、先端技術の権利化、技術・デザイン・ブランドの一括保護、事業化・共創のリスク対策、海外展開を見据えた出願戦略、AI下書き×弁理士チェックの5テーマをご紹介しました。日本特許出願ガイドブック2026、外国商標出願ガイドブック2026など6種類の資料を配布し、4日間で11万人超が来場した会場で、AI・IoT・ものづくり企業の開発担当者から多くのご相談をいただきました。

[出展案内を読む →](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition)

2025

12月17日（水）・18日（木）

出展

### STARTUP JAPAN EXPO 2025 in 大阪

マイドームおおさか（主催：Sansan株式会社）

「特許・商標・無料相談」を掲げて出展しました。製造業AI・DX EXPO、物流＆SCM変革テックEXPOとの同時開催で、関西のスタートアップ経営者・事業担当者から「新サービスの商標はいつ取るべきか」「自社技術を特許で守るには」「海外展開を見据えた知財戦略」など具体的なご相談を多数いただきました。

[出展報告を読む →](https://www.evorix.jp/blog/-%E5%87%BA%E5%B1%95%E5%A0%B1%E5%91%8A-startup-japan-expo-2025-in-%E5%A4%A7%E9%98%AA%E9%96%A2%E8%A5%BF%E3%82%B9%E3%82%BF%E3%83%BC%E3%83%88%E3%82%A2%E3%83%83%E3%83%97%E3%81%AE%E7%86%B1%E6%B0%97%E3%81%AB%E8%A7%A6%E3%82%8C%E3%81%9F2%E6%97%A5%E9%96%93)

## 海外展示会の視察

2026

4月21日（火）〜24日（金）

視察

### HANNOVER MESSE 2026（ハノーバーメッセ）

ドイツ・ハノーファー国際見本市会場

世界最大級の産業技術見本市を現地視察し、インダストリー4.0・AI・水素などの最新技術動向と、欧州市場へ向けた出展企業の知財対策（新規性喪失・模倣・他社特許侵害のリスク）を確認しました。視察の知見は、海外展示会に出展されるお客様への事前の知財戦略アドバイスに活かしています。

[関連記事を読む →](https://www.evorix.jp/blog/hannover-messe-ip-strategy)

## 展示会に出展・来場される方へ｜出展前の知財チェック3点

POINT 1

展示での公開は「新規性の喪失」

特許・意匠は出願前に展示・配布・実演すると原則登録できなくなります。出展する技術・デザインは会期前に出願しておきましょう。日本の例外規定（特許法30条）は救済にすぎず、海外には救済のない国もあります。

POINT 2

他社権利のクリアランス

展示する製品・サービスが他社の特許・商標・意匠を侵害していないか、出展前に調査（FTO調査）しておくと、会場での警告やトラブルを避けられます。

POINT 3

模倣対策と情報管理

撮影・サンプル持ち帰りへの対応ルール、NDAの準備、公開してよい情報と伏せる情報（ノウハウ）の線引きを決めてから会場に臨みましょう。

[詳しくはCEATEC出展案内の「知財チェック」をご覧ください →](https://www.evorix.jp/blog/ceatec-2026-exhibition)

## 展示会でお会いしましょう／出展前のご相談も承ります

出展前の出願・クリアランス調査・模倣対策のご相談は初回無料です。会期中のブース訪問予約やオンライン相談もお気軽にどうぞ。

[無料相談を申し込む](https://www.evorix.jp/inquiry)

[出願実績](https://www.evorix.jp/results) ｜ [講演・セミナー](https://www.evorix.jp/seminar) ｜ [特許出願サービス](https://www.evorix.jp/patent-service)

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知的財産事務所エボリクス

〒541-0046  
大阪府大阪市中央区平野町3-1-2  
キューアス平野町ビル4階

Mail: [contact@evorix.jp](mailto:contact@evorix.jp)

TEL:  06-7777-1884

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