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지적재산권 사무소 EVORIX(주식회사 EVORIX)는 2026년 10월 13일(화)부터 16일(금)까지 마쿠하리 메세에서 개최되는 CEATEC 2026(시테크 2026)에 참가합니다.부스는 홀 5·일반 전시 구역의 ‘5H431’입니다. AI·소프트웨어·IoT부터 제조에 이르기까지, 기술·디자인·브랜드를 보호하는 지식재산 전략을 기술을 이해하는 변리사가 직접 안내해 드립니다.
“이 기능은 특허로 등록할 수 있을까?”, “타사의 권리를 침해하고 있지 않을까 걱정된다”, “해외 진출 전에 무엇을 출원해야 할까?”, “생성형 AI로 작성한 명세서 초안을 전문가에게 검토받고 싶다”──이러한 개발 현장의 궁금증을 부스에서 직접 물어보세요.이 기사에서는 전시 개요, 부스에서 소개할 5가지 주제, 가져가실 수 있는 자료, 방문 및 미팅 예약 방법, 그리고 전시회에 관련된 모든 분들이 알아두셨으면 하는 지식재산권 주의사항을 정리했습니다.
이 기사의 핵심
- 전시 기간은 2026년 10월 13일(화)~16일(금) 4일간, 10:00~17:00입니다. 장소는 마쿠하리 멧세이며, EVORIX 부스는 홀 5 ‘5H431’(일반 전시 구역)에 위치합니다.
- 부스에서는 ‘첨단 기술의 권리화’, ‘기술·디자인·브랜드의 일괄 보호’, ‘사업화·공동 창조의 리스크 대책’, ‘해외 진출을 염두에 둔 출원 전략’, ‘AI 초안 작성 × 변리사 검토’의 5가지 주제를 소개합니다.
- ‘일본 특허 출원 가이드북 2026’, ‘외국 상표 출원 가이드북 2026’, ‘테크 기업의 등록 특허 20건 실례집’ 등 6종류의 자료를 무료로 배포합니다.
- 입장은 무료이지만 모든 방문객은 사전 등록이 필수입니다. 행사 기간 중에는 마쿠하리 행사장 또는 온라인 미팅 예약도 접수하고 있습니다.
- 전시회에서 기술을 공개하는 것은 특허·디자인의 ‘신규성’을 상실시키는 행위입니다. 출품 전 출원, 타사 권리에 대한 클리어런스, 모방 대책의 3가지는 모든 출품자에게 공통적으로 적용되는 필수 점검 사항입니다.
목차
- CEATEC 2026 참가 개요｜기간·장소·부스 번호 5H431
- CEATEC 2026 EVORIX 부스에서 소개하는 5가지 테마
- CEATEC 2026 부스에서 받아 가실 수 있는 6가지 자료
- CEATEC 2026에서 다음과 같은 분들은 꼭 부스에 들러 주세요
- CEATEC 2026이란｜테마 ‘Transformation’과 개최 규모
- CEATEC 2026 관람 등록·오시는 길·미팅 예약
- CEATEC 참가업체·방문객을 위한 지식재산권 점검｜신규성·클리어런스·모방 대책의 3가지 핵심
- CEATEC 2026 자주 묻는 질문(FAQ)
- 정리
- 출처·참고문헌
1. CEATEC 2026 참가 개요｜기간·장소·부스 번호 5H431
먼저 전시회 기본 정보입니다. 행사장인 마쿠하리 멧세는 JR 게이요선·카이힌마쿠하리역에서 도보 5분 거리입니다. EVORIX 부스는 일반 전시 구역의 5홀에 위치해 있습니다.
| 항목 | 내용 |
|---|---|
| 전시회명 | CEATEC 2026(시텍 2026) |
| 기간 | 2026년 10월 13일(화) ~ 16일(금) 10:00 ~ 17:00 |
| 장소 | 마쿠하리 메세(지바현 지바시 미하마구 나카세 2-1) |
| 출품사명 | 주식회사 EVORIX(지적재산 사무소 EVORIX) |
| 전시 구역 | 일반 전시(General Exhibits) |
| 홀·부스 번호 | 홀 5, 5H431 |
| 입장료 | 무료 (모든 방문객 등록 입장제·사전 등록 필수) |
| 출품사 페이지 | CEATEC 공식 사이트 주식회사 EVORIX 참가사 상세 정보 |
부스 콘셉트 “그 기술을 사업의 강점으로.”
