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title: 展会及活动参展业绩｜CEATEC、STARTUP JAPAN EXPO 等｜EVORIX 知识产权事务所
description: 知识产权事务所EVORIX（株式会社EVORIX）的展会及活动参展记录。本文将介绍该事务所参加CEATEC 2026（幕张展览馆）、STARTUP JAPAN EXPO 2025 in 大阪、新事业周2026【大阪】的参展及研讨会演讲情况，以及对海外展会的考察情况。
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# 展会及活动参展记录

我们通过参加国内外展会，将保护技术、设计和品牌的知识产权战略直接传递到研发和业务一线。

知识产权事务所EVORIX（EVORIX股份有限公司）参加了汇聚初创企业、制造业及IT企业的展会，通过展位上的免费咨询及在研讨会上的演讲，提供知识产权实务信息。对于在展会上结识的企业，我们从申请到权利运用全程提供持续支持。

## 计划参展

2026

11月18日（周三）至20日（周五）

参展研讨会演讲

### 2026年新业务周【大阪】

大阪INTEX 6号馆（主办：RX Japan有限责任公司）

除了参展外，我们还将于11月18日（周三）13:00起，在题为“您的新业务会被模仿吗？通过知识产权战略（专利、商标、外观设计、专有技术、海外知识产权等）建立竞争优势”的研讨会上发表演讲。负责新业务及开放式创新的各位，欢迎莅临我们的展位。

[官方网站 →](https://www.mgmt-expo.jp/osaka/ja-jp.html)

## 参展记录

2026

10月13日（周二）至16日（周五）

参展

### CEATEC 2026（CEATEC 2026）

幕张展览中心 5号馆・5H431展位（主办：一般社团法人电子信息技术产业协会）

以“将技术转化为业务优势”为理念，我们介绍了五大主题：尖端技术的专利化、技术·设计·品牌的综合保护、商业化与共创的风险对策、着眼于海外拓展的申请战略，以及AI起草×专利代理人审核。现场分发了《2026年日本专利申请指南》、《2026年外国商标申请指南》等6种资料。在为期4天、吸引超过11万人次到场的会场中，我们收到了来自AI、IoT及制造业企业开发负责人的大量咨询。

[阅读参展指南 →](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition)

2025

12月17日（周三）・18日（周四）

参展

### 2025年大阪STARTUP JAPAN EXPO

大阪MyDome（主办：Sansan株式会社）

我们以“专利·商标·免费咨询”为主题参展。本次展会与“制造业AI·数字化转型博览会”及“物流与供应链管理变革技术博览会”同期举办，我们收到了来自关西地区初创企业经营者及业务负责人的大量具体咨询，内容包括“新服务的商标应何时注册”、“如何通过专利保护自有技术”以及“着眼于海外拓展的知识产权战略”等。

[阅读参展报告 →](https://www.evorix.jp/zh/blog/-%E5%87%BA%E5%B1%95%E5%A0%B1%E5%91%8A-startup-japan-expo-2025-in-%E5%A4%A7%E9%98%AA%E9%96%A2%E8%A5%BF%E3%82%B9%E3%82%BF%E3%83%BC%E3%83%88%E3%82%A2%E3%83%83%E3%83%97%E3%81%AE%E7%86%B1%E6%B0%97%E3%81%AB%E8%A7%A6%E3%82%8C%E3%81%9F2%E6%97%A5%E9%96%93)

## 海外展会考察

2026

4月21日（周二）至24日（周五）

考察

### 2026年汉诺威工业博览会（HANNOVER MESSE 2026）

德国汉诺威国际展览中心

我们实地考察了全球规模最大的产业技术博览会，了解了工业4.0、人工智能、氢能等最新技术动向，并确认了参展企业面向欧洲市场所采取的知识产权对策（包括丧失新颖性、仿冒及侵犯他人专利的风险）。我们将此次考察所得的见解，应用于为计划参加海外展会的客户提供事前的知识产权战略建议。

[阅读相关文章 →](https://www.evorix.jp/zh/blog/hannover-messe-ip-strategy)

## 致参展及参观展会的人士｜参展前的3项知识产权检查事项

POINT 1

在展览中公开展出意味着“新颖性的丧失”

专利和外观设计如果在申请前进行展示、分发或演示，原则上将无法获得注册。请在展会开始前就对参展的技术和设计提交申请。日本的例外规定（《专利法》第30条）仅作为补救措施，而有些国家则没有此类补救措施。

POINT 2

第三方权利的 clearance

在参展前，若对拟展示的产品或服务是否侵犯了其他公司的专利、商标或外观设计进行调查（FTO调查），即可避免在展会现场收到警告或发生纠纷。

POINT 3

防仿冒措施与信息管理

在前往会场之前，请先明确关于拍摄及带走样品的规定、保密协议（NDA）的准备工作，以及可公开信息与需保密信息（专有技术）的界限。

[详情请参阅CEATEC参展指南中的“知识产权检查”部分。 →](https://www.evorix.jp/zh/blog/ceatec-2026-exhibition)

## 让我们在展会上见面吧／我们也提供参展前的咨询服务

关于参展前的申请、清关调查及防仿冒对策的咨询，首次咨询免费。展会期间的展位参观预约及在线咨询，也欢迎随时联系。

[申请免费咨询](https://www.evorix.jp/zh/inquiry)

[申请业绩](https://www.evorix.jp/zh/results) ｜ [演讲·研讨会](https://www.evorix.jp/zh/seminar) ｜ [专利申请服务](https://www.evorix.jp/zh/patent-service)

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