--- title: 我们将参展CEATEC 2026｜10月13日至16日，在幕张展览馆5号馆5H431展位，由专利代理人为您介绍“将技术转化为业务优势的知识产权战略” description: 知识产权事务所EVORIX将参展CEATEC 2026（2026年10月13日～16日·幕张展览馆）。展位位于5号馆·5H431。提供AI、软件、物联网领域的专利、商标、外观设计、FTO调查、海外申请，以及“AI起草×专利代理人审核”服务的免费咨询。网站还刊载了展会期间、入场费、参观注册、交通指南、展位位置及常见问题解答等信息。 image: https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/ceatec-2026-exhibition-v2.jpg --- [Skip to content](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#main-content) - [Chinese](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition) - [Deutsch (German)](https://www.evorix.jp/de/blog/ceatec-2026-exhibition) - [English](https://www.evorix.jp/en/blog/ceatec-2026-exhibition) - [Español (Spanish)](https://www.evorix.jp/es/blog/ceatec-2026-exhibition) - [Français (French)](https://www.evorix.jp/fr/blog/ceatec-2026-exhibition) - [Italiano (Italian)](https://www.evorix.jp/it/blog/ceatec-2026-exhibition) - [Português (Portuguese)](https://www.evorix.jp/pt/blog/ceatec-2026-exhibition) - [한국어 (Korean)](https://www.evorix.jp/ko/blog/ceatec-2026-exhibition) - 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展会时间为2026年10月13日（周二）至16日（周五）共4天，每天10:00～17:00。会场位于幕张展览中心，EVORIX展位位于5号**馆“5H431”**（普通展区）。 - 展位将围绕“尖端技术的权利化”、“技术、设计、品牌的一揽子保护”、“商业化与共创的风险对策”、“着眼于海外拓展的申请战略”、“AI起草×专利代理人审核”这5大主题进行介绍。 - 现场将免费发放《2026年日本专利申请指南》、《2026年外国商标申请指南》以及《科技企业20项已注册专利案例集》等6种资料。 - 入场免费，但所有参观者均需注册。展会期间，我们接受在幕张会场或线上**预约会议**。 - 在展会上公开技术属于导致专利及外观设计丧失“新颖性”的行为。参展前申请专利、确认是否侵犯他人权利以及防范仿冒这三点，是所有参展商都必须检查的要点。 目录 1. [CEATEC 2026 参展概要｜展会期间·会场·展位号5H431](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#sec1) 2. [CEATEC 2026 EVORIX展位将介绍的5大主题](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#sec2) 3. [在CEATEC 2026展位可领取的6种资料](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#sec3) 4. [CEATEC 2026欢迎以下人士莅临展位](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#sec4) 5. [关于CEATEC 2026｜主题“Transformation”与展会规模](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#sec5) 6. [CEATEC 2026的参观注册、交通指南及会议预约](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#sec6) 7. [CEATEC参展商与参观者的知识产权检查｜新颖性、可实施性、防仿冒的3大要点](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#sec7) 8. [CEATEC 2026 常见问题（FAQ）](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#faq) 9. [总结](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#summary) 10. [来源与参考文献](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition#sources) ## 1. CEATEC 2026 参展概要｜展会时间、会场、展位号5H431 首先是参展的基本信息。