AI·소프트웨어·IoT부터 제조에 이르기까지, 기술·디자인·브랜드를 보호하는 지식재산 전략을 소개합니다. 특허·상표·디자인·노하우를 결합하여 사업화·공동 창조·해외 진출을 지원합니다. “이걸 특허로 등록할 수 있을까?”, “타사의 권리는 괜찮을까?” 등 개발 현장의 궁금한 점은 변리사에게 상담해 주십시오. AI 초안 검토 서비스도 안내해 드립니다.
2. CEATEC 2026 EVORIX 부스에서 소개하는 5가지 테마
지식재산 사무소 EVORIX는 스타트업부터 중소기업·제조업에 이르기까지, 기술과 사업을 이해하는 변리사가 지식재산 전략을 원스톱으로 지원하는 사무소입니다. CEATEC 2026 부스에서는 다음 5가지 주제를 중심으로 상담을 진행합니다.
① 첨단 기술의 권리화｜AI·생성 AI·소프트웨어·SaaS·IoT
AI·생성형 AI·소프트웨어·SaaS·IoT 등의 발명을 정리하고, 사업을 고려한 특허 출원을 지원합니다.“학습 데이터·모델·프롬프트·출력 중 어느 레이어를 권리화할 것인가”, “UI의 움직임은 이미지 디자인으로 보호할 수 있는가”와 같은 테크 기업 특유의 논점을 전문으로 다룹니다. 자세한 내용은 특허 출원 서비스와 IT·소프트웨어 지식재산 포털을 참조해 주십시오. 관련 기사로서 AI 서비스 특허 출원 체크리스트도 공개하고 있습니다.
② 기술·디자인·브랜드를 종합적으로 보호
특허·상표·디자인·저작권·영업비밀을 조합하여 제품·서비스에 적합한 보호 방안을 제안합니다. 예를 들어 “알고리즘은 특허, 화면은 이미지 디자인, 서비스명은 상표, 소스 코드는 저작권과 영업비밀”과 같이, 하나의 제품을 여러 권리로 다층적으로 보호하는 설계입니다.상표 등록 서비스·디자인 등록 서비스·저작권 서비스·부정경쟁방지법 대응을 하나의 창구에서 상담하실 수 있습니다.
③ 사업화·공동창조의 리스크 대책｜FTO 조사·NDA·공동개발
CEATEC의 주제는 ‘공동 창조’입니다. 타사와의 공동 개발이나 제휴가 진행될수록 ‘타사의 특허를 침해하고 있지 않은가’, ‘공동 개발을 통해 탄생한 발명은 누구의 것인가’, ‘NDA로 무엇을 보호할 것인가’와 같은 쟁점이 중요해집니다.선행기술 조사나 침해 예방 조사(FTO 조사), NDA·공동 개발 계약에 관한 지식재산권 정리를 통해 개발·제휴 시의 판단을 지원합니다. FTO 조사의 진행 방식은 ‘FTO 조사란? 특허 침해를 예방하는 진행 방식과 실시 시기’에서 해설하고 있습니다.
④ 해외 진출을 염두에 둔 출원 전략｜PCT·마드리드 협약·헤이그 협약·보조금
CEATEC 2026에는 31개국·지역에서 194개 기업·단체의 해외 참가자가 모입니다. 해외 기업과 만날 수 있는 자리인 만큼, ‘어느 나라에, 어떤 순서로, 얼마의 비용으로 출원할 것인가’를 사전에 설계해 두는 것이 중요합니다.PCT 국제특허출원, 마드리드 체제에 따른 국제상표출원, 헤이그 체제에 따른 국제디자인출원의 활용은 물론, 해외출원 보조금 신청까지 지원합니다. 각국의 제도는 국제지식재산 허브에 정리되어 있습니다.
