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title: 南非商标制度概述｜专利代理人解读CIPC、必须直接申请及撒哈拉以南最大市场 | EVORIX
description: 专利代理人详解南非商标制度。本文系统梳理了日本企业进军非洲所需的信息，涵盖CIPC管辖范围、尼斯分类、因未加入《马德里协定》而必须直接申请，以及作为撒哈拉以南最大经济圈的重要性等内容。
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 2026/05/22

# 南非商标制度概述

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**本記事のポイント**：🇿🇦 南アフリカは先願主義（コモンロー上の先使用権あり）を採用しており、**マドプロ未加盟のため直接出願が必須**。南アフリカ進出を検討中の企業様は、出願戦略を早めに立てることが重要です。

目次

1. [制度の基本情報](https://www.evorix.jp/zh/blog/south-africa-trademark-system#a1)
2. [出願・審査・登録の流れ](https://www.evorix.jp/zh/blog/south-africa-trademark-system#a2)
3. [南アフリカ商標制度の特徴・重要ポイント](https://www.evorix.jp/zh/blog/south-africa-trademark-system#a3)
4. [実務上の注意点](https://www.evorix.jp/zh/blog/south-africa-trademark-system#a4)
5. [まとめ](https://www.evorix.jp/zh/blog/south-africa-trademark-system#a5)

## 1. 制度の基本情報

南アフリカの商標制度は、以下のような特徴を持っています。

| 項目 | 南アフリカの制度 |
| --- | --- |
| **所管官庁** | Companies and Intellectual Property Commission (CIPC) |
| **根拠法** | Trade Marks Act 194 of 1993 |
| **商品・役務分類** | ニース分類（マルチクラス出願可） |
| **採用主義** | 先願主義（コモンロー上の先使用権あり） |
| **マドリッド議定書** | **マドリッド議定書未加盟**（直接出願が必要） |
| **標準審査期間** | 約12〜18ヶ月（バックログによる） |
| **異議申立期間** | 公告から3ヶ月 |
| **保護期間・更新** | 10年（更新可能） |
| **公的料金（参考）** | 出願料 1区分 ZAR 590〜 |

## 2. 出願・審査・登録の流れ

南アフリカでの商標登録までの一般的な流れは以下の通りです。

1

事前調査

先行類似商標の有無をCompanies and Intellectual Property Commission (CIPC)データベース等で調査

2

出願

現地代理人を通じた直接出願が必要

3

方式・実体審査

約12〜18ヶ月（バックログによる）程度をかけて絶対的・相対的拒絶理由を審査

4

公告・異議申立

公告3ヶ月内に第三者が異議申立可能

5

登録

登録料納付により商標権が発生（保護期間：10年）

## 3. 南アフリカ商標制度の特徴・重要ポイント

南アフリカ制度の主な特徴

- **マドプロ未加盟**のため、必ず直接出願が必要（重要）
- **11の公用語**：ズールー語、コサ語、英語、アフリカーンス語など
- **絶対的＋相対的拒絶**の両方を審査
- **5年不使用取消**：登録から5年不使用で取消対象
- **コモンロー上のpassing off**でも未登録商標が一定保護される

## 4. 実務上の注意点

南アフリカ進出時の留意事項

- **サブサハラ・アフリカ最大経済圏**（GDP）
- **マドプロ未加盟**のため、現地代理人を通じた直接出願が必須（コスト・期間に影響）
- **パリ条約優先権**主張可能（日本出願から6ヶ月以内）
- 南アフリカ共和国＋ARIPO・OAPIで**アフリカ全体の出願戦略**を組むのが効率的

## 5. まとめ

南アフリカは**先願主義（コモンロー上の先使用権あり）**を採用し、Companies and Intellectual Property Commission (CIPC)が商標出願・審査を所管しています。**マドリッド議定書未加盟**のため、現地代理人を通じた直接出願が必要となります。

南アフリカ市場へのブランド進出を検討されている企業様は、出願戦略の早期構築が重要です。EVORIXでは南アフリカを含む各国商標出願をワンストップでサポートしています。

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AUTHOR / 執筆者

杉浦 健文

知的財産事務所EVORIX（EVORIX）　**代表弁理士**

特許・商標・意匠・著作権の出願から審判・侵害訴訟まで、各国の知財実務に精通。**日本弁理士会／アジア弁理士協会（APAA）／日本商標協会（JTA）**等所属。

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 2025/03/17

什么是信息提供系统？ 信息提供系统是向审查员和审判法官提供与专利申请相关的发明是否缺乏新颖性或创造性的信息的系统。利用该系统，可以防止无效专利的成立，维护公平的市场竞争环境。

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```json
{
  "@context" : "https://schema.org",
  "@type" : "BlogPosting",
  "author" : {
    "@type" : "Person",
    "name" : "弁理士 杉浦健文",
    "url" : "https://www.evorix.jp/zh/blog/author/takefumi-sugiura"
  },
  "dateModified" : "2026-05-22T03:55:04.452Z",
  "datePublished" : "2026-05-22T03:55:04.000Z",
  "headline" : "南非商标制度概述｜专利代理人解读CIPC、必须直接申请及撒哈拉以南最大市场 | EVORIX",
  "image" : [ "https://www.evorix.jp/hubfs/Gemini_Generated_Image_h7blsyh7blsyh7bl.jpg" ],
  "mainEntityOfPage" : {
    "@id" : "https://www.evorix.jp/zh/blog/south-africa-trademark-system",
    "@type" : "WebPage"
  },
  "publisher" : {
    "@type" : "Organization",
    "logo" : {
      "@type" : "ImageObject",
      "url" : "https://www.evorix.jp/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png"
    },
    "name" : "知的財産事務所エボリクス"
  }
}
```