---
title: evorix blog
description: 知的財産に関するニュースの配信
---

[콘텐츠로 건너뛰기](https://www.evorix.jp/ko/blog#main-content)

- [한국어](https://www.evorix.jp/ko/blog)
- [Chinese (중국어)](https://www.evorix.jp/zh/blog)
- [Deutsch (독일어)](https://www.evorix.jp/de/blog)
- [English (영어)](https://www.evorix.jp/en/blog)
- [Español (스페인어)](https://www.evorix.jp/es/blog)
- [Français (프랑스어)](https://www.evorix.jp/fr/blog)
- [Italiano (이탈리아어)](https://www.evorix.jp/it/blog)
- [Português (포르투갈어)](https://www.evorix.jp/pt/blog)
- [日本語 - 日本 (일본어 - 일본)](https://www.evorix.jp/blog)

한국어

번역을 위한 하위 메뉴 보기

[![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png)](https://www.evorix.jp/)

- [서비스](https://www.evorix.jp/ko/contents)
  
  서비스을(를) 위한 하위 메뉴 보기 
  
    - [특허 출원](https://www.evorix.jp/ko/contents)
    - [상표 등록](https://www.evorix.jp/ko/contents)
    - [디자인 출원](https://www.evorix.jp/ko/contents)
    - [저작권](https://www.evorix.jp/ko/copyright-service)
    - [부정경쟁방지](https://www.evorix.jp/ko/unfair-competition)
    - [고문 변리사](https://www.evorix.jp/ko/komon)
- [해외 출원](https://www.evorix.jp/ko/international)
  
  해외 출원을(를) 위한 하위 메뉴 보기 
  
    - [PCT 국제 특허](https://www.evorix.jp/ko/pct)
    - [마드리드 의정서](https://www.evorix.jp/ko/madrid-protocol-trademark)
    - [헤이그 체계 (디자인)](https://www.evorix.jp/ko/hague-design-application)
    - [세계 특허 제도](https://www.evorix.jp/ko/international)
    - [세계 상표 제도](https://www.evorix.jp/ko/international)
    - [세계 디자인 제도](https://www.evorix.jp/ko/international)
- [산업별 지원](https://www.evorix.jp/ko/industries)
  
  산업별 지원을(를) 위한 하위 메뉴 보기 
  
    - [스타트업 대상](https://www.evorix.jp/ko/startup)
    - [제조업 대상](https://www.evorix.jp/ko/manufacturing)
- [사무소 안내](https://www.evorix.jp/ko/about)
  
  사무소 안내을(를) 위한 하위 메뉴 보기 
  
    - [사무소 개요](https://www.evorix.jp/ko/about)
    - [변리사 소개](https://www.evorix.jp/ko/staff)
    - [오시는 길](https://www.evorix.jp/ko/access)
    - [출원 실적](https://www.evorix.jp/ko/results)
    - [전시회·이벤트 출전](https://www.evorix.jp/ko/exhibitions)
    - [세미나・강연](https://www.evorix.jp/ko/seminar)
    - [채용 정보](https://www.evorix.jp/ko/recruit)
    - [상담 절차](https://www.evorix.jp/ko/consultation)
- [정보](https://www.evorix.jp/ko/blog)
  
  정보을(를) 위한 하위 메뉴 보기 
  
    - [블로그](https://www.evorix.jp/ko/blog)
    - [자주 묻는 질문](https://www.evorix.jp/ko/faq)
    - [지식재산 용어집](https://www.evorix.jp/ko/glossary)
    - [해외 출원 보조금](https://www.evorix.jp/ko/inpit-foreign-filing-subsidy)
- [문의](https://www.evorix.jp/ko/inquiry)

기본 탐색 열기

기본 탐색 종료

- [서비스](https://www.evorix.jp/ko/contents)
  
  서비스을(를) 위한 하위 메뉴 보기 
  
    - [특허 출원](https://www.evorix.jp/ko/contents)
    - [상표 등록](https://www.evorix.jp/ko/contents)
    - [디자인 출원](https://www.evorix.jp/ko/contents)
    - [저작권](https://www.evorix.jp/ko/copyright-service)
    - [부정경쟁방지](https://www.evorix.jp/ko/unfair-competition)
    - [고문 변리사](https://www.evorix.jp/ko/komon)
- [해외 출원](https://www.evorix.jp/ko/international)
  
  해외 출원을(를) 위한 하위 메뉴 보기 
  
    - [PCT 국제 특허](https://www.evorix.jp/ko/pct)
    - [마드리드 의정서](https://www.evorix.jp/ko/madrid-protocol-trademark)
    - [헤이그 체계 (디자인)](https://www.evorix.jp/ko/hague-design-application)
    - [세계 특허 제도](https://www.evorix.jp/ko/international)
    - [세계 상표 제도](https://www.evorix.jp/ko/international)
    - [세계 디자인 제도](https://www.evorix.jp/ko/international)
- [산업별 지원](https://www.evorix.jp/ko/industries)
  