⑤ AI 초안 × 변리사 검토
생성형 AI로 작성한 발명 제안서·특허 명세서 초안을 변리사가 확인·수정하여 출원을 위해 다듬어 드리는 서비스입니다. “AI로 작성해 보았지만, 이대로 출원해도 괜찮을지 모르겠다”는 목소리가 급증하고 있습니다.AI 초안은 구성이 잘 되어 있어도 청구항의 범위가 너무 좁거나, 지원 요건을 충족하지 못하거나, 선행 기술과의 차이점을 설명하지 못한 경우가 적지 않습니다. 부스에서는 어디를 확인하고 어떻게 수정해야 하는지 실제 사례를 바탕으로 설명해 드립니다.
구상 단계부터 권리화·활용까지: 지식재산 사무소 EVORIX는 아이디어 단계부터 출원·권리화, 라이선스·침해 대응과 같은 활용 단계에 이르기까지, 사업의 성장에 발맞춰 함께합니다. 스타트업 대상 서비스·제조업 대상 서비스도 확인해 주십시오.
3. CEATEC 2026 부스에서 받아 가실 수 있는 6종류의 자료
부스에서는 변리사가 집필한 다음 자료를 무료로 제공해 드립니다. CEATEC 공식 참가업체 페이지에서도 다운로드하실 수 있습니다.
| 자료명 | 내용·대상 |
|---|---|
| 일본 특허 출원 가이드북 2026 | 출원 절차·비용 및 감면·심사 통과 방법·소프트웨어/AI 특허·실패 사례·체크리스트. ‘공개 전에 출원하기’, ‘심사청구 3년’, ‘심사 결정 후 30일 이내의 분할 결정’ 등 기한과 판단에 관한 내용을 한 권에 담았습니다. |
| 해외 상표 출원 가이드북 2026 | 주요 10개국·지역의 제도 비교／마드리드 협약 활용법／출원 전 체크리스트／실패 사례집. 상표는 국가별로 ‘선착순’입니다. 해외 진출 전에 파악해야 할 핵심 사항을 정리했습니다. |
| 테크 기업의 특허, 그 실체. | SaaS·AI·IoT·핀테크·게임 분야의 등록 특허 20건을 통해 배우는 ‘권리화 패턴’. 실제 등록 특허를 청구항 1의 골자·권리화 이유·자사에 적용해 볼 질문이라는 3가지 관점에서 분석한 실례집. |
| 신제품·신서비스를 위한 지식재산 체크리스트 | 출시 전·출시 중·출시 후의 3단계에서 기술·디자인·브랜드를 보호하고, 모방 및 분쟁을 방지하기 위한 확인 항목. |
| 전시회 참가 기업을 위한 지식재산 체크리스트 | 전시회는 ‘기술 유출·모방의 발원지’가 되기 쉬운 장소입니다. 참가 전 사전 출원, 타사 권리에 대한 클리어런스, 모방 대책의 3가지를 확인합니다. CEATEC 참가자 여러분께서 꼭 읽어보셨으면 하는 자료입니다. |
| EVORIX 팸플릿 | IT·AI·소프트웨어 특허부터 상표·디자인·해외 출원에 이르기까지, 사무소의 서비스 전반을 소개합니다. |
4. CEATEC 2026에서 다음과 같은 분들은 꼭 부스에 들러 주세요
지식재산권 상담이라고 하면 ‘특허를 출원하기로 결정한 후에 가는 것’이라고 생각하기 쉽지만, 실제로는 결정하기 전 단계에서 상담을 받으시는 편이 선택의 폭이 넓고 비용도 절감할 수 있습니다. 다음과 같은 분들은 꼭 부스에 들러 주시기 바랍니다.