会场幕张展览馆距离JR京叶线·海滨幕张站步行5分钟。EVORIX的展位位于一般展示区的5号展厅。 | 项目 | 内容 | | --- | --- | | 展会名称 | CEATEC 2026（西泰克 2026） | | 展会时间 | 2026年10月13日（周二）至16日（周五）　10:00～17:00 | | 会场 | 幕张展览中心（千叶县千叶市美滨区中濑2-1） | | 参展商名称 | EVORIX股份有限公司（EVORIX知识产权事务所） | | 展区 | 一般展区（General Exhibits） | | 展厅·展位号 | **5号展厅　5H431** | | 入场费 | 免费（所有参观者均需注册入场，需提前注册） | | 参展商页面 | [CEATEC官方网站 EVORIX股份有限公司 参展商详情](https://www.ceatec.com/nj/exhibitor_detail_ja?id=305) | 展位理念“将技术转化为业务优势。” 我们将介绍从AI、软件、IoT到制造业，保护技术、设计及品牌的知识产权战略。通过整合专利、商标、外观设计及专有技术，为业务化、共创及海外拓展提供支持。对于“能否申请专利？”“是否侵犯了其他公司的权利？”等开发现场的疑问，欢迎咨询专利代理人。同时还将提供AI草稿审核服务。 ## 2. CEATEC 2026 EVORIX展位将介绍的5大主题 知识产权事务所EVORIX拥有一支深谙技术与业务本质的专利代理人团队，为初创企业、中小企业及制造业提供一站式知识产权战略支持。在CEATEC 2026的展位上，我们将围绕以下5大主题为您提供咨询服务。 ### ① 尖端技术专利化｜AI·生成式AI·软件·SaaS·IoT 我们将梳理AI、生成式AI、软件、SaaS、IoT等领域的发明，协助您基于业务发展规划进行专利申请。我们擅长处理科技企业特有的争议点，例如“应将学习数据、模型、提示词还是输出结果中的哪一层进行权利化”以及“UI的动态效果能否通过图像外观设计获得保护”等问题。[详情请参阅专利申请服务及IT·软件知识产权门户](https://www.evorix.jp/zh/patent-service)。[此外，我们还发布了相关文章《AI服务专利申请检查清单》](https://www.evorix.jp/blog/ai-service-patent-checklist-benrishi)。 ### ② 综合保护技术、设计与品牌 我们将专利、商标、外观设计、著作权及商业秘密相结合，为您提供适合产品与服务的保护方案。例如，“算法申请专利，界面申请外观设计，服务名称注册商标，源代码则通过著作权和商业秘密进行保护”，以此对单一产品构建多层权利保护体系。您可通过单一窗口咨询商标注册服务、[外观设计注册服务、](https://www.evorix.jp/zh/design-service)著作权服务以及[《反不正当竞争法](https://www.evorix.jp/zh/unfair-competition)[》](https://www.evorix.jp/zh/copyright-service)相关事宜[。](https://www.evorix.jp/zh/trademark-service) ### ③ 商业化与共创的风险对策｜FTO调查、保密协议（NDA）、共同开发 CEATEC的主题是“共创”。随着与其他公司开展共同开发和合作，诸如“是否侵犯了其他公司的专利”、“共同开发产生的发明归谁所有”、“保密协议（NDA）应保护哪些内容”等议题变得愈发重要。我们将通过先行技术调查、侵权预防调查（FTO调查）以及针对保密协议（NDA）和共同开发合同的知识产权梳理，为开发及合作时的决策提供支持。关于FTO调查的具体实施方法，请参阅《什么是FTO调查[？预防专利侵权的实施方法与时机》](https://www.evorix.jp/zh/blog/他社の特許を侵害してるかもアプリリリース前にやるべき-侵害予防調査fto-完全ガイド)一文。 ### ④ 着眼于海外拓展的申请战略｜PCT·马德里协定·海牙协定·补助金 CEATEC 2026将汇聚来自31个国家和地区的194家海外参展企业及机构。正因为这是与海外企业对接的平台，因此事先规划“在哪些国家、按什么顺序、以多少费用进行申请”至关重要。[我们将为您提供从PCT国际专利申请](https://www.evorix.jp/zh/pct)、[马德里体系下的国际商标申请](https://www.evorix.jp/zh/madrid-protocol-trademark)[、海牙体系下的国际外观设计申请的](https://www.evorix.jp/zh/hague-design-application)运用，到[外国申请补贴申请](https://www.evorix.jp/zh/inpit-foreign-filing-subsidy)的全方位支持。