---
title: "Rejeições por falta de fundamentação, clareza e admissibilidade no Japão (Artigo 36): Como resolver objeções relativas aos requisitos da descrição em um processo na fase nacional"
description: Objeções ao artigo 36 — capacidade de execução (36(4)(i)), fundamentação (36(6)(i)), clareza (36(6)(ii)), concisão (36(6)(iii)) e a exigência da portaria ministerial que agora estabelece a proibição de reivindicações “multi-multi” (art. 36, § 6, inciso iv)) — são frequentes em processos de PCT traduzidos. O que cada exigência requer, por que as traduções as acionam e quais correções se mantêm dentro dos limites de matéria nova.
image: https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-office-action-description-requirements-article-36.png
---

[Pular para o conteúdo](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36#main-content)

- [Português](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
- [Chinese (Chinês)](https://www.evorix.jp/zh/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
- [Deutsch (Alemão)](https://www.evorix.jp/de/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
- [English (Inglês)](https://www.evorix.jp/en/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
- [Español (Espanhol)](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
- [Français (Francês)](https://www.evorix.jp/fr/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
- [한국어 (Coreano)](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)

Português

Mostrar submenu para traduções

[![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png)](https://www.evorix.jp/)

- [Serviços](https://www.evorix.jp/pt/contents)
  
  Mostrar submenu para Serviços 
  
    - [Registro de Patente](https://www.evorix.jp/pt/patent-service)
    - [Registro de marca](https://www.evorix.jp/pt/trademark-service)
    - [Registro de desenho industrial](https://www.evorix.jp/pt/design-service)
    - [Direitos autorais](https://www.evorix.jp/pt/copyright-service)
    - [Concorrência Desleal](https://www.evorix.jp/pt/unfair-competition)
    - [Consultor em Patentes](https://www.evorix.jp/pt/komon)
- [Depósito internacional](https://www.evorix.jp/pt/international)
  
  Mostrar submenu para Depósito internacional 
  
    - [Patente Internacional PCT](https://www.evorix.jp/pt/pct)
    - [Marca registrada do Protocolo de Madri](https://www.evorix.jp/pt/madrid-protocol-trademark)
    - [Pedido de Registro de Desenho Industrial de Haia](https://www.evorix.jp/pt/hague-design-application)
    - [Sistemas Globais de Patentes](https://www.evorix.jp/patent-world)
    - [Sistemas Globais de Marcas Registradas](https://www.evorix.jp/trademark-world)
    - [Sistemas Globais de Design](https://www.evorix.jp/design-world)
- [Setores](https://www.evorix.jp/pt/industries)
  
  Mostrar submenu para Setores 
  
    - [Para startups](https://www.evorix.jp/pt/startup)
    - [Para o setor de manufatura](https://www.evorix.jp/pt/manufacturing)
    - [Para empresas de TI](https://www.evorix.jp/it-ip-portal)
- [Sobre nós](https://www.evorix.jp/pt/about)
  
  Mostrar submenu para Sobre nós 
  
    - [Visão geral da empresa](https://www.evorix.jp/pt/about)
    - [Filosofia e Visão](https://www.evorix.jp/philosophy)
    - [Nossos advogados especializados em patentes](https://www.evorix.jp/pt/staff)
    - [Locais](https://www.evorix.jp/pt/access)
    - [Seminários e palestras](https://www.evorix.jp/pt/seminar)
    - [Carreiras](https://www.evorix.jp/pt/recruit)
- [Recursos](https://www.evorix.jp/pt/blog)
  
  Mostrar submenu para Recursos 
  
    - [Blog](https://www.evorix.jp/pt/blog)
    - [Perguntas frequentes](https://www.evorix.jp/pt/faq)
    - [Glossário de Propriedade Intelectual](https://www.evorix.jp/pt/glossary)
    - [Guia de subsídios para depósitos no exterior](https://www.evorix.jp/%E3%82%B8%E3%82%A7%E3%83%88%E3%83%AD%E5%A4%96%E5%9B%BD%E5%87%BA%E9%A1%98%E5%8A%A9%E6%88%90%E9%87%91%E3%81%AE%E3%81%94%E6%A1%88%E5%86%85)
    - [Rascunho de IA × Verificação por advogado de patentes](https://www.evorix.jp/ai-draft-patent-lp)
- [Contato](https://www.evorix.jp/pt/inquiry)
  