- 신규 사업·신규 서비스를 준비 중인 분: ‘우리 서비스는 특허가 될 수 있을까’라는 질문에, 등록된 특허 사례를 바탕으로 그 자리에서 바로 답변해 드립니다.
- AI·SaaS·IoT 제품을 개발 중인 엔지니어·프로덕트 매니저: 알고리즘·데이터·UI 중 어느 부분을 권리화해야 하는지, 구성도를 보며 정리해 드립니다.
- CEATEC에서 타사와의 공동 창조·제휴를 검토 중인 분: NDA·공동 개발 계약에서 반드시 포함해야 할 지식재산권 조항과 FTO 조사의 필요 여부에 대해 설명해 드립니다.
- 해외 방문객·기업과의 상담을 예정하고 계신 분: 상담 전에 해외 출원이나 상표 선점 대책이 필요한지, 국가별로 조언해 드립니다.
- 생성형 AI로 특허 초안을 작성해 보신 분: 초안을 지참해 주시면, 변리사의 관점에서 어떤 부분을 수정해야 하는지 알려드립니다(기밀 유지에 유의하겠습니다).
- 이번 CEATEC에 참가하는 기업 관계자분: 전시 기술의 공개와 신규성의 관계, 행사 기간 중 모방 및 사진 촬영에 대한 대응 등, 전시회 특유의 지식재산권 리스크에 대해 상담해 주십시오.
상담 시 부탁드리는 사항: 부스는 많은 분들이 오가는 장소입니다. 발명의 핵심이나 아직 공개하지 않은 기술의 세부 내용은 부스에서 서서 이야기하는 것이 아니라, 개별 회의실 또는 온라인 미팅(제6장)을 통해 말씀해 주시기 바랍니다. 공개하지 않은 기술을 불특정 다수에게 이야기하는 것 자체가 신규성에 영향을 미칠 수 있습니다.
5. CEATEC 2026이란｜테마 ‘Transformation’과 개최 규모
CEATEC은 2000년에 제1회가 개최되어 디지털 가전 박람회로 발전한 후, 2016년에 ‘가전 박람회 탈피’를 선언하고 Society 5.0의 실현을 목표로 하는 ‘CPS/IoT’와 ‘공동 창조’에 의한 디지털 혁신 종합 전시회로 전환했습니다.2024년부터는 Japan Mobility Show Bizweek와 공동 개최되며, 2026년은 그 두 번째 행사입니다. 주최는 일반사단법인 전자정보기술산업협회(JEITA), 공동 주최는 정보통신네트워크산업협회(CIAJ)와 소프트웨어협회(SAJ)입니다.
제27회를 맞이하는 이번 행사의 주제는 ‘Transformation – 기업, 산업, 그리고 사회가 변화한다 –’입니다.뛰어난 기술과 구상을 선보이는 장에 그치지 않고, ‘변혁의 가치를 높이고 사회적 구현을 가속화하는 장’으로서 개최됩니다. 주최 측 발표(2026년 10월 6일)에 따른 개최 규모는 다음과 같습니다.
| 항목 | CEATEC 2026 | CEATEC 2025(실적) |
|---|---|---|
| 참가 업체 수 | 821개사·단체(이 중 신규 참가 338개사·단체, 신규 참가율 41%) | 810개사·단체 |
| 스타트업·대학 연구기관 | 246개사·단체(2014년 이후 역대 최다) | 232개사·단체 |
| 해외 참가사 | 31개국·지역에서 194개 기업·단체 | 29개국·지역에서 156개 기업·단체 |
| 컨퍼런스 | 229개 세션(피치 이벤트 등 포함) | ― |
| 예상 방문객 | 4일간 11만 명 이상 | ― |
전시 구역은 ‘일반 전시’, ‘X(Transformation) 파크’, ‘넥스트 제너레이션 파크’, ‘글로벌 파크’의 4곳입니다.스타트업 및 대학 연구 기관의 참가가 역대 최다를 기록했으며, 해외 참가사도 대폭 증가했습니다. 즉, 아직 특허 등기를 완료하지 않은 기술을 보유한 기업과 해외 업체들이 같은 행사장에 모이는 것이 올해 CEATEC의 특징입니다. 지식재산권 관점에서 보면 만남의 기회인 동시에, 기술 유출 및 선점 출원의 위험이 가장 높아지는 4일간의 기간이기도 합니다.