  산업별 지원을(를) 위한 하위 메뉴 보기 
  
    - [스타트업 대상](https://www.evorix.jp/ko/startup)
    - [제조업 대상](https://www.evorix.jp/ko/manufacturing)
- [사무소 안내](https://www.evorix.jp/ko/about)
  
  사무소 안내을(를) 위한 하위 메뉴 보기 
  
    - [사무소 개요](https://www.evorix.jp/ko/about)
    - [변리사 소개](https://www.evorix.jp/ko/staff)
    - [오시는 길](https://www.evorix.jp/ko/access)
    - [출원 실적](https://www.evorix.jp/ko/results)
    - [전시회·이벤트 출전](https://www.evorix.jp/ko/exhibitions)
    - [세미나・강연](https://www.evorix.jp/ko/seminar)
    - [채용 정보](https://www.evorix.jp/ko/recruit)
    - [상담 절차](https://www.evorix.jp/ko/consultation)
- [정보](https://www.evorix.jp/ko/blog)
  
  정보을(를) 위한 하위 메뉴 보기 
  
    - [블로그](https://www.evorix.jp/ko/blog)
    - [자주 묻는 질문](https://www.evorix.jp/ko/faq)
    - [지식재산 용어집](https://www.evorix.jp/ko/glossary)
    - [해외 출원 보조금](https://www.evorix.jp/ko/inpit-foreign-filing-subsidy)
- [문의](https://www.evorix.jp/ko/inquiry)
- - [한국어](https://www.evorix.jp/ko/blog)
    - [Chinese (중국어)](https://www.evorix.jp/zh/blog)
    - [Deutsch (독일어)](https://www.evorix.jp/de/blog)
    - [English (영어)](https://www.evorix.jp/en/blog)
    - [Español (스페인어)](https://www.evorix.jp/es/blog)
    - [Français (프랑스어)](https://www.evorix.jp/fr/blog)
    - [Italiano (이탈리아어)](https://www.evorix.jp/it/blog)
    - [Português (포르투갈어)](https://www.evorix.jp/pt/blog)
    - [日本語 - 日本 (일본어 - 일본)](https://www.evorix.jp/blog)

  한국어
  
  번역을 위한 하위 메뉴 보기
- [문의하기](https://www.evorix.jp/ko/inquiry)

[문의하기](https://www.evorix.jp/ko/inquiry)

# 블로그

[![CEATEC 2026에 참가합니다｜10월 13일~16일 마쿠하리 멧세 홀 5·부스 5H431에서 변리사가 ‘기술을 사업의 강점으로 만드는 지식재산 전략’을 안내해 드립니다](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/ceatec-2026-exhibition-v2.jpg)](https://www.evorix.jp/ko/blog/ceatec-2026-exhibition)

スタートアップ, 中小企業, お知らせ, 知財戦略, AI

## [CEATEC 2026에 참가합니다｜10월 13일~16일, 마쿠하리 멧세 5홀·부스 5H431에서 변리사가 ‘기술을 사업의 강점으로 만드는 지식재산 전략’을 안내해 드립니다](https://www.evorix.jp/ko/blog/ceatec-2026-exhibition)

![弁理士 杉浦健文 사진](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 2026/10/12

지적재산권 사무소 EVORIX(주식회사 EVORIX)는 2026년 10월 13일(화)부터 16일(금)까지 마쿠하리 메세에서 개최되는 CEATEC 2026(시테크 2026)에 참가합...

[자세한 내용](https://www.evorix.jp/ko/blog/ceatec-2026-exhibition)

[![영국 특허 제도 실무 가이드｜UKIPO 출원 절차·2026년 수수료 개정·AI 특허 대법원 판결·UPC 불참과 EP(UK)를 변리사가 철저 해설](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-uk-patent-system-guide.jpg)](https://www.evorix.jp/ko/blog/uk-patent-system-guide)

特許, 外国特許, イギリス

## [영국 특허 제도 실무 가이드｜UKIPO 출원 절차·2026년 수수료 개정·AI 특허 대법원 판결·UPC 불참과 EP(UK)를 변리사가 철저 해설](https://www.evorix.jp/ko/blog/uk-patent-system-guide)

![弁理士 杉浦健文 사진](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 2026/09/17

영국(UK)에서 특허를 취득하는 방법에는 세 가지가 있습니다. 영국 지적재산청(UKIPO)에 직접 출원하는 방법, 유럽특허청(EPO)을 통한 유럽특허의 영국 부분(EP(UK)), ...