  Mostrar submenu para Contato 
  
    - [Processo de consulta](https://www.evorix.jp/pt/consultation)
    - [Formulário de consulta](https://www.evorix.jp/pt/inquiry)

Abrir navegação principal

Fechar navegação principal

- [Serviços](https://www.evorix.jp/pt/contents)
  
  Mostrar submenu para Serviços 
  
    - [Registro de Patente](https://www.evorix.jp/pt/patent-service)
    - [Registro de marca](https://www.evorix.jp/pt/trademark-service)
    - [Registro de desenho industrial](https://www.evorix.jp/pt/design-service)
    - [Direitos autorais](https://www.evorix.jp/pt/copyright-service)
    - [Concorrência Desleal](https://www.evorix.jp/pt/unfair-competition)
    - [Consultor em Patentes](https://www.evorix.jp/pt/komon)
- [Depósito internacional](https://www.evorix.jp/pt/international)
  
  Mostrar submenu para Depósito internacional 
  
    - [Patente Internacional PCT](https://www.evorix.jp/pt/pct)
    - [Marca registrada do Protocolo de Madri](https://www.evorix.jp/pt/madrid-protocol-trademark)
    - [Pedido de Registro de Desenho Industrial de Haia](https://www.evorix.jp/pt/hague-design-application)
    - [Sistemas Globais de Patentes](https://www.evorix.jp/patent-world)
    - [Sistemas Globais de Marcas Registradas](https://www.evorix.jp/trademark-world)
    - [Sistemas Globais de Design](https://www.evorix.jp/design-world)
- [Setores](https://www.evorix.jp/pt/industries)
  
  Mostrar submenu para Setores 
  
    - [Para startups](https://www.evorix.jp/pt/startup)
    - [Para o setor de manufatura](https://www.evorix.jp/pt/manufacturing)
    - [Para empresas de TI](https://www.evorix.jp/it-ip-portal)
- [Sobre nós](https://www.evorix.jp/pt/about)
  
  Mostrar submenu para Sobre nós 
  
    - [Visão geral da empresa](https://www.evorix.jp/pt/about)
    - [Filosofia e Visão](https://www.evorix.jp/philosophy)
    - [Nossos advogados especializados em patentes](https://www.evorix.jp/pt/staff)
    - [Locais](https://www.evorix.jp/pt/access)
    - [Seminários e palestras](https://www.evorix.jp/pt/seminar)
    - [Carreiras](https://www.evorix.jp/pt/recruit)
- [Recursos](https://www.evorix.jp/pt/blog)
  
  Mostrar submenu para Recursos 
  
    - [Blog](https://www.evorix.jp/pt/blog)
    - [Perguntas frequentes](https://www.evorix.jp/pt/faq)
    - [Glossário de Propriedade Intelectual](https://www.evorix.jp/pt/glossary)
    - [Guia de subsídios para depósitos no exterior](https://www.evorix.jp/%E3%82%B8%E3%82%A7%E3%83%88%E3%83%AD%E5%A4%96%E5%9B%BD%E5%87%BA%E9%A1%98%E5%8A%A9%E6%88%90%E9%87%91%E3%81%AE%E3%81%94%E6%A1%88%E5%86%85)
    - [Rascunho de IA × Verificação por advogado de patentes](https://www.evorix.jp/ai-draft-patent-lp)
- [Contato](https://www.evorix.jp/pt/inquiry)
  
  Mostrar submenu para Contato 
  
    - [Processo de consulta](https://www.evorix.jp/pt/consultation)
    - [Formulário de consulta](https://www.evorix.jp/pt/inquiry)
- - [Português](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
    - [Chinese (Chinês)](https://www.evorix.jp/zh/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
    - [Deutsch (Alemão)](https://www.evorix.jp/de/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
    - [English (Inglês)](https://www.evorix.jp/en/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
    - [Español (Espanhol)](https://www.evorix.jp/es/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
    - [Français (Francês)](https://www.evorix.jp/fr/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
    - [한국어 (Coreano)](https://www.evorix.jp/ko/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)
  
  
  
  
  Português
  
  Mostrar submenu para traduções
- [Contato](https://www.evorix.jp/pt/inquiry)

[Contato](https://www.evorix.jp/pt/inquiry)