6. CEATEC 2026 방문 등록·오시는 길·미팅 예약
방문 등록(무료·사전 등록제)
입장은 무료이지만, 모든 방문객은 등록 후 입장해야 합니다. CEATEC 공식 사이트의 사전 등록 페이지에서 등록하면 입장증(PDF) 또는 QR 코드가 발급됩니다.입장증을 인쇄하여 지참하거나, QR 코드를 행사장 내 픽업 카운터에서 제시하여 방문객 배지를 발급받으시면 됩니다. 1회 등록으로 행사 기간 4일 동안 모두 입장할 수 있으며, 행사 기간 중 당일 등록도 웹을 통해 가능합니다. 컨퍼런스 청강은 방문 등록과는 별도로 사전 예약이 필요합니다.
사전 등록: CEATEC 2026 방문 등록 페이지
오시는 길
- 전철: JR 게이요선 ‘카이힌마쿠하리역’에서 도보 5분. JR 소부선·케이세이선 ‘마쿠하리혼고역’에서는 버스로 15분.
- 버스: 행사 기간 중에는 도쿄역·요코하마역 등에서 임시 직통 버스가 운행됩니다. 공항에서 출발하는 고속버스 중 일부도 ‘마쿠하리 메세 중앙’까지 직통으로 운행됩니다.
- 자동차: 히가시칸토 자동차도 ‘완간 나라시노 IC’, ‘완간 치바 IC’, 게이요 도로 ‘마쿠하리 IC’에서 약 5분 거리입니다.
홀 5·부스 5H431로 오시는 길
CEATEC 2026 전시장은 마쿠하리 메세 국제전시장 홀 4~8입니다. EVORIX 부스 5H431은 홀 5의 일반 전시 구역에 있으며, 홀 5 중에서도 홀 6 쪽에 가까운 구역(5H430~5H440 블록)에 위치합니다.홀 5에는 주최 측 파빌리온인 ‘생활 DX 파빌리온’(5H314)과 X 스테이지도 있으므로, X 파크·X 스테이지를 표지로 찾아오시면 찾기 쉽습니다. 행사장 지도는 CEATEC 공식 사이트의 행사장 지도에서 확인해 주십시오.
미팅 예약(마쿠하리 행사장·온라인)
CEATEC 공식 참가업체 페이지에서 마쿠하리 행사장 내 대면 미팅 또는 온라인 미팅을 예약하실 수 있습니다. “부스에서 잠깐 나누기에는 내용이 복잡하다”, “아직 공개하지 않은 기술에 대해 상담하고 싶다”는 분들은 미팅 예약 서비스를 이용해 주십시오. 행사 기간 중 행사장에 방문하실 수 없는 분들도 온라인으로 변리사와 상담하실 수 있습니다.
미팅 예약·문의처
CEATEC 공식 참가업체 페이지: 주식회사 EVORIX 참가업체 상세 정보 (미팅 예약은 ‘접수 일정 보기’에서)
전화: 06-7777-1884
웹: 문의 양식 (행사 전후의 상담도 이곳에서)
7. CEATEC 참가사·방문객을 위한 지식재산권 체크｜신규성·클리어런스·모방 대책의 3가지 포인트
마지막으로, 단순한 홍보로 그치지 않도록 CEATEC에 참가하거나 방문하시는 모든 분께서 알아두셔야 할 지식재산권의 기본 사항을 3가지로 정리합니다. 이는 저희 사무소에서 배포하는 ‘전시회 참가 기업을 위한 지식재산권 체크리스트’의 핵심 내용이기도 합니다.
