---
title: Tendances en matière d'applications pour les nouveaux dessins et modèles
description: Le 1er avril 2020, un nouveau système de dessins et modèles a été lancé, permettant de protéger les images, les dessins architecturaux et les dessins…
image: https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-post-59247984275.png
---

[Passer au contenu](https://www.evorix.jp/fr/blog/%E6%96%B0%E3%81%97%E3%81%84%E6%84%8F%E5%8C%A0%E3%81%AE%E6%84%8F%E5%8C%A0%E5%87%BA%E9%A1%98%E5%8B%95%E5%90%91#main-content)

- [Français](https://www.evorix.jp/fr/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
- [Chinese (Chinois)](https://www.evorix.jp/zh/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
- [Deutsch (Allemand)](https://www.evorix.jp/de/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
- [English (Anglais)](https://www.evorix.jp/en/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
- [Español (Espagnol)](https://www.evorix.jp/es/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
- [Italiano (Italien)](https://www.evorix.jp/it/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
- [Português (Portugais)](https://www.evorix.jp/pt/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
- [한국어 (Coréen)](https://www.evorix.jp/ko/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
- [日本語 - 日本 (Japonais - Japon)](https://www.evorix.jp/blog/新しい意匠の意匠出願動向)

Français

Afficher le sous-menu pour les traductions

[![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png)](https://www.evorix.jp/)

- [Services](https://www.evorix.jp/fr/contents)
  
  Afficher le sous-menu pour Services 
  
    - [Brevet](https://www.evorix.jp/fr/contents)
    - [Marque](https://www.evorix.jp/fr/contents)
    - [Dessin & Modèle](https://www.evorix.jp/fr/contents)
    - [Droit d'Auteur](https://www.evorix.jp/fr/copyright-service)
    - [Concurrence Déloyale](https://www.evorix.jp/fr/unfair-competition)
    - [Conseil PI Permanent](https://www.evorix.jp/fr/komon)
- [Dépôts Internationaux](https://www.evorix.jp/fr/international)
  
  Afficher le sous-menu pour Dépôts Internationaux 
  
    - [Brevet PCT](https://www.evorix.jp/fr/pct)
    - [Protocole de Madrid](https://www.evorix.jp/fr/protocole-madrid)
    - [Arrangement de La Haye](https://www.evorix.jp/fr/dessin-haye)
    - [Systèmes de Brevets Mondiaux](https://www.evorix.jp/fr/international)
    - [Systèmes de Marques Mondiaux](https://www.evorix.jp/fr/international)
    - [Systèmes de Dessins Mondiaux](https://www.evorix.jp/fr/international)
- [Solutions Sectorielles](https://www.evorix.jp/fr/industries)
  
  Afficher le sous-menu pour Solutions Sectorielles 
  
    - [Pour les Startups](https://www.evorix.jp/fr/startup)
    - [Pour l'Industrie](https://www.evorix.jp/fr/manufacturing)
- [À propos](https://www.evorix.jp/fr/about)
  
  Afficher le sous-menu pour À propos 
  
    - [Aperçu du Cabinet](https://www.evorix.jp/fr/about)
    - [Notre Conseil en PI](https://www.evorix.jp/fr/staff)
    - [Plan d'Accès](https://www.evorix.jp/fr/access)
    - [Références](https://www.evorix.jp/fr/results)
    - [Salons & événements](https://www.evorix.jp/fr/exhibitions)
    - [Séminaires & Conférences](https://www.evorix.jp/fr/seminar)
    - [Carrières](https://www.evorix.jp/fr/recruit)
    - [Processus de Consultation](https://www.evorix.jp/fr/consultation)
- [Ressources](https://www.evorix.jp/fr/blog)
  
  Afficher le sous-menu pour Ressources 
  
    - [Blog](https://www.evorix.jp/fr/blog)
    - [FAQ](https://www.evorix.jp/fr/faq)
    - [Glossaire PI](https://www.evorix.jp/fr/glossary)
    - [Subvention Dépôts Étrangers](https://www.evorix.jp/fr/inpit-foreign-filing-subsidy)
- [Contact](https://www.evorix.jp/fr/inquiry)

Ouvrir la navigation principale

Fermer la navigation principale

- [Services](https://www.evorix.jp/fr/contents)
  