各国的制度信息已[汇总在国际知识产权中心](https://www.evorix.jp/zh/international)。 ### ⑤ AI起草×专利代理人审核 这是一项由专利代理人对生成式AI撰写的发明提案书及专利说明书草稿进行审核、修改，并完善至可申请状态的服务。目前，“虽然让AI写了草稿，但不确定这样直接申请是否可行”的反馈正急剧增加。AI生成的草稿即使结构完整，也常存在权利要求范围过窄、未满足支持要件，或未能说明与现有技术差异等问题。在展位上，我们将通过实际案例说明应检查哪些部分以及如何修改。 **从构思阶段到获得专利权及运用：**知识产权事务所EVORIX将伴随您的业务成长，从创意阶段到申请、获得专利权，再到许可及侵权应对等运用环节，全程提供支持。欢迎[了解我们面向初创企业](https://www.evorix.jp/zh/startup)[及制造业](https://www.evorix.jp/zh/manufacturing)[的服务](https://www.evorix.jp/zh/startup)。 ## 3. 在CEATEC 2026展位可免费领取的6种资料 在展位上，我们将免费提供由专利代理人撰写的以下资料。您也可以从CEATEC官方参展商页面下载。 | 资料名称 | 内容·适合人群 | | --- | --- | | **《2026年日本专利申请指南》** | 申请流程、费用与减免、通过审查的方法、软件/AI专利、失败案例、检查清单。“在公开前提交”、“审查请求的3年期限”、“审查意见通知书发出后30天内的分案决定”等一系列期限与判断要点汇编于一册。 | | **《2026年外国商标申请指南》** | 主要10个国家和地区的制度比较／马德里协定的使用方法／申请前检查清单／失败案例集。商标遵循各国“先申请先得”原则。系统梳理了海外拓展前应掌握的关键要点。 | | **科技企业的专利，其核心内容。** | 从20项SaaS、AI、IoT、金融科技、游戏领域的已注册专利中学习“权利确立的模式”。通过“权利要求1的要点”、“权利确立的理由”以及“如何应用于本公司的思考”这三个维度，解读真实已注册专利的实例集。 | | **新产品·新服务的知识产权检查清单** | 针对上市前、上市中、上市后三个阶段，为保护技术、设计、品牌，防止仿冒和纠纷而制定的确认项目。 | | **面向参展企业的知识产权检查清单** | 展会极易成为“技术外泄与仿冒的起点”。需确认参展前的预先申请、其他公司权利的清查以及防仿冒对策这三点。这是一份特别希望CEATEC参展商们阅读的指南。 | | **EVORIX宣传册** | 从IT、AI、软件专利到商标、外观设计及海外申请，全面展示本事务所的服务体系。 | ## 4. 欢迎以下人士莅临CEATEC 2026展位 提到知识产权咨询，人们往往认为“应该是在决定申请专利之后才去咨询”，但实际上，**在决定之前**就进行咨询，不仅选择更多，还能节省费用。符合以下情况的人士，请务必光临我们的展位。 - **正在筹备新业务或新服务的人士**：我们将结合已注册专利的实例，当场解答“我们的服务能否申请专利”这一问题。 - **正在开发AI、SaaS、IoT产品的工程师及产品经理**：我们将结合架构图，帮助您梳理算法、数据及UI中哪些部分应申请专利保护。 - **正在CEATEC展会上考虑与其他公司开展共创或合作的人士**：我们将为您讲解保密协议（NDA）和共同开发合同中应包含的知识产权条款，以及是否需要进行FTO调查。 - **计划与海外参会者及企业进行商务洽谈的人士**：我们将针对不同国家，就商务洽谈前是否需要采取海外专利申请或商标抢注等措施提供建议。 - **尝试利用生成式AI起草专利申请草稿的人士**：若您能携带草稿前来，我们将从专利代理人的角度指出需要修改之处（同时会妥善处理保密事宜）。 - **本次参展CEATEC的企业代表**：欢迎就参展技术的公开与新颖性之间的关系、展会期间如何应对仿冒及拍照等问题，咨询展会特有的知识产权风险。 **咨询时的注意事项：**展位是人流密集的场所。关于发明的核心内容或尚未公开的技术细节，请勿在展位上随意交谈，而应在单独的会议室或通过线上会议（第6章）向我们说明。向不特定人群透露未公开的技术本身，就可能影响其新颖性。 ## 5. 关于CEATEC 2026｜主题“Transformation”与举办规模 CEATEC于2000年举办首届展会，在作为数码家电博览会发展之后，于2016年宣布“摆脱家电博览会”的定位，转型为以实现“Society 5.0”为目标、基于“CPS/IoT”与“共创”的数字创新综合展会。自2024年起，该展会与Japan **Mobility Show** Bizweek合并举办，2026年将是合并举办的第二届。主办方为一般社团法人电子信息技术产业协会（JEITA），协办方为信息通信网络产业协会（CIAJ）和软件协会（SAJ）。 