포인트 1: 전시회에서의 공개는 ‘신규성 상실’에 해당합니다
특허·디자인은 ‘새로운 것(신규성)’이 등록 조건입니다. 전시회 부스에서 제품을 보여주거나, 시연을 하거나, 팜플렛을 배포하는 것──이 모든 행위는 특허법·디자인법상 ‘공연히 알려진’ 상태에 해당하며, 원칙적으로 그 후에 출원하더라도 신규성이 없다는 이유로 거절됩니다.일본에는 신규성 상실의 예외(특허법 제30조·디자인법 제4조)가 있어, 공개 후 1년 이내에 소정의 절차를 밟으면 구제받을 수 있지만, 이는 어디까지나 ‘구제’일 뿐 표준적인 절차는 아닙니다.게다가 해외에는 이와 같은 구제 조치가 없는 국가나 구제 범위가 좁은 국가가 있어, 일본에서 예외 규정을 적용받더라도 외국에서는 권리를 확보하지 못할 수 있습니다.
원칙: 전시할 기술·디자인은 전시 전에 출원해 둡니다. 이미 공개해 버린 경우에는 공개일로부터 1년 이내에 예외 규정 적용 절차를 수반하는 출원을 서둘러야 합니다. 절차에 대한 자세한 내용은 ‘발명의 신규성 상실 예외 규정 적용을 위한 절차’와 ‘디자인의 신규성 상실 예외’에서 설명하고 있습니다.
포인트 2: 타사 권리에 대한 클리어런스 확인
전시회는 경쟁사의 지식재산권 담당자도 방문하는 장소입니다. 출품한 제품이 타사의 특허·디자인·상표와 충돌할 경우, 전시 기간 중에 경고를 받거나 최악의 경우 전시 중지를 요구받을 수 있습니다. 해외 전시회에서는 행사장 내에서 금지 명령이 집행된 사례도 있습니다.출품 전에 출품 제품에 대한 선행기술 조사·침해 예방 조사(FTO 조사)를 실시하고, 제품명·서비스명에 대해서는 상표 조사를 미리 마쳐 두는 것을 권장합니다. 특히 새로운 서비스명이나 브랜드명을 CEATEC에서 처음 공개하는 경우, 공개 전에 상표 출원을 해 두면 타사에 의한 선점 출원의 위험을 줄일 수 있습니다.
포인트 3: 모방 대책 및 증거 수집 체계
전시회는 ‘기술 유출·모방의 발원지’가 되기 쉬운 장소입니다. 부스 내 사진 촬영·동영상 촬영 규칙을 정해 두거나, 배포 자료에 기재할 기술 정보의 상세 수준을 사전에 결정해 두거나, 명함을 교환한 상대와 상담을 진행하기 전에 비밀유지계약(NDA)을 체결하는 등의 운영상 대책이 효과적입니다.또한, 전시회 기간 중 자사 제품과 유사한 제품을 타사 부스에서 발견했을 경우에 대비해 촬영·기록·자료 확보 절차를 정해 두면, 추후 권리 행사나 이의 신청 시 증거로 활용할 수 있습니다. 해외 전시회에서 취할 수 있는 보다 상세한 대책은 ‘하노버 메세 출전에서 실패하지 않는 지식재산 전략’에서도 해설하고 있습니다.
| 시기 | 확인해야 할 사항 |
|---|---|
| 출전 전 | 출품 기술·디자인의 출원／제품명·서비스명의 상표 조사 및 출원／타사 권리에 대한 클리어런스(FTO 조사)／배포 자료에 포함할 기술 정보의 범위 결정／촬영 규칙·NDA 양식 준비 |
| 전시회 기간 중 | 미공개 기술은 대면 대화에서 언급하지 않기／상담 상대와의 정보 교환은 NDA를 전제로 하기／유사 제품을 발견하면 촬영·기록·자료 확보／경고를 받으면 즉시 변리사에게 연락 |
| 전시회 종료 후 | 공개되어 버린 기술이 있다면 1년 이내에 예외 규정을 적용하여 출원／상담이 진행되는 국가에 대한 해외 출원 검토(PCT·마드리드 협약·헤이그 협약)／해외 출원 보조금 신청 일정 확인 |
8. CEATEC 2026 자주 묻는 질문(FAQ)
CEATEC 2026 방문 및 EVORIX 부스에 대해 자주 받는 질문을 정리했습니다.
