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參展紀錄（展覽會及活動）
我們參與國內外展覽會，將旨在保護技術、設計及品牌的智慧財產權策略，直接帶到開發與業務的第一線
智慧財產權事務所EVORIX（EVORIX股份有限公司）參展了匯聚新創企業、製造業及IT企業的展覽會，並透過攤位上的免費諮詢及擔任研討會講者，提供智慧財產權的實務資訊。對於在展覽會上結識的企業，我們會從申請到權利運用等各階段持續提供協助。
預計參展
2026年新事業週【大阪】
大阪INTEX 6號館（主辦單位：RX Japan合夥公司）
除了參展外，我們還將於11月18日（週三）13:00起，在研討會「您的新事業會被模仿嗎？透過智慧財產權策略（專利、商標、外觀設計、專有技術、海外智慧財產權等）建立競爭優勢」中擔任講者。負責新事業及開放式創新業務的同仁，歡迎蒞臨我們的攤位。
參展紀錄
CEATEC 2026（CEATEC 2026）
幕張展覽中心 5號展廳・5H431號攤位（主辦單位：一般社團法人電子資訊技術產業協會）
以「將該技術轉化為事業優勢」為概念，我們介紹了五大主題：尖端技術的專利化、技術・設計・品牌的整合性保護、事業化與共創的風險對策、著眼於海外拓展的申請策略，以及「AI草擬×專利代理人審查」。現場發放了《2026年日本專利申請指南》、《2026年外國商標申請指南》等共6種資料，在為期4天、吸引超過11萬人次蒞臨的會場中，我們收到了來自AI、IoT及製造業企業開發負責人的眾多諮詢。
2025年大阪「STARTUP JAPAN EXPO」
MyDome大阪（主辦單位：Sansan股份有限公司）
我們以「專利・商標・免費諮詢」為主題參展。本次展覽與「製造業AI・DX EXPO」及「物流＆SCM變革科技EXPO」同期舉辦，我們收到了許多來自關西新創企業經營者及業務負責人的具體諮詢，例如「何時應為新服務申請商標」、「如何透過專利保護自有技術」，以及「著眼於海外拓展的智慧財產權策略」等。
海外展覽會的考察
2026年漢諾威工業博覽會（HANNOVER MESSE 2026）
德國漢諾威國際展覽中心
我們實地考察了全球規模最大的產業技術博覽會，確認了「工業4.0」、「人工智慧」及「氫能」等最新技術動向，以及參展企業針對歐洲市場所採取的智慧財產權對策（包括喪失新穎性、仿冒及侵犯他方專利等風險）。此次視察所獲得的見解，已運用於為參加海外展覽會的客戶提供事前智慧財產權策略建議。
致參展及參觀展覽會的各位｜參展前應注意的3項智慧財產權檢查事項
專利及外觀設計若在申請前進行展示、分發或實演，原則上將無法註冊。請務必在展期開始前，針對將要參展的技術及設計提出申請。日本的例外規定（專利法第30條）僅屬補救措施，而部分海外國家則並無此類補救措施。
若能在參展前先調查（FTO調查）展出的產品或服務是否侵犯了其他公司的專利、商標或外觀設計，即可避免在展場收到警告或發生糾紛。
請在前往會場前，先釐清有關攝影及攜帶樣品回家的相關規定、準備好保密協議（NDA），並明確劃分可公開與應保密（技術訣竅）的資訊界線。