本届展会为第27届，**主题定为“Transformation——企业、产业及社会的变革——”**。本届展会不仅是一个展示卓越技术与构想的平台，更将作为“提升变革价值、加速社会应用的平台”举办。根据主办方（2026年10月6日）公布的信息，展会规模如下： | 项目 | CEATEC 2026 | CEATEC 2025（实际数据） | | --- | --- | --- | | 参展商数量 | **821家企业和团体**（其中首次参展338家，首次参展率41%） | 810家企业和机构 | | 初创企业及大学研究机构 | **246家企业和机构**（创2014年以来新高） | 232家企业和机构 | | 海外参展商 | **来自31个国家和地区的194家企业和机构** | 来自29个国家和地区的156家企业和机构 | | 会议 | 229场会议（含路演等） | ― | | 预计参观人数 | 4天内超过11万人 | ― | 展区分为“一般展区”、“X（Transformation）园区”、“下一代园区”和“全球园区”四大区域。初创企业及大学研究机构的参展数量创历史新高，海外参展商也大幅增加。也就是说，今年CEATEC将**汇聚持有尚未完成专利申请技术的企业与海外参与者**。从知识产权的角度来看，这既是绝佳的交流机会，也是技术外泄和被抢先申请风险最高的4天。 ## 6. CEATEC 2026的参观注册、交通指南及会议预约 ### 参观注册（免费·需提前注册） 虽然入场免费，但所有参观者均需注册方可入场。通过CEATEC官网的参观预注册页面完成注册后，系统将发放入场证（PDF）或二维码。请打印入场证并随身携带，或在会场内的领取柜台出示二维码以领取参观者胸卡。一次注册即可在展会期间的4天内全程入场，展会期间也可通过网络进行当日注册。参加会议讲座需与参观注册分开进行预先预约。 参观预注册：[CEATEC 2026 参观注册页面](https://www.ceatec.com/ja/about/registration.html) ### 交通指南 - **电车**：从JR京叶线“海滨幕张站”步行5分钟。从JR总武线、京成线“幕张本乡站”乘坐巴士15分钟。 - **巴士**：展会期间将从东京站、横滨站等地发车临时直达巴士。部分从机场发车的高速巴士也将直达“幕张展览馆中央”。 - **自驾**：从东关东高速公路“湾岸习志野IC”、“湾岸千叶IC”以及京叶道路“幕张IC”出发，约5分钟车程。 ### 前往5号展厅·5H431展位的路线 CEATEC 2026的展览会场位于幕张展览馆国际展示场的4号至8号展厅。EVORIX的5H431展位位于5号展厅的普通展示区，在5号展厅内靠近6号展厅的区域（5H430～5H440区块）。由于5号馆内设有主办方展区“生活数字化转型展区”（5H314）及X舞台，建议您以X公园和X舞台为地标前往，这样更容易找到。[会场地图请查阅CEATEC官方网站的会场地图](https://www.ceatec.com/ja/exhibition/map.html)。 ### 会议预约（幕张会场·线上） 您可通过CEATEC官方参展商页面预约**在幕张会场的**面对面会议或在线会议。如果您认为“在展位上简短交谈无法深入讨论内容”，或者“希望就尚未公开的技术进行咨询”，请利用会议预约服务。即使无法在展会期间亲临会场，您也可以通过在线方式咨询专利代理人。 会议预约·咨询方式 CEATEC官方参展商页面：[EVORIX株式会社 参展商详情（会议预约请点击“查看受理日程”）](https://www.ceatec.com/nj/exhibitor_detail_ja?id=305) 电话：06-7777-1884 网站：[咨询表单](https://www.evorix.jp/zh/inquiry)（展会前后也可通过此处咨询） ## 7. CEATEC参展商及参观者的知识产权检查｜新颖性、可实施性、防仿冒的3个要点 最后，为了避免仅止步于宣传，我们将所有参展及参观CEATEC的人士都应了解的知识产权基础知识总结为以下三点。这也是本事务所分发的《面向展会参展企业的知识产权检查清单》的核心要点。 ### 要点1：在展会上公开展示将导致“丧失新颖性” 专利和外观设计以“新颖性”为注册条件。在展会展位上展示产品、进行演示、分发宣传册——这些行为均属于专利法和外观设计法所规定的“公知”状态，原则上，若在此之后提交申请，将因缺乏新颖性而被驳回。日本虽设有丧失新颖性的例外规定（《专利法》第30条、《外观设计法》第4条），若在公开后1年内办理规定手续即可获得救济，但这终究只是“救济”手段，并非标准途径。**此外，部分国家没有类似的救济措施，或救济范围较窄**，因此即使在日本适用例外规定，也可能无法在国外获得权利保护。 **原则：**参展的技术或设计，应在参展前先行申请专利。若已公开，则须在公开之日起1年内，尽快办理适用例外规定的申请手续。具体手续详见[《申请发明新颖性丧失例外规定的程序》及](https://www.evorix.jp/zh/blog/-弁理士が解説-発明の新規性喪失の例外規定の適用を受けるための手続とは公開後でも特許を取る方法と注意点)[《外观设计新颖性丧失例外》](https://www.evorix.jp/zh/blog/-弁理士が解説-意匠の新規性喪失の例外とは適用手続と令和6年改正を網羅)的说明。 ### 要点2：确认是否侵犯他方权利 展会是竞争对手的知识产权负责人也会到场的场所。如果参展产品侵犯了其他公司的专利、外观设计或商标，可能会在展会期间收到警告，最坏的情况下甚至会被要求停止展示。在海外展会上，也曾发生过在会场内直接执行禁令的案例。建议在参展前，对参展产品进行现有技术调查及侵权预防调查（FTO调查），并提前完成产品名称及服务名称的商标调查。特别是若计划在CEATEC上首次披露新的服务名称或品牌名称，若**能在披露前提交商标申请**，可降低被其他公司抢先申请的风险。 ### 要点3：防仿冒措施与证据收集机制 展会很容易成为“技术泄露和模仿的起点”。制定展位内拍照、录像的规则，预先确定宣传资料中技术信息的披露深度，以及在与交换名片的人进行商务洽谈前签订保密协议（NDA）等运营措施都非常有效。此外，为应对展会期间在其他公司展位发现与本公司产品相似的产品的情况，若能预先制定拍摄、记录及获取资料的流程，将有助于日后行使权利或提出异议时作为证据。关于海外展会的更详细对策，[在《汉诺威工业博览会参展不失败的知识产权战略](https://www.evorix.jp/zh/blog/hannover-messe-ip-strategy)》中亦有详细讲解。 | 时机 | 需确认的事项 | | --- | --- | | **参展前** | 参展技术及设计专利申请／产品名称、服务名称的商标调查与申请／第三方权利清查（FTO调查）／确定宣传资料中技术信息的披露范围／制定拍摄规则及准备保密协议（NDA）模板 | | **展会期间** | 不要在闲聊中讨论未公开技术／与商谈对象交换信息须以签署保密协议为前提／发现类似产品时应拍照、记录并获取资料／收到警告后应立即联系专利代理人 | | **展会结束后** | 若有已公开的技术，应在1年内附带例外条款进行申请／考虑向商谈进展顺利的国家提交海外申请（PCT、马德里协定、海牙协定）／确认外国申请补助金的申请时间表 | ## 8. CEATEC 2026 常见问题（FAQ） 现将关于CEATEC 2026参会及EVORIX展位的常见问题汇总如下。 Q. CEATEC 2026的会期和举办时间是？ A. 2026年10月13日（周二）至16日（周五）共4天，每天10:00～17:00。会场位于千叶县幕张展览馆（千叶市美滨区中濑2-1）。 Q. CEATEC 2026的入场费是多少？ A. 入场免费。但因实行全场来宾注册入场制，需在CEATEC官方网站进行参观预先注册。凭注册后发放的入场证或二维码，可在展会4天期间内随时入场。 Q. EVORIX（知识产权事务所EVORIX）的展位位于何处？ A. 位于5号馆的普通展区，展位号为5H431。在5号馆内，该展位靠近6号馆的一侧。您可通过CEATEC官网的参展商页面确认展位位置并预约会面。 Q. 在展位咨询需要预约吗？需要收费吗？ A. 无需预约即可在展位进行咨询。咨询免费。若涉及未公开技术等复杂内容，请通过CEATEC官方参展商页面预约在幕张会场进行的面对面或在线会议。 Q. 如果在CEATEC上展示参展技术，是否就无法获得专利了？ A. 原则上，在展会上公开的发明和设计将丧失新颖性，此后提交的专利申请将被驳回。在日本，如果在公开后1年内办理适用“丧失新颖性例外规定”的手续，可以获得救济；但在海外，有些国家并不提供此类救济。建议您在参展前提交专利申请。 Q. 无法亲临会场的情况下也能咨询吗？ A. 可以。您可通过CEATEC官方参展商页面预约在线会议。展会期间及前后，您也可通过本事务所的咨询表单或电话（06-7777-1884）进行咨询。 ## 总结 知识产权事务所EVORIX（株式会社EVORIX）将于2026年10月13日（周二）至16日（周五）的4天内，参加在幕张展览馆举办的CEATEC 2026展会。**展位位于5号馆·5H431**（一般展示区）。本展以“将技术转化为业务优势”为理念，围绕尖端技术权利化、技术·设计·品牌的统一保护、商业化与共创的风险对策、着眼于海外拓展的申请战略，以及AI起草×专利代理人审核这五大主题，由精通技术的专利代理人直接解答开发现场的疑问。 本届CEATEC汇聚了821家企业和机构，初创企业及大学研究机构的参展数量创历史新高，来自31个国家和地区的海外参展商也多达194家。这里既是共创与交流的平台，从知识产权角度来看，这四天也是技术外泄和被抢先申请风险最高的时期。请务必在参展前确认“申请专利”、“清查他方权利”及“防范仿冒”这三点，届时让我们在会场相见。我们衷心期待各位的光临。 ### 我们在CEATEC 2026 5号展厅·5H431等候您的光临 “这能申请专利吗？”“是否存在其他公司的权利问题？”“进军海外前该做些什么？”“请帮我看看AI生成的说明书”——请将开发一线的疑问直接向通晓技术的专利代理人提出。无法亲临会场的来宾，可通过在线会议或咨询表单与我们联系。首次咨询免费。 [CEATEC官方参展商页面（会议预约）](https://www.ceatec.com/nj/exhibitor_detail_ja?id=305) [申请免费咨询](https://www.evorix.jp/zh/inquiry) ## 来源与参考文献 本文基于以下资料编写（均于2026年10月查阅）。各项目均注明了作为正文相关表述依据的来源。 ### 主办方及官方网站资料 1. **CEATEC 2026 举办概要（CEATEC运营事务局）／会期**、会场、入场制度、主办方／联合主办方、同期活动、举办主题（第1章、第5章）的依据。 [https://www.ceatec.com/ja/about/](https://www.ceatec.com/ja/about/) 2. **新闻稿《CEATEC 2026将于10月13日在幕张展览馆开幕，今年主题为“Transformation”，共有来自国内外821家企业和团体参展》（JEITA，2026年10月6日）**／参展商数量、新参展商数量、初创企业参展数量、海外参展商数量、会议数量、预计参观人数、CEATEC发展历程（第5章）的依据。 [https://www.ceatec.com/ja/news/detail.php?id=26](https://www.ceatec.com/ja/news/detail.php?id=26) 3. **CEATEC 2026 参展商详情“EVORIX股份有限公司”（CEATEC官方网站）**／展位号、展区、亮点、卖点、宣传资料、会议预约（第1～3章、第6章）的依据。 [https://www.ceatec.com/nj/exhibitor\_detail\_ja?id=305](https://www.ceatec.com/nj/exhibitor_detail_ja?id=305) 4. **CEATEC 2026 参观注册页面（CEATEC运营事务局）**／参观预注册方法、入场证与二维码、现场注册、会议预约（第6章）的依据。 [https://www.ceatec.com/ja/about/registration.html](https://www.ceatec.com/ja/about/registration.html) 5. **CEATEC 2026 会场地图（CEATEC运营事务局）**／使用展厅（4～8）及5H431展位位置（第6章·常见问题解答）的依据。 [https://www.ceatec.com/ja/exhibition/map.html](https://www.ceatec.com/ja/exhibition/map.html) 6. **CEATEC 2026 交通指南（CEATEC运营事务局）**／最近车站、公交及自驾交通方式（第6章）的依据。 [https://www.ceatec.com/ja/access/](https://www.ceatec.com/ja/access/) ### 法律法规及公共机构资料 1. **《专利法》第29条、第30条，《外观设计法》第3条、第4条（e-Gov法令检索）**／新颖性要件及丧失新颖性的例外（自公开之日起1年内）（第7章要点1）的依据。 [https://laws.e-gov.go.jp/law/334AC0000000121](https://laws.e-gov.go.jp/law/334AC0000000121) 2. **《申请人适用发明新颖性丧失例外规定的指南》（专利局）**／例外规定适用程序及关于在国外可能无法获得救济的注意事项（第7章要点1）的依据。 [https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/hatumei\_reigai.html](https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/hatumei_reigai.html) ※本文基于上述资料，以2026年10月时的信息为依据，旨在提供一般性信息。CEATEC 2026的举办内容及参会注册方式可能会根据主办方的判断进行变更。对于知识产权个别案件的具体判断，建议咨询专业人士。 スタートアップ, 中小企業, お知らせ, 知財戦略, AI --- [![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png "知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登")](https://www.evorix.jp) Intellectual Property Law Firm EVORIX   4th Floor, Qus-Hiranomachi Building, 3-1-2 Hiranomachi, Chuo-Ku, Osaka-shi, Osaka 541-0046 Japan Mail: [contact@evorix.jp](mailto:contact@evorix.jp) TEL: +81-6-7777-1884 - 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