Q. CEATEC 2026의 개최 기간과 시간은 어떻게 되나요?
A. 2026년 10월 13일(화)부터 16일(금)까지 4일간, 매일 10:00~17:00입니다. 장소는 지바현의 마쿠하리 멧세(지바시 미하마구 나카세 2-1)입니다.
Q. CEATEC 2026의 입장료는 얼마입니까?
A. 입장은 무료입니다. 단, 모든 방문객이 등록 후 입장해야 하므로 CEATEC 공식 사이트에서 사전 등록이 필요합니다. 등록 후 발급되는 입장권 또는 QR 코드로 행사 기간 4일 동안 모두 입장할 수 있습니다.
Q. EVORIX(지적재산 사무소 EVORIX) 부스는 어디에 있나요?
A. 홀 5의 일반 전시 구역, 부스 번호 5H431입니다. 홀 5 내에서는 홀 6 쪽에 가까운 구역에 위치해 있습니다. CEATEC 공식 사이트의 출품사 페이지에서 부스 위치와 미팅 예약을 확인하실 수 있습니다.
Q. 부스에서의 상담은 예약이 필요한가요? 비용은 드나요?
A. 예약 없이도 부스에서 상담하실 수 있습니다. 상담은 무료입니다. 미공개 기술 등 복잡한 내용은 CEATEC 공식 참가업체 페이지에서 마쿠하리 행사장에서의 대면 또는 온라인 미팅을 예약해 주십시오.
Q. CEATEC에 출품하는 기술을 전시하면 특허를 받을 수 없게 됩니까?
A. 원칙적으로 전시회에서 공개한 발명·디자인은 신규성을 상실하게 되며, 이후의 출원은 거절됩니다. 일본에서는 공개 후 1년 이내에 신규성 상실 예외 규정의 적용을 받는 절차를 밟으면 구제받을 수 있지만, 해외에는 구제 조치가 없는 국가도 있습니다. 참가 전에 출원하는 것을 권장합니다.
Q. 행사장에 갈 수 없는 경우에도 상담할 수 있나요?
A. 네. CEATEC 공식 참가자 페이지에서 온라인 미팅을 예약하실 수 있습니다. 행사 기간 전후의 상담은 저희 사무소의 문의 양식 또는 전화(06-7777-1884)로도 접수하고 있습니다.
정리
지식재산 사무소 EVORIX(주식회사 EVORIX)는 2026년 10월 13일(화)~16일(금) 4일간, 마쿠하리 메세에서 개최되는 CEATEC 2026에 참가합니다. 부스는 홀 5·5H431(일반 전시 구역)입니다.‘그 기술을 사업의 강점으로.’를 콘셉트로, 첨단 기술의 권리화, 기술·디자인·브랜드의 일괄 보호, 사업화·공동 창조의 리스크 대책, 해외 진출을 염두에 둔 출원 전략, AI 초안 작성 × 변리사 검토의 5가지 주제를 통해, 기술을 이해하는 변리사가 개발 현장의 의문에 직접 답변해 드립니다.
821개 기업·단체가 모이고, 스타트업 및 대학 연구기관의 참가가 역대 최다를 기록하며, 해외 참가자도 31개국·지역에서 194개 기업·단체에 달하는 올해 CEATEC은 공동 창조와 만남의 장인 동시에, 지식재산권 관점에서 기술 유출 및 선제 출원의 위험이 가장 높아지는 4일간의 행사입니다.전시회 참가 전 출원, 타사 권리에 대한 클리어런스, 모방 대책 이 3가지를 꼭 확인하신 후, 행사장에서 뵙기를 바랍니다. 여러분의 방문을 진심으로 기다리고 있습니다.