 2026/09/04

# Rejeições por falta de fundamentação, clareza e admissibilidade no Japão (Artigo 36): Como resolver objeções relativas aos requisitos da descrição em um processo na fase nacional

![Picture of Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511)  Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney

Compartilhar: [facebook-f icon](http://www.facebook.com/share.php?u=https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36) [linkedin-in icon](http://www.linkedin.com/shareArticle?mini=true&url=https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36) [Twitter icon](https://twitter.com/intent/tweet?url=https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36) [pinterest-p icon](http://pinterest.com/pin/create/link/?url=https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36) [envelope icon](mailto:?body=https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36)

![Support, Clarity and Enablement Rejections in Japan (Article 36): Fixing Description-Requirement Objections in a National Phase Case](https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-office-action-description-requirements-article-36.png)

Nem toda notificação do Escritório Japonês diz respeito à técnica anterior. Uma grande parte das objeções em processos na fase nacional cita **o Artigo 36** — os requisitos de descrição — e muitas delas são, na essência, problemas de tradução e de convenções de redação, e não defeitos substantivos. Este artigo explica o que cada requisito do Art. 36 exige, por que as especificações do PCT traduzidas dão origem a essas objeções e quais correções são possíveis dentro dos limites de “matéria nova” do Art. 17-2(3).

Índice

1. [Os cinco requisitos que a Notificação pode citar](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36#a1)
2. [Capacidade de execução: Art. 36(4)(i)](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36#a2)
3. [Fundamentação: Art. 36(6)(i)](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36#a3)
4. [Clareza e concisão: Art. 36, parágrafo 6, alíneas (ii) e (iii)](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36#a4)
5. [O requisito da portaria ministerial e as reivindicações “multi-multi”: Art. 36(6)(iv)](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36#a5)
6. [Correções que se mantêm dentro dos limites de matéria nova](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36#a6)
7. [Perguntas frequentes](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36#faq)

## 1. Os cinco requisitos que a notificação pode citar

| Disposição | Requisito | Motivo típico em um caso PCT |
| --- | --- | --- |
| **Art. 36(4)(i)** | Descrição detalhada, clara e suficiente para que um especialista na matéria possa realizar a invenção (capacidade de realização) | Etapas ou parâmetros do processo não explicados; resultados afirmados sem indicação de como proceder |
| **Art. 36, § 6, i)** | A invenção reivindicada está descrita na descrição detalhada (fundamento) | Reivindicação de gênero amplo, exemplos restritos; reivindicações funcionais mais amplas do que os meios divulgados |
| **Art. 36, § 6, inciso ii)** | A invenção reivindicada é clara (clareza) | Termos indefinidos, expressões relativas, terminologia inconsistente após a tradução |
| **Art. 36(6)(iii)** | Cada reivindicação é concisa | Reivindicações redundantes ou duplicadas |
| **Art. 36, § 6, iv)** | Reivindicações redigidas conforme prescrito pela portaria ministerial | **Reivindicações com múltiplas dependências** (pedidos apresentados a partir de 1º de abril de 2022) |

## 2. Capacidade de execução: Art. 36(4)(i)

A descrição detalhada deve permitir que o especialista na matéria realize a invenção em todo o escopo reivindicado. Em casos de fase nacional, a objeção geralmente visa reivindicações relativas a um resultado ou parâmetro em que a especificação mostra uma maneira de alcançá-lo, mas reivindica todas as maneiras, ou em que falta uma condição de fabricação essencial para reproduzir os exemplos. A resposta geralmente consiste em uma combinação de argumentos (a etapa ausente é de conhecimento geral — comprovada por uma referência), dados que confirmam que o ensinamento divulgado funciona e, quando necessário, o estreitamento da reivindicação para o escopo habilitado.

## 3. Fundamento: Art. 36(6)(i)

O apoio questiona se o escopo da reivindicação é respaldado pela divulgação: se o especialista na área poderia reconhecer, a partir da descrição, que o problema é resolvido em toda a faixa reivindicada. Casos químicos e mecânicos com um ou dois exemplos e uma reivindicação ampla são os alvos habituais. Como a descrição não pode ser ampliada (matéria nova), as opções práticas são argumentar que o princípio divulgado se estende ao escopo reivindicado ou restringir a reivindicação em direção aos exemplos — tendo em mente que, após uma Notificação final, a restrição deve se qualificar como uma *restrição* *limitada* nos termos do Art. 17-2, § 5.