  Afficher le sous-menu pour Services 
  
    - [Brevet](https://www.evorix.jp/fr/contents)
    - [Marque](https://www.evorix.jp/fr/contents)
    - [Dessin & Modèle](https://www.evorix.jp/fr/contents)
    - [Droit d'Auteur](https://www.evorix.jp/fr/copyright-service)
    - [Concurrence Déloyale](https://www.evorix.jp/fr/unfair-competition)
    - [Conseil PI Permanent](https://www.evorix.jp/fr/komon)
- [Dépôts Internationaux](https://www.evorix.jp/fr/international)
  
  Afficher le sous-menu pour Dépôts Internationaux 
  
    - [Brevet PCT](https://www.evorix.jp/fr/pct)
    - [Protocole de Madrid](https://www.evorix.jp/fr/protocole-madrid)
    - [Arrangement de La Haye](https://www.evorix.jp/fr/dessin-haye)
    - [Systèmes de Brevets Mondiaux](https://www.evorix.jp/fr/international)
    - [Systèmes de Marques Mondiaux](https://www.evorix.jp/fr/international)
    - [Systèmes de Dessins Mondiaux](https://www.evorix.jp/fr/international)
- [Solutions Sectorielles](https://www.evorix.jp/fr/industries)
  
  Afficher le sous-menu pour Solutions Sectorielles 
  
    - [Pour les Startups](https://www.evorix.jp/fr/startup)
    - [Pour l'Industrie](https://www.evorix.jp/fr/manufacturing)
- [À propos](https://www.evorix.jp/fr/about)
  
  Afficher le sous-menu pour À propos 
  
    - [Aperçu du Cabinet](https://www.evorix.jp/fr/about)
    - [Notre Conseil en PI](https://www.evorix.jp/fr/staff)
    - [Plan d'Accès](https://www.evorix.jp/fr/access)
    - [Références](https://www.evorix.jp/fr/results)
    - [Salons & événements](https://www.evorix.jp/fr/exhibitions)
    - [Séminaires & Conférences](https://www.evorix.jp/fr/seminar)
    - [Carrières](https://www.evorix.jp/fr/recruit)
    - [Processus de Consultation](https://www.evorix.jp/fr/consultation)
- [Ressources](https://www.evorix.jp/fr/blog)
  
  Afficher le sous-menu pour Ressources 
  
    - [Blog](https://www.evorix.jp/fr/blog)
    - [FAQ](https://www.evorix.jp/fr/faq)
    - [Glossaire PI](https://www.evorix.jp/fr/glossary)
    - [Subvention Dépôts Étrangers](https://www.evorix.jp/fr/inpit-foreign-filing-subsidy)
- [Contact](https://www.evorix.jp/fr/inquiry)
- - [Français](https://www.evorix.jp/fr/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
    - [Chinese (Chinois)](https://www.evorix.jp/zh/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
    - [Deutsch (Allemand)](https://www.evorix.jp/de/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
    - [English (Anglais)](https://www.evorix.jp/en/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
    - [Español (Espagnol)](https://www.evorix.jp/es/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
    - [Italiano (Italien)](https://www.evorix.jp/it/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
    - [Português (Portugais)](https://www.evorix.jp/pt/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
    - [한국어 (Coréen)](https://www.evorix.jp/ko/blog/新しい意匠の意匠出願動向)
    - [日本語 - 日本 (Japonais - Japon)](https://www.evorix.jp/blog/新しい意匠の意匠出願動向)

  Français
  
  Afficher le sous-menu pour les traductions
- [Contact](https://www.evorix.jp/fr/inquiry)

[Contact](https://www.evorix.jp/fr/inquiry)

 May 2, 2026, 11:55:43 AM

# Tendances en matière d'applications de conception pour les nouveaux modèles.

![Picture of 弁理士 杉浦健文](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg)  弁理士 杉浦健文

Partager : [facebook-f icon](http://www.facebook.com/share.php?u=https://www.evorix.jp/fr/blog/新しい意匠の意匠出願動向) [linkedin-in icon](http://www.linkedin.com/shareArticle?mini=true&url=https://www.evorix.jp/fr/blog/新しい意匠の意匠出願動向) [Twitter icon](https://twitter.com/intent/tweet?url=https://www.evorix.jp/fr/blog/新しい意匠の意匠出願動向) [pinterest-p icon](http://pinterest.com/pin/create/link/?url=https://www.evorix.jp/fr/blog/新しい意匠の意匠出願動向) [envelope icon](mailto:?body=https://www.evorix.jp/fr/blog/新しい意匠の意匠出願動向)

![Tendances en matière d'applications de conception pour les nouveaux modèles.](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-post-59247984275.png)