[자세한 내용](https://www.evorix.jp/ko/blog/uk-patent-system-guide)

[![마카오 상표 제도 실무 가이드｜7년 갱신·1출원 1류·마드리드 의정서 불가·중국 본토와 별개 제도를 변리사가 철저 해설](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-macau-trademark-guide-v2.jpg)](https://www.evorix.jp/ko/blog/macau-trademark-guide)

商標, 外国商標

## [마카오 상표 제도 실무 가이드｜7년 갱신·1출원 1류·마드리드 의정서 불가·중국 본토와 별개 제도를 변리사가 철저 해설](https://www.evorix.jp/ko/blog/macau-trademark-guide)

![弁理士 杉浦健文 사진](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 2026/09/17

“중국에서 상표를 등록했으니 마카오에서도 보호받을 수 있을 것이다”——마카오 진출에 관한 상담 시, 가장 먼저 확인해 주셨으면 하는 오해가 바로 이것입니다.마카오는 중국의 특별행정...

[자세한 내용](https://www.evorix.jp/ko/blog/macau-trademark-guide)

[![일본에서의 “발명이 아니다”에 따른 거절 사유(제29조 제1항 본문): 소프트웨어, 비즈니스 방법 및 하드웨어-자원 테스트](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-eligibility-software-article-29-1.png)](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-eligibility-software-article-29-1)

## [일본에서의 “발명이 아니다”에 따른 거절 사유(제29조 제1항 본문): 소프트웨어, 비즈니스 방법 및 하드웨어-자원 테스트](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-eligibility-software-article-29-1)

![Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 사진](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

청구된 발명 대상이 “발명에 해당하지 않는다”고 명시한 일본 특허청의 심사 의견서는 제29조 제1항의 본문을 인용하고 있다. 이는 타국의 발명성 부적격 거절 사유와 일본에서 대응되...

[자세한 내용](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-eligibility-software-article-29-1)

[![일본의 진보성 거절 사유(제29조 제2항): 일본특허청 심사관이 논리를 전개하는 방식 — 그리고 이를 반박하는 방법](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-office-action-inventive-step-article-29-2.png)](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-inventive-step-article-29-2)

## [일본의 진보성 거절 사유(제29조 제2항): 일본특허청 심사관이 논리를 전개하는 방식 — 그리고 이를 반박하는 방법](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-inventive-step-article-29-2)

![Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 사진](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

일본에서 국가단계 사건에 대한 심사관 통지서에서 가장 흔히 언급되는 거절 사유는 제29조 제2항, 즉 진보성 결여입니다. 외국 변호사들에게 반가운 소식은, 일본특허청(JPO) 심사...

[자세한 내용](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-inventive-step-article-29-2)

[![PCT 일본 국내단계 진입: 30개월 기한, 기한 경과 후 진입 복원, 특허관리인 규정, 비용 및 일정 (2026)](https://www.evorix.jp/hubfs/AI-Generated%20Media/Images/The%20image%20depicts%20a%20modern%20office%20setting%20with%20sleek%20minimalistic%20furniture%20A%20large%20glass%20window%20allows%20natural%20light%20to%20flood%20the%20space%20casting%20soft%20shadows%20on%20the%20polished%20wooden%20floor%20In%20the%20foreground%20a%20contemporary%20desk%20is%20adorned%20with%20a%20laptop.jpeg)](https://www.evorix.jp/ko/blog/pct-national-phase-entry-japan)

## [PCT 일본 국내단계 진입: 30개월 기한, 기한 경과 후 진입 복원, 특허관리인 규정, 비용 및 일정 (2026)](https://www.evorix.jp/ko/blog/pct-national-phase-entry-japan)

![弁理士 杉浦健文 사진](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 2026/09/04

일본을 대상으로 PCT 국제출원을 제출하는 해외 지적재산권 변호사에게 있어, 국내 단계 진입 단계에서는 정확한 기한 관리, 의무적인 일본어 번역, 그리고 심사 청구 시기에 대한 전...

[자세한 내용](https://www.evorix.jp/ko/blog/pct-national-phase-entry-japan)

[![일본에서의 지원, 명료성 및 실시 가능성 거절(제36조): 국내 단계 사건에서 설명 요건 관련 이의 제기 해결](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-office-action-description-requirements-article-36.png)](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)

## [일본에서의 지원, 명료성 및 실시 가능성 거절(제36조): 국내 단계 사건에서 설명 요건 관련 이의 제기 해결](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)

![Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 사진](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

일본 특허청의 모든 심사 의견서가 선행기술에 관한 것은 아닙니다. 국내 단계 사건에 대한 이의 제기의 상당 부분은 제36조(명세서 요건)를 인용하고 있으며, 그 중 다수는 본질적으...