## 4. Clareza e concisão: Art. 36(6)(ii), (iii)

As objeções por falta de clareza são as que mais dependem da tradução. A reivindicação examinada é o texto em japonês; um termo traduzido por uma palavra japonesa com significado técnico diferente, uma expressão relativa sem padrão, ou a mesma característica traduzida de duas maneiras diferentes nas reivindicações e na descrição suscitará uma objeção com base no Art. 36(6)(ii). As soluções consistem em uma alteração consistente com a divulgação original ou — quando o texto original em língua estrangeira corroborar o significado pretendido — na apresentação de uma tradução corrigida acompanhada de uma declaração de motivos (誤訳訂正書, Art. 17-2(2)). As objeções relativas à concisão geralmente são eliminadas com a mesma alteração.

## 5. O requisito da Portaria Ministerial e as reivindicações múltiplas-múltiplas: Art. 36(6)(iv)

O item (iv) é o ponto-chave para a **restrição às reivindicações “multi-multi**”: desde 1º de abril de 2022, a portaria proíbe uma reivindicação dependente múltipla que se refira a outra reivindicação dependente múltipla, e o JPO não examina o mérito dessas reivindicações até que sejam corrigidas. A restrição se aplica a partir da *data de depósito internacional*; portanto, um pedido PCT depositado antes dessa data está isento, mesmo que tenha entrado no Japão posteriormente. A reestruturação é rotineira; os detalhes e a ferramenta de verificação gratuita do JPO estão disponíveis em nosso [guia sobre reivindicações “multi-multi](https://www.evorix.jp/pt/blog/multi-multi-claim-japan-entry)”.

## 6. Correções que se mantêm dentro dos limites de matéria nova

| Correção | Permitida? |
| --- | --- |
| Alterar reivindicações usando redação encontrada na descrição | Sim — a correção padrão |
| Definir um termo na reivindicação utilizando uma definição da descrição | Sim |
| Adicionar uma definição ou exemplo que não conste na divulgação original | Não — matéria nova (Art. 17-2(3)) |
| Corrija um erro de tradução quando o texto original corroborar o significado pretendido | Sim — por meio de tradução corrigida com justificativas |
| Apresentar dados experimentais | Sim, para confirmar um efeito divulgado ou a capacidade de execução; não para fornecer uma divulgação ausente |
| Restringir após uma Notificação final | Apenas como restrição limitada (mesmo campo, mesmo problema) ou exclusão de reivindicação — Art. 17-2(5) |

Para as regras de prazo e prorrogação que regem todas essas respostas para requerentes estrangeiros, consulte o [centro de informações sobre Notificações do Escritório](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-response); para os procedimentos de alteração, consulte o [guia sobre novos elementos e Notificações finais do Escritório](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-new-matter-final-oa-amendments).

## Perguntas frequentes

Qual é a diferença entre suporte e capacidade de execução no Japão?

O apoio (Art. 36(6)(i)) questiona se a invenção reivindicada está descrita na descrição detalhada — se o escopo da reivindicação é respaldado pela divulgação. A exequibilidade (Art. 36(4)(i)) questiona se a descrição detalhada é clara e suficiente para que um especialista na área possa realizar a invenção. Uma reivindicação ampla com exemplos restritos geralmente gera uma objeção de suporte; um processo insuficientemente explicado gera uma objeção de habilitação.

Posso apresentar dados experimentais para superar uma objeção relativa à descrição?

Os dados podem confirmar o que a descrição já ensina ou afirma e podem ajudar a demonstrar que o especialista na área poderia executar a invenção; eles não podem fornecer uma divulgação que esteja faltando, pois a própria descrição não pode ser alterada para acrescentar novos elementos (Art. 17-2(3)).

Por que as reivindicações traduzidas geram objeções de clareza com tanta frequência?

Porque a reivindicação examinada é o texto em japonês. Termos sem equivalente estabelecido em japonês, linguagem funcional e expressões relativas (“cerca de”, “substancialmente”) traduzidas sem um padrão definido são fatores comuns que desencadeiam essas objeções. Uma tradução corrigida (誤訳訂正書) está disponível quando o texto original em língua estrangeira corrobora o significado pretendido.