Depuis l'entrée en vigueur du nouveau régime des dessins et modèles le 1er avril 2020, qui permet désormais de protéger les dessins et modèles d'images, de bâtiments et d'aménagements intérieurs, l'Office des brevets a publié des statistiques sur les demandes déposées.

|  | Images (GUI, icônes, etc.) | Architecture | Aménagements intérieurs |
| --- | --- | --- | --- |
| Nombre de demandes | 1 453 | 487 | 319 |
| Nombre d'enregistrements | 500 | 211 | 89 |

[https://www.jpo.go.jp/system/design/gaiyo/seidogaiyo/document/isyou\_kaisei\_2019/shutsugan-jokyo.pdf](https://www.jpo.go.jp/system/design/gaiyo/seidogaiyo/document/isyou_kaisei_2019/shutsugan-jokyo.pdf)

 

 

Le nombre de demandes de dessins et modèles étant nettement supérieur à celui des brevets, on constate qu'il existe une réelle demande de la part des utilisateurs. Je pense que les demandes de dessins et modèles vont augmenter à l'avenir. Bien que l'interface utilisateur (UI) et l'expérience utilisateur (UX) puissent être protégées par un brevet, il est plus facile d'obtenir des droits par le biais d'un dessin ou modèle que par un brevet, et les coûts sont également moins élevés.

Cela dit, si une protection par brevet semble possible, je pense qu’il vaut mieux tenter d’abord cette voie. En effet, même si le brevet n’est pas accordé, il est possible de modifier la demande pour la transformer en demande de dessin ou modèle ultérieurement, à condition d’apporter quelques modifications aux dessins du brevet.

Notre cabinet propose également ce type de stratégie de dépôt combinant **brevet et dessin ou modèle**.

![杉浦健文 弁理士](https://www.evorix.jp/hubfs/HP-%E5%BC%81%E7%90%86%E5%A3%AB%E7%B4%B9%E4%BB%8B-%E3%83%97%E3%83%AD%E3%83%95%E3%82%A3%E3%83%BC%E3%83%AB%E7%94%BB%E5%83%8F.png)

AUTEUR / Rédacteur

Takefumi Sugiura

Cabinet de propriété intellectuelle EVORIX / **Avocat spécialisé** en propriété intellectuelle

Nous accompagnons nos clients issus d'un large éventail de secteurs (informatique, industrie manufacturière, start-ups, mode, médecine, etc.) depuis le dépôt de demandes de brevets, de marques, de dessins et modèles et de droits d'auteur jusqu'aux procédures de recours et aux litiges en contrefaçon. Nous maîtrisons également les stratégies de propriété intellectuelle dans les domaines de pointe tels que l'IA, l'IoT, le Web3 et la FinTech. Membre de plusieurs organisations, notamment **l'Ordre des conseils en brevets du Japon, l'Association des conseils en brevets d'Asie (APAA)** et **l'Association japonaise des marques (JTA)**.

[→ Profil détaillé de l'avocat en propriété industrielle](https://www.evorix.jp/staff) [→ Consultations et demandes](https://www.evorix.jp/inquiry) [de](https://www.evorix.jp/consultation) [renseignements](https://www.evorix.jp/inquiry) [→ Déroulement de la consultation](https://www.evorix.jp/consultation)

新しい意匠, 画像意匠, 特許, 意匠, UI, UX

## Articles associés

[![Vue d'ensemble du système français des dessins et modèles](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/blog-thumbnails/face-post-229030309601.png?height=200&name=face-post-229030309601.png)](https://www.evorix.jp/fr/blog/%E3%83%95%E3%83%A9%E3%83%B3%E3%82%B9%E3%81%AE%E6%84%8F%E5%8C%A0%E5%88%B6%E5%BA%A6%E6%A6%82%E8%A6%81)

外国意匠, フランス

## [Vue d'ensemble du système français des dessins et modèles](https://www.evorix.jp/fr/blog/%E3%83%95%E3%83%A9%E3%83%B3%E3%82%B9%E3%81%AE%E6%84%8F%E5%8C%A0%E5%88%B6%E5%BA%A6%E6%A6%82%E8%A6%81)

![Image de 弁理士 杉浦健文](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 May 2, 2026, 11:45:54 AM

Conditions d'enregistrement (nouveauté, caractère créatif, etc.) Pour bénéficier d'une protection...