[자세한 내용](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)

[![일본의 신규 사항 및 “최종” 심사 의견서: 제17조의2에 따른 보정 제한 — 여전히 변경할 수 있는 사항](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-office-action-new-matter-final-oa-amendments.png)](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-new-matter-final-oa-amendments)

## [일본의 신규 사항 및 “최종” 심사 의견서: 제17조의2에 따른 보정 제한 — 여전히 변경할 수 있는 사항](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-new-matter-final-oa-amendments)

![Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 사진](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

일본 특허청의 심사 의견서를 처리하는 외국 변호사들은 종종 두 가지 점에서 놀라곤 합니다. 첫째는 자국에서는 일상적인 수정 사항이 ‘신규 사항’이라는 이유로 거절당한다는 점이고, ...

[자세한 내용](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-new-matter-final-oa-amendments)

[![일본에 대한 30개월 기한을 놓치셨나요? “의도하지 않은” 기준에 따른 PCT 국내 단계 복원 (2023년 4월부터)](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-pct-missed-30-month-deadline-restoration.png)](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-pct-missed-30-month-deadline-restoration)

## [일본에 대한 30개월 기한을 놓치셨나요? “의도하지 않은” 기준에 따른 PCT 국내 단계 복원 (2023년 4월부터)](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-pct-missed-30-month-deadline-restoration)

![Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 사진](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

일본에서는 30개월 기한을 놓치는 것이 예전에는 치명적일 뻔했습니다. 기존의 ‘적절한 주의’ 기준을 충족하는 경우가 거의 없었기 때문입니다. 그러나 2023년 4월 1일부터 상황이...

[자세한 내용](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-pct-missed-30-month-deadline-restoration)

[![해외 출원인을 위한 JPO 심사 의견서(거절 사유 통지서): 마감일, 기한 연장, 선택 사항 및 비용](https://www.evorix.jp/hubfs/AI-Generated%20Media/Images/The%20image%20depicts%20a%20modern%20office%20setting%20with%20sleek%20minimalistic%20furniture%20A%20large%20glass%20window%20allows%20natural%20light%20to%20flood%20the%20space%20casting%20soft%20shadows%20on%20the%20polished%20wooden%20floor%20In%20the%20foreground%20a%20contemporary%20desk%20is%20adorned%20with%20a%20laptop.jpeg)](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-response)

## [해외 출원인을 위한 JPO 심사 의견서(거절 사유 통지서): 마감일, 기한 연장, 선택 사항 및 비용](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-response)

![弁理士 杉浦健文 사진](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 2026/09/04

일본 특허 출원 절차를 담당하는 해외 IP 자문가는 일본특허청(JPO)으로부터 ‘거절 사유 통지(拒絶理由通知, kyozetsu riyu tsuchi)’를 받게 됩니다. 이 가이드에...

[자세한 내용](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-response)

첫째 이전 [1](https://www.evorix.jp/ko/blog) [2](https://www.evorix.jp/ko/blog/page/2) [3](https://www.evorix.jp/ko/blog/page/3) [4](https://www.evorix.jp/ko/blog/page/4) [5](https://www.evorix.jp/ko/blog/page/5) [다음](https://www.evorix.jp/ko/blog/page/2) [마지막](https://www.evorix.jp/ko/blog/page/28)

---

[![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png "知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登")](https://www.evorix.jp)

Intellectual Property Law Firm EVORIX

 

4th Floor, Qus-Hiranomachi Building,  
3-1-2 Hiranomachi, Chuo-Ku, Osaka-shi,  
Osaka 541-0046 Japan

Mail: [contact@evorix.jp](mailto:contact@evorix.jp)

TEL: +81-6-7777-1884

- [Hague International Design Application](https://www.evorix.jp/hague-design-application)
- [Madrid Protocol International Trademark Application](https://www.evorix.jp/madrid-protocol-trademark)
- [Amazon IP Infringement Support](https://www.evorix.jp/amazon-infringement)

- [About Us](https://www.evorix.jp/about)
- [Our Attorneys](https://www.evorix.jp/staff)
- [Services](https://www.evorix.jp/contents)
- [Consultation Process](https://www.evorix.jp/consultation)
- [Blog](https://www.evorix.jp/blog)
- [Careers](https://www.evorix.jp/recruit)
- [Trademark Portfolio](https://www.evorix.jp/trademark-list)
- [Privacy Policy](https://www.evorix.jp/hubfs/%E8%B3%87%E6%96%99/HP-%E3%83%97%E3%83%A9%E3%82%A4%E3%83%90%E3%82%B7%E3%83%BC%E3%83%9D%E3%83%AA%E3%82%B7%E3%83%BC.pdf)
- [Contact](https://www.evorix.jp/inquiry)

---

 

Copyright © 2026, Intellectual Property Law Firm EVORIX® All rights reserved.