O que é o Art. 36, § 6, iv) e por que ele é invocado contra reivindicações multi-multi?

O item (iv) exige que as reivindicações sejam redigidas conforme prescrito pela portaria ministerial. Desde 1º de abril de 2022, a portaria proíbe reivindicações dependentes “multi-multi”; portanto, uma violação é notificada nos termos do Art. 36(6)(iv) — e tais reivindicações são excluídas do exame de mérito até que sejam corrigidas. Consulte nosso guia sobre reivindicações “multi-multi”.

Uma objeção por falta de concisão é grave?

Raramente por si só; geralmente acompanha uma objeção de clareza quando as reivindicações são repetitivas ou desnecessariamente longas. Normalmente é resolvida pela mesma alteração que resolve a objeção de clareza.

PARA ADVOGADOS ESTRANGEIROS E REQUERENTES

### Está enfrentando um prazo do JPO em um caso japonês?

Envie-nos a notificação do Escritório ou os detalhes do caso — a EVORIX cuida da entrada na fase nacional, da nomeação do administrador da patente e das respostas às notificações do Escritório para requerentes estrangeiros. Avaliação gratuita e orçamento fixo em 3 a 5 dias úteis.

[Serviços para advogados estrangeiros →](https://www.evorix.jp/en/foreign-counsel) [E-mail: contact@evorix.jp](mailto:contact@evorix.jp)

Artigos relacionados

- [Perdeu o prazo de 30 meses para o Japão? Restabelecimento da fase nacional do PCT sob o critério de “não intencionalidade” (desde abril de 2023)](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-pct-missed-30-month-deadline-restoration)
- [Rejeições por falta de atividade inventiva no Japão (Artigo 29(2)): como o examinador do JPO constrói o argumento — e como refutá-lo](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-inventive-step-article-29-2)
- [Novos elementos e notificações “finais” do escritório no Japão: limites de alteração nos termos do Artigo 17-2 — o que você ainda pode alterar](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-new-matter-final-oa-amendments)
- [Rejeições por “não ser uma invenção” no Japão (Artigo 29(1), parágrafo principal): software, métodos de negócios e o teste de recursos de hardware](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-eligibility-software-article-29-1)
- [Recebeu uma decisão de recusa do JPO? Suas três opções — recurso (3 meses + 60 dias para requerentes estrangeiros), reexame pré-recurso, pedido divisional](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-decision-of-refusal-next-steps-appeal-divisional)
- [Notificação do JPO para requerentes estrangeiros: prazo, prorrogações, opções e custos](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-response)
- [Entrada na fase nacional do PCT no Japão: prazo, restabelecimento, administrador de patentes, custos](https://www.evorix.jp/pt/blog/pct-national-phase-entry-japan)
- [Reivindicações “multi-multi” no Japão: quais pedidos são afetados](https://www.evorix.jp/pt/blog/multi-multi-claim-japan-entry)
- [Custos para a entrada na fase nacional no Japão](https://www.evorix.jp/en/blog/japan-national-phase-entry-cost)

Isenção de responsabilidade

Este artigo fornece informações gerais sobre a prática de patentes no Japão em setembro de 2026 e não constitui aconselhamento jurídico. Prazos, taxas e práticas de exame podem sofrer alterações, e o prazo para um caso específico depende dos documentos efetivamente emitidos. Consulte um advogado de patentes japonês qualificado sobre sua questão específica.