[En savoir plus](https://www.evorix.jp/fr/blog/%E3%83%95%E3%83%A9%E3%83%B3%E3%82%B9%E3%81%AE%E6%84%8F%E5%8C%A0%E5%88%B6%E5%BA%A6%E6%A6%82%E8%A6%81)

[![](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/Gemini_Generated_Image_p5q4w8p5q4w8p5q4.jpg?height=200&name=Gemini_Generated_Image_p5q4w8p5q4w8p5q4.jpg)](https://www.evorix.jp/fr/blog/%E3%82%A4%E3%82%B9%E3%83%A9%E3%82%A8%E3%83%AB%E3%81%AE%E6%84%8F%E5%8C%A0%E5%88%B6%E5%BA%A6%E6%A6%82%E8%A6%81)

## [Le système actuel des dessins et modèles en Israël - une explication détaillée des dessins et modèles enregistrés, des dessins et modèles non enreg...](https://www.evorix.jp/fr/blog/%E3%82%A4%E3%82%B9%E3%83%A9%E3%82%A8%E3%83%AB%E3%81%AE%E6%84%8F%E5%8C%A0%E5%88%B6%E5%BA%A6%E6%A6%82%E8%A6%81)

![Image de 弁理士 杉浦健文](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 May 2, 2026, 11:09:27 AM

Avec la nouvelle loi sur les dessins et modèles (Designs Law 5777-2017) entrée en vigueur en 2018,...

[En savoir plus](https://www.evorix.jp/fr/blog/%E3%82%A4%E3%82%B9%E3%83%A9%E3%82%A8%E3%83%AB%E3%81%AE%E6%84%8F%E5%8C%A0%E5%88%B6%E5%BA%A6%E6%A6%82%E8%A6%81)

[![](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E3%83%87%E3%82%B6%E3%82%A4%E3%83%B3%E4%BF%9D%E8%AD%B7%E4%BA%8B%E4%BE%8B%E9%9B%86%20%E6%84%8F%E5%8C%A0%E3%81%A7%E4%BF%9D%E8%AD%B7%E3%81%99%E3%82%8B%E3%80%81%E3%83%95%E3%82%A1%E3%83%83%E3%82%B7%E3%83%A7%E3%83%B3.png?height=200&name=%E3%83%87%E3%82%B6%E3%82%A4%E3%83%B3%E4%BF%9D%E8%AD%B7%E4%BA%8B%E4%BE%8B%E9%9B%86%20%E6%84%8F%E5%8C%A0%E3%81%A7%E4%BF%9D%E8%AD%B7%E3%81%99%E3%82%8B%E3%80%81%E3%83%95%E3%82%A1%E3%83%83%E3%82%B7%E3%83%A7%E3%83%B3.png)](https://www.evorix.jp/fr/blog/%E3%83%95%E3%82%A1%E3%83%83%E3%82%B7%E3%83%A7%E3%83%B3%E4%BF%9D%E8%AD%B7%E4%BA%8B%E4%BE%8B)

意匠, ファッション, アパレル, デザイン保護事例

## [Cas de protection des dessins et modèles - la mode protégée par un dessin ou modèle](https://www.evorix.jp/fr/blog/%E3%83%95%E3%82%A1%E3%83%83%E3%82%B7%E3%83%A7%E3%83%B3%E4%BF%9D%E8%AD%B7%E4%BA%8B%E4%BE%8B)

![Image de 弁理士 杉浦健文](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 May 2, 2026, 11:55:31 AM

Voici quelques exemples de protection dans le domaine de la mode. On pense souvent que les...

[En savoir plus](https://www.evorix.jp/fr/blog/%E3%83%95%E3%82%A1%E3%83%83%E3%82%B7%E3%83%A7%E3%83%B3%E4%BF%9D%E8%AD%B7%E4%BA%8B%E4%BE%8B)

---

[![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png "知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登")](https://www.evorix.jp)

Intellectual Property Law Firm EVORIX

 

4th Floor, Qus-Hiranomachi Building,  
3-1-2 Hiranomachi, Chuo-Ku, Osaka-shi,  
Osaka 541-0046 Japan

Mail: [contact@evorix.jp](mailto:contact@evorix.jp)

TEL: +81-6-7777-1884

- [Hague International Design Application](https://www.evorix.jp/hague-design-application)
- [Madrid Protocol International Trademark Application](https://www.evorix.jp/madrid-protocol-trademark)
- [Amazon IP Infringement Support](https://www.evorix.jp/amazon-infringement)