CEATEC 2026 홀 5·5H431에서 기다리고 있겠습니다
“이걸 특허로 낼 수 있을까?”, “타사의 권리는 괜찮을까?”, “해외 진출 전에 무엇을 해야 할까?”, “AI가 작성한 명세서를 검토해 주셨으면 합니다”──개발 현장의 의문점을 기술을 이해하는 변리사에게 그대로 털어놓으세요. 행사장에 오실 수 없는 분은 온라인 미팅 또는 문의 양식을 통해 상담하실 수 있습니다. 첫 상담은 무료입니다.
출처·참고 문헌
본 기사는 다음 자료를 바탕으로 작성되었습니다(모두 2026년 10월 확인). 각 항목마다 본문의 어느 내용이 근거가 되었는지 명시해 두었습니다.
주최자·공식 사이트 자료
- CEATEC 2026 개최 개요(CEATEC 운영 사무국)／개최 기간·장소·입장 제도·주최／공동 주최·병행 행사·개최 테마(제1장·제5장)의 근거.
https://www.ceatec.com/ja/about/ - 보도자료 “CEATEC 2026, 10월 13일 마쿠하리 멧세에서 개막. 올해 테마는 ‘Transformation’, 국내외 821개 기업·단체 참가”(JEITA, 2026년 10월 6일)／참가사 수·신규 참가사 수·스타트업 참가 수·해외 참가사 수·컨퍼런스 수·예상 방문객 수·CEATEC 연혁(제5장)의 근거.
https://www.ceatec.com/ja/news/detail.php?id=26 - CEATEC 2026 참가사 상세 정보 「주식회사 EVORIX」(CEATEC 공식 사이트)／부스 번호·전시 구역·볼거리·매력 포인트·배포 자료·미팅 예약(제1~3장·제6장)의 근거.
https://www.ceatec.com/nj/exhibitor_detail_ja?id=305 - CEATEC 2026 방문 등록 페이지(CEATEC 운영 사무국)／방문 사전 등록 방법·입장권 및 QR 코드·당일 등록·컨퍼런스 예약(제6장)의 근거.
https://www.ceatec.com/ja/about/registration.html - CEATEC 2026 행사장 지도 (CEATEC 운영 사무국) / 사용 홀(4~8) 및 부스 5H431의 위치 (제6장·FAQ)에 대한 근거.
https://www.ceatec.com/ja/exhibition/map.html - CEATEC 2026 오시는 길 (CEATEC 운영 사무국) / 가장 가까운 역·버스·자동차로 오시는 길 (제6장)의 근거.
https://www.ceatec.com/ja/access/
법령·공공기관 자료
- 특허법 제29조·제30조, 디자인법 제3조·제4조(e-Gov 법령 검색)／신규성의 요건과 신규성 상실의 예외(공개 후 1년 이내)(제7장 포인트 1)의 근거.
https://laws.e-gov.go.jp/law/334AC0000000121 - 「발명의 신규성 상실 예외 규정의 적용을 받기 위한 출원인 안내」(특허청)／예외 규정 적용 절차 및 외국에서는 구제를 받을 수 없는 경우가 있다는 주의사항(제7장 포인트 1)의 근거.
https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/hatumei_reigai.html
※본 기사는 상기 자료를 바탕으로 2026년 10월 시점의 정보를 바탕으로 일반적인 정보 제공을 목적으로 작성되었습니다. CEATEC 2026의 개최 내용 및 참가 등록 방법은 주최 측의 판단에 따라 변경될 수 있습니다. 지식재산권 관련 개별 사안에 대한 구체적인 판단은 전문가와 상담하시기를 권장합니다.