Fontes

- Lei de Patentes do Japão (texto em japonês) — [laws.e-gov.go.jp/law/334AC0000000121](https://laws.e-gov.go.jp/law/334AC0000000121)
- Regulamentos da Lei de Patentes, Art. 38-6-2 — [laws.e-gov.go.jp/law/335M50000400010](https://laws.e-gov.go.jp/law/335M50000400010)
- JPO: prorrogação dos prazos de resposta (prática a partir de 1º de abril de 2016) — [www.jpo.go.jp/system/patent/shinsa/letter/kyozetu\_entyou\_160401.html](https://www.jpo.go.jp/system/patent/shinsa/letter/kyozetu_entyou_160401.html)
- JPO: prorrogação após o vencimento dos prazos com base no critério de “falha involuntária” (atualizado em 18 de maio de 2026) — [www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/kyusai\_method2.html](https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/kyusai_method2.html)
- Manual de Exame de Formalidades do JPO 04.10 (PDF) — [www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/hoshiki-shinsa-binran/kaitei/document/index/h2904\_04\_10.pdf](https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/hoshiki-shinsa-binran/kaitei/document/index/h2904_04_10.pdf)
- Diretrizes de Exame do JPO, Parte III, Cap. 2, Seção 2 “Etapa Inventiva” (PDF) — [www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/tukujitu\_kijun/document/index/03\_0202bm.pdf](https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/tukujitu_kijun/document/index/03_0202bm.pdf)
- Diretrizes de Exame do JPO, Parte IV, Capítulo 2, “Alteração que Acrescenta Novo Conteúdo” (PDF) — [www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/tukujitu\_kijun/document/index/04\_0200bm.pdf](https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/tukujitu_kijun/document/index/04_0200bm.pdf)
- Diretrizes de Exame do JPO, Parte III, Cap. 1 “Elegibilidade para Patente” (PDF) — [www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/tukujitu\_kijun/document/index/03\_0100bm.pdf](https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/tukujitu_kijun/document/index/03_0100bm.pdf)
- Manual de Exame do JPO, Anexo B, Cap. 1 “Invenções Relacionadas a Software de Computador” (PDF) — [www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/handbook\_shinsa/document/index/app\_b1.pdf](https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/handbook_shinsa/document/index/app_b1.pdf)

## Publicações relacionadas

[![Rejeições por “não constituir invenção” no Japão (Artigo 29, parágrafo 1, trecho principal): software, métodos de negócios e o teste dos recursos de hardware](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-eligibility-software-article-29-1.png?height=200&name=face-japan-patent-eligibility-software-article-29-1.png)](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-eligibility-software-article-29-1)

## [Rejeições por “não constituir invenção” no Japão (Artigo 29, parágrafo 1, trecho principal): software, métodos de negócios e o teste dos recursos de hardware](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-eligibility-software-article-29-1)

![Imagem de Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

Uma notificação do Escritório de Patentes do Japão (JPO) afirmando que o objeto reivindicado “não...

[Leia mais](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-eligibility-software-article-29-1)

[![Entrada na fase nacional do PCT no Japão: prazo de 30 meses, restabelecimento em caso de atraso, norma do administrador de patentes, custos e cronograma (2026)](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/AI-Generated%20Media/Images/The%20image%20depicts%20a%20modern%20office%20setting%20with%20sleek%20minimalistic%20furniture%20A%20large%20glass%20window%20allows%20natural%20light%20to%20flood%20the%20space%20casting%20soft%20shadows%20on%20the%20polished%20wooden%20floor%20In%20the%20foreground%20a%20contemporary%20desk%20is%20adorned%20with%20a%20laptop.jpeg?height=200&name=The%20image%20depicts%20a%20modern%20office%20setting%20with%20sleek%20minimalistic%20furniture%20A%20large%20glass%20window%20allows%20natural%20light%20to%20flood%20the%20space%20casting%20soft%20shadows%20on%20the%20polished%20wooden%20floor%20In%20the%20foreground%20a%20contemporary%20desk%20is%20adorned%20with%20a%20laptop.jpeg)](https://www.evorix.jp/pt/blog/pct-national-phase-entry-japan)

## [Entrada na fase nacional do PCT no Japão: prazo de 30 meses, restabelecimento em caso de atraso, norma do administrador de patentes, custos e cronograma (2026)](https://www.evorix.jp/pt/blog/pct-national-phase-entry-japan)

![Imagem de 弁理士 杉浦健文](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/top-profile-pic-sugiura-1.jpg?width=50&name=top-profile-pic-sugiura-1.jpg) 弁理士 杉浦健文 

 2026/09/04

Para advogados estrangeiros especializados em propriedade intelectual que apresentam pedidos...