- [About Us](https://www.evorix.jp/about)
- [Our Attorneys](https://www.evorix.jp/staff)
- [Services](https://www.evorix.jp/contents)
- [Consultation Process](https://www.evorix.jp/consultation)
- [Blog](https://www.evorix.jp/blog)
- [Careers](https://www.evorix.jp/recruit)
- [Trademark Portfolio](https://www.evorix.jp/trademark-list)
- [Privacy Policy](https://www.evorix.jp/hubfs/%E8%B3%87%E6%96%99/HP-%E3%83%97%E3%83%A9%E3%82%A4%E3%83%90%E3%82%B7%E3%83%BC%E3%83%9D%E3%83%AA%E3%82%B7%E3%83%BC.pdf)
- [Contact](https://www.evorix.jp/inquiry)

---

 

Copyright © 2026, Intellectual Property Law Firm EVORIX® All rights reserved. 

```json
{
  "@context" : "https://schema.org",
  "@type" : "BlogPosting",
  "author" : {
    "@type" : "Person",
    "name" : "弁理士 杉浦健文",
    "url" : "https://www.evorix.jp/fr/blog/author/takefumi-sugiura"
  },
  "datePublished" : "2026-05-02T02:55:43.000Z",
  "headline" : "Tendances en matière d'applications pour les nouveaux dessins et modèles",
  "image" : [ "https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-post-59247984275.png" ],
  "mainEntityOfPage" : {
    "@id" : "https://www.evorix.jp/fr/blog/新しい意匠の意匠出願動向",
    "@type" : "WebPage"
  },
  "publisher" : {
    "@type" : "Organization",
    "logo" : {
      "@type" : "ImageObject",
      "url" : "https://www.evorix.jp/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png"
    },
    "name" : "知的財産事務所エボリクス"
  }
}
```

```json
{
  "@context" : "https://schema.org",
  "@id" : "https://www.evorix.jp/blog/新しい意匠の意匠出願動向#article",
  "@type" : "BlogPosting",
  "author" : {
    "@id" : "https://www.evorix.jp/staff#person",
    "@type" : "Person",
    "alternateName" : "SUGIURA Takefumi",
    "image" : "https://www.evorix.jp/hubfs/HP-%E5%BC%81%E7%90%86%E5%A3%AB%E7%B4%B9%E4%BB%8B-%E3%83%97%E3%83%AD%E3%83%95%E3%82%A3%E3%83%BC%E3%83%AB%E7%94%BB%E5%83%8F.png",
    "jobTitle" : "代表弁理士",
    "memberOf" : [ {
      "@type" : "Organization",
      "name" : "日本弁理士会（JPAA）"
    }, {
      "@type" : "Organization",
      "name" : "アジア弁理士協会（APAA）"
    }, {
      "@type" : "Organization",
      "name" : "日本商標協会（JTA）"
    } ],
    "name" : "杉浦健文",
    "url" : "https://www.evorix.jp/staff",
    "worksFor" : {
      "@id" : "https://www.evorix.jp/#organization"
    }
  },
  "dateModified" : "2026-04-16T01:44:23.588Z",
  "datePublished" : "2021-11-08T12:31:33Z",
  "description" : "令和 2 年4 月1 日に新しい意匠がスタートし、画像、建築物、内装の意匠が保護できるようになりましたが、特許庁より出願統計が発表されました。",
  "headline" : "新しい意匠の意匠出願動向｜弁理士が解説｜弁理士が解説",
  "image" : "https://f.hubspotusercontent30.net/hubfs/20920988/AdobeStock_266865416-2-2000x1200.jpg",
  "inLanguage" : "ja-jp",
  "mainEntityOfPage" : {
    "@id" : "https://www.evorix.jp/blog/新しい意匠の意匠出願動向",
    "@type" : "WebPage"
  },
  "publisher" : {
    "@id" : "https://www.evorix.jp/#organization",
    "@type" : "Organization",
    "logo" : {
      "@type" : "ImageObject",
      "url" : "https://www.evorix.jp/hubfs/evorix-logo.png"
    },
    "name" : "知的財産事務所エボリクス（EVORIX）"
  }
}
```

```json
{
  "@context" : "https://schema.org",
  "@type" : "BreadcrumbList",
  "itemListElement" : [ {
    "@type" : "ListItem",
    "item" : "https://www.evorix.jp",
    "name" : "ホーム",
    "position" : 1
  }, {
    "@type" : "ListItem",
    "item" : "https://www.evorix.jp/blog",
    "name" : "ブログ",
    "position" : 2
  }, {
    "@type" : "ListItem",
    "item" : "https://www.evorix.jp/blog/新しい意匠の意匠出願動向",
    "name" : "新しい意匠の意匠出願動向｜弁理士が解説｜弁理士が解説",
    "position" : 3
  } ]
}
```