[Leia mais](https://www.evorix.jp/pt/blog/pct-national-phase-entry-japan)

[![Recebeu uma decisão de recusa do JPO? Suas três opções — recurso (3 meses + 60 dias para requerentes do exterior), reexame pré-recurso, pedido divisional](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-decision-of-refusal-next-steps-appeal-divisional.png?height=200&name=face-japan-patent-decision-of-refusal-next-steps-appeal-divisional.png)](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-decision-of-refusal-next-steps-appeal-divisional)

## [Recebeu uma decisão de recusa do JPO? Suas três opções — recurso (3 meses + 60 dias para requerentes do exterior), reexame pré-recurso, pedido divisional](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-decision-of-refusal-next-steps-appeal-divisional)

![Imagem de Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney](https://app.hubspot.com/settings/avatar/4ef5aa3d824852243e3f9a0ef7c7a511) Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney 

 2026/09/04

Uma Decisão de Recusa (拒絶査定) do Escritório de Patentes do Japão não significa o fim do processo,...

[Leia mais](https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-decision-of-refusal-next-steps-appeal-divisional)

---

[![知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登](https://www.evorix.jp/hs-fs/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png?width=500&height=250&name=%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png "知的財産事務所エボリクス/EVORIX/大阪/特許・商標・意匠登")](https://www.evorix.jp)

Intellectual Property Law Firm EVORIX

 

4th Floor, Qus-Hiranomachi Building,  
3-1-2 Hiranomachi, Chuo-Ku, Osaka-shi,  
Osaka 541-0046 Japan

Mail: [contact@evorix.jp](mailto:contact@evorix.jp)

TEL: +81-6-7777-1884

- [Hague International Design Application](https://www.evorix.jp/hague-design-application)
- [Madrid Protocol International Trademark Application](https://www.evorix.jp/madrid-protocol-trademark)
- [Amazon IP Infringement Support](https://www.evorix.jp/amazon-infringement)

- [About Us](https://www.evorix.jp/about)
- [Our Attorneys](https://www.evorix.jp/staff)
- [Services](https://www.evorix.jp/contents)
- [Consultation Process](https://www.evorix.jp/consultation)
- [Blog](https://www.evorix.jp/blog)
- [Careers](https://www.evorix.jp/recruit)
- [Trademark Portfolio](https://www.evorix.jp/trademark-list)
- [Privacy Policy](https://www.evorix.jp/hubfs/%E8%B3%87%E6%96%99/HP-%E3%83%97%E3%83%A9%E3%82%A4%E3%83%90%E3%82%B7%E3%83%BC%E3%83%9D%E3%83%AA%E3%82%B7%E3%83%BC.pdf)
- [Contact](https://www.evorix.jp/inquiry)

---

 

Copyright © 2026, Intellectual Property Law Firm EVORIX® All rights reserved. 

```json
{
  "@context" : "https://schema.org",
  "@type" : "BlogPosting",
  "author" : {
    "@type" : "Person",
    "name" : "Takefumi Sugiura – Japanese Patent Attorney",
    "url" : "https://www.evorix.jp/pt/blog/author/takefumi-sugiura-japanese-patent-attorney"
  },
  "dateModified" : "2026-09-04T03:42:11.224Z",
  "datePublished" : "2026-09-04T03:42:10.000Z",
  "headline" : "Rejeições por falta de fundamentação, clareza e admissibilidade no Japão (Artigo 36): Como resolver objeções relativas aos requisitos da descrição em um processo na fase nacional",
  "image" : [ "https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-office-action-description-requirements-article-36.png" ],
  "mainEntityOfPage" : {
    "@id" : "https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36",
    "@type" : "WebPage"
  },
  "publisher" : {
    "@type" : "Organization",
    "logo" : {
      "@type" : "ImageObject",
      "url" : "https://www.evorix.jp/hubfs/%E7%9F%A5%E7%9A%84%E8%B2%A1%E7%94%A3%E4%BA%8B%E5%8B%99%E6%89%80%E3%82%A8%E3%83%9C%E3%83%AA%E3%82%AF%E3%82%B9%20(500%20%C3%97%20250%20px).png"
    },
    "name" : "知的財産事務所エボリクス"
  }
}
```

```json
{
  "@context" : "https://schema.org",
  "@type" : "BlogPosting",
  "author" : {
    "@type" : "Person",
    "jobTitle" : "Patent Attorney (Benrishi)",
    "name" : "SUGIURA Takefumi",
    "url" : "https://www.evorix.jp/staff",
    "worksFor" : {
      "@type" : "Organization",
      "name" : "EVORIX IP Firm"
    }
  },
  "dateModified" : "2026-09-04",
  "datePublished" : "2026-09-04",
  "description" : "Objeções ao artigo 36 — capacidade de execução (36(4)(i)), fundamentação (36(6)(i)), clareza (36(6)(ii)), concisão (36(6)(iii)) e a exigência da portaria ministerial que agora estabelece a proibição de reivindicações “multi-multi” (art. 36, § 6, inciso iv)) — são frequentes em processos de PCT traduzidos. O que cada exigência requer, por que as traduções as acionam e quais correções se mantêm dentro dos limites de matéria nova.",
  "headline" : "Rejeições por falta de fundamentação, clareza e admissibilidade no Japão (Artigo 36): Como resolver objeções relativas aos requisitos da descrição em um processo na fase nacional",
  "image" : [ {
    "@type" : "ImageObject",
    "url" : "https://www.evorix.jp/hubfs/blog-thumbnails/face-japan-patent-office-action-description-requirements-article-36.png"
  } ],
  "inLanguage" : "pt",
  "mainEntityOfPage" : {
    "@id" : "https://www.evorix.jp/pt/blog/japan-patent-office-action-description-requirements-article-36",
    "@type" : "WebPage"
  },
  "publisher" : {
    "@type" : "Organization",
    "name" : "EVORIX IP Firm",
    "url" : "https://www.evorix.jp"
  }
}
```

```json
{
  "@context" : "https://schema.org",
  "@type" : "FAQPage",
  "mainEntity" : [ {
    "@type" : "Question",
    "acceptedAnswer" : {
      "@type" : "Answer",
      "text" : "A exigência de apoio (Art. 36(6)(i)) verifica se a invenção reivindicada está descrita na descrição detalhada — se o escopo da reivindicação é respaldado pela divulgação. A exigência de capacitação (Art. 36(4)(i)) verifica se a descrição detalhada é clara e suficiente para que um especialista na área possa realizar a invenção. Uma reivindicação ampla com exemplos restritos normalmente suscita uma objeção de apoio; um processo insuficientemente explicado suscita uma objeção de capacidade de execução."
    },
    "name" : "Qual é a diferença entre “suporte” e “capacitação” no Japão?"
  }, {
    "@type" : "Question",
    "acceptedAnswer" : {
      "@type" : "Answer",
      "text" : "Os dados podem confirmar o que a descrição já ensina ou afirma e podem ajudar a demonstrar que o especialista na matéria seria capaz de realizar a invenção; eles não podem fornecer uma divulgação que esteja faltando, pois a própria descrição não pode ser alterada para acrescentar novos elementos (Art. 17-2, § 3)."
    },
    "name" : "Posso apresentar dados experimentais para rebater uma objeção à descrição?"
  }, {
    "@type" : "Question",
    "acceptedAnswer" : {
      "@type" : "Answer",
      "text" : "Como a reivindicação analisada é o texto em japonês, termos sem equivalente estabelecido em japonês, linguagem funcional e expressões relativas (“cerca de”, “substancialmente”) traduzidas sem um padrão definido são fatores que frequentemente geram problemas. Uma tradução corrigida (誤訳訂正書) está disponível quando o texto original em língua estrangeira corrobora o significado pretendido."
    },
    "name" : "Por que as reivindicações traduzidas costumam gerar objeções relacionadas à clareza com tanta frequência?"
  }, {
    "@type" : "Question",
    "acceptedAnswer" : {
      "@type" : "Answer",
      "text" : "O item (iv) exige que as reivindicações sejam redigidas conforme prescrito pela portaria ministerial. Desde 1º de abril de 2022, a portaria proíbe reivindicações com múltiplas dependências, de modo que qualquer violação é notificada nos termos do Art. 36(6)(iv) — e tais reivindicações são excluídas do exame de mérito até que sejam corrigidas. Consulte nosso guia sobre reivindicações múltiplas-múltiplas."
    },
    "name" : "O que é o Art. 36, § 6, iv) e por que ele é invocado contra reivindicações “multi-multi”?"
  }, {
    "@type" : "Question",
    "acceptedAnswer" : {
      "@type" : "Answer",
      "text" : "Raramente ocorre isoladamente; geralmente acompanha uma objeção de clareza, nos casos em que as reivindicações são repetitivas ou desnecessariamente longas. Normalmente, é resolvida pela mesma alteração que resolve a questão da clareza."
    },
    "name" : "Uma objeção baseada na concisão é séria?"
  